太倉鋁型材硬質(zhì)氧化廠

硬質(zhì)氧化全稱是硬質(zhì)陽極氧化處理。硬質(zhì)陽極氧化膜一般要求厚度為25-150um，大部分硬質(zhì)陽極氧化膜的厚度為50-80um，膜厚小于25um的硬質(zhì)陽極氧化膜，用于齒鍵和螺線等使用場合的零部件，耐磨或絕緣用的陽極氧化膜厚度約為50um，在某些特殊工藝條件下，要求生產(chǎn)厚度為125um以上的硬質(zhì)陽極氧化膜，但是必須注意陽極氧化膜越厚，其外層的顯微硬度可以越低，膜層表面的粗糙度增加。硬質(zhì)陽極氧化的槽液，一般是硫酸溶液以及硫酸添加有機酸，如草酸、氨基磺酸等。另外，可通過降低陽極氧化溫度或降低硫酸濃度來實現(xiàn)硬質(zhì)陽極氧化處理。對于銅含量大于5%或硅含量大于8%的變形鋁合金，或者高硅的壓鑄造鋁合金，也許還應(yīng)考慮增加一些陽極氧化的特殊措施。例如：對于2XXX系鋁合金，為了避免鋁合金在陽極氧化過程中被燒損，可采用385g/L的硫酸加上15g/L草酸作為電解槽液，電流密度也應(yīng)該提高到2.5A/dm以上。在打樣的產(chǎn)品時就可以看出一個硬質(zhì)氧化廠的加工水平與配合度。太倉鋁型材硬質(zhì)氧化廠

零件硬質(zhì)陽極氧化表面出現(xiàn)白斑的原因：一、腐蝕產(chǎn)物形貌與成分分析。對螺紋深孔底端的內(nèi)表面進一步觀察分析，深孔內(nèi)部鉻酸硬質(zhì)氧化膜層出現(xiàn)明顯的腐蝕現(xiàn)象，主要的腐蝕模式為點蝕，腐蝕坑洞直徑多在10um以內(nèi)。點蝕坑內(nèi)部及其周圍發(fā)現(xiàn)大量的腐蝕產(chǎn)物：同時，在螺紋深孔底端的內(nèi)表面存在片狀的腐蝕產(chǎn)物脫落及典型的龜裂狀“泥紋花樣”。腐蝕產(chǎn)物的EDAX檢測結(jié)果表明：其中的化學(xué)元素包括少量的外來元素氯和硫。二、膜層形貌與成分分析。利用掃描電子顯微鏡及X射線能譜儀對鋁合金連接座零件表面的鉻酸硬質(zhì)氧化膜層進行深入分析。在無白斑出現(xiàn)的區(qū)域?qū)Ρ砻孢M行觀察，發(fā)現(xiàn)鉻酸硬質(zhì)氧化膜正常區(qū)域的膜層宏觀表面非常致密，并無異常的宏觀孔洞缺陷，其SEM形貌及EDAX成分分析結(jié)果。外觀件硬質(zhì)氧化加工注意鋁硬質(zhì)氧化一定不要先放硫酸再放水。

因硬質(zhì)陽極氧化的零件在氧化過程中，要承受很高的電壓和較高的電流，硬質(zhì)氧化廠家提示一定要使夾具和零件能保持極良好的接觸，否則將因接觸不良而造成擊穿或燒傷零件接觸部位的毛病。所以要求對不同形狀的零件，以及零件氧化后的具體要求來設(shè)計和制造夾具。如在同一個零件上，既有普通陽極氧化又要有硬質(zhì)陽極氧化的部位因根據(jù)零件的光潔度和精密度來安排具體工序。通常先進行普通的陽極氧化，在進行硬質(zhì)陽極氧化，把不需要進行硬質(zhì)陽極氧化的表面加以絕緣，絕緣的方法有用噴槍或毛刷，將以配制好硝基膠或過氫乙烯膠涂抹于不需要處理的表面，絕緣層要涂的薄而均勻，每涂一層應(yīng)在低溫下干燥30～60分鐘共涂2～4層即可。

