手動(dòng)閘閥角控制閥

微泰，蝶閥應(yīng)用于? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過(guò)MW-PACVD生長(zhǎng)金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對(duì)卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴(kuò)散）?CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上?？商娲鶹AT閘閥。微泰蝶閥其特點(diǎn)是? 主體材料：鋁或不銹鋼? 緊湊型設(shè)計(jì)? 高性能集成控制器? 使用維修零件套件輕松維護(hù)? 應(yīng)用：半導(dǎo)體和工業(yè)過(guò)程的壓力控制。蝶閥規(guī)格如下：法蘭尺寸(內(nèi)徑)：DN40、DN50、饋通：旋轉(zhuǎn)饋通、閥門(mén)密封：FKM（VITON）、執(zhí)行器：步進(jìn)電機(jī)、壓力范圍：1×10-8 mbar to 1200 mbar 、開(kāi)啟壓差：≤ 30 mbar、開(kāi)啟壓差≤30mbar、氦泄漏率1X10 -9Mbar/秒、維護(hù)前可用次數(shù)：250,000次、閥體溫度≤ 150 °、控制器≤ 35 °C、材料：閥體STS304/機(jī)制STS304、安裝位置：任意、接口：RS232、RS485、Devicenet、Profibus、EtherCat。有中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī)，上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰?。真空閘閥廣泛應(yīng)用于各個(gè)行業(yè)，包括半導(dǎo)體制造、研發(fā)、分析類(lèi)儀器和真空鍍膜。手動(dòng)閘閥角控制閥

微泰，定制大型轉(zhuǎn)移閥，定制大型輸送閥，?應(yīng)用：大型涂層系統(tǒng)。定制大型轉(zhuǎn)移閥，定制大型輸送閥規(guī)格如下：驅(qū)動(dòng)方式：氣動(dòng)、法蘭尺寸：（內(nèi)徑）80×500、（內(nèi)徑）100×400、（內(nèi)徑）200×1800、（內(nèi)徑）650×1050等法蘭類(lèi)型：定制、饋通焊接波紋管/O形密封圈、閥門(mén)密封：氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM、閥蓋密封：氟橡膠O型圈、響應(yīng)時(shí)間：≤ 2 sec、操作壓力范圍：1×10-10 mbar to 1400 mbar 、開(kāi)始時(shí)的壓差：≤ 30 mbar、閘門(mén)上的壓差≤1000 mbar、泄漏率：泄漏率< 5×10 -9 Mbar/秒、維護(hù)前可用次數(shù)：10,000 ~ 200,000次、閥體溫度≤ 200 °、機(jī)構(gòu)溫度≤ 80 °C、烤爐溫度≤ 150 °C、材料：材料：不銹鋼304、A5083~A7075、