常溫鋁硬質(zhì)陽極氧化又叫普通氧化，膜厚一般在5-15微米，硬度200-400HV。低溫氧化一般用于硬質(zhì)氧化，硬質(zhì)氧化的特點。1：色澤膜層呈灰.褐.墨綠至黑色，與材料成分和工藝有關(guān)，而且溫度愈低，膜層愈厚色澤愈深。2：硬度氧化膜硬度極高，在純鋁上HV=1200-1500，在合金鋁上硬度明顯降低。HV=400-800.由于微孔可吸附潤滑劑，故可提高耐磨能力。3：厚度膜層較高可達(dá)到250微米，所以又稱為厚膜氧化。4：腐蝕具有極高的耐腐蝕能力，尤其在工業(yè)大氣和海洋性氣候中有好的耐腐蝕性能。5：絕緣與絕熱性硬質(zhì)膜電阻大，膜層100微米，可耐2000伏以上，熔點達(dá)2050攝氏度，導(dǎo)熱系數(shù)低至67KW/(M.K),是極好的耐熱材料。6：結(jié)合力與機體結(jié)合十分強固。由于鋁硬質(zhì)陽極氧化的特性，故應(yīng)用的地方很多。主要用于耐熱，耐磨，絕緣性能要求很高的鋁制零件，如活塞，汽缸，軸承，水電設(shè)備葉輪等。鋁合金硬質(zhì)氧化膜因其具有的特點而受到普遍的重視。

硬質(zhì)陽極氧化和普通陽極氧化的區(qū)別：硬質(zhì)氧化的氧化膜有50%滲透在鋁合金內(nèi)部，50%附著在鋁合金表面，因此硬質(zhì)氧化后產(chǎn)品外部尺寸變大，內(nèi)孔變小。一、操作條件方面的差異：1、溫度不同：普通氧化18-22℃左右，有添加劑的可以到30℃，溫度過高易出現(xiàn)粉末或裂紋；硬質(zhì)氧化一般在5℃以下，相對來說溫度越低硬質(zhì)越高。2、濃度差異：普通氧化一般20%左右；硬質(zhì)氧化一般在15%或更低。3、電流/電壓差異：普通氧化電流密度一般：1-1.5A/dm2；而硬質(zhì)氧化：1.5-5A/dm2；普通氧化電壓≤18V，硬質(zhì)氧化有時高達(dá)120V。二、膜層性能方面的差異：1、膜層厚度：普通氧化膜層厚度相對較?。挥操|(zhì)氧化一般膜層厚度>15μm，過低達(dá)不到硬度≥300HV的要求。2、表面狀態(tài)：普通氧化表面較光滑，而硬質(zhì)氧化表面較粗糙（微觀，和基體表面粗糙度有關(guān)）。3、孔隙率不同：普通氧化孔隙率高；而硬質(zhì)氧化孔隙率低。4、普通氧化基本是透明膜；硬質(zhì)氧化由于膜厚，為不透明膜。5、適用場合不同：普通氧化適用于裝飾為主；而硬質(zhì)氧化以功能為主，一般用于耐磨、耐電的場合。低溫氧化一般用于硬質(zhì)氧化。常州外觀件硬質(zhì)氧化生產(chǎn)

高效的硬質(zhì)氧化改性與涂層技術(shù)其范圍廣闊。太倉鋁型材硬質(zhì)氧化廠

新型硬質(zhì)氧化功能覆層技術(shù)，包括低溫化學(xué)硬質(zhì)氧化涂層技術(shù)及超深層鋁合金硬質(zhì)氧化改性技術(shù)，它運用物理、化學(xué)或物理化學(xué)等技術(shù)手段來改變“材料及其鋁合金硬質(zhì)氧化成份和組織結(jié)構(gòu)”，其特點是保持基體材料固有的特征，又賦予硬質(zhì)氧化所要求的各種性能，從而適應(yīng)各種技術(shù)和服役環(huán)境對材料的特殊要求，因而它是制造和材料學(xué)科活躍的技術(shù)領(lǐng)域，又是涉及硬質(zhì)氧化處理與涂層技術(shù)的交叉學(xué)科。其優(yōu)勢在于能以極少的材料和能源消耗制備出基體材料難以甚至無法獲得的性能優(yōu)異的硬質(zhì)氧化薄層，從而獲得經(jīng)濟效益，它是一種好高效的硬質(zhì)氧化改性與涂層技術(shù)。高效的硬質(zhì)氧化改性與涂層技術(shù)其范圍廣闊：如熱化學(xué)硬質(zhì)氧化技術(shù);物理的沉積;化學(xué)氣相沉積;物理化學(xué)氣相沉積技術(shù);高能等離體硬質(zhì)氧化涂層技術(shù);金剛石薄膜涂層;多元多層復(fù)合涂層技術(shù);硬質(zhì)氧化改性及涂層性能預(yù)測及剪栽技術(shù);性能測試與壽命評估等。太倉鋁型材硬質(zhì)氧化廠

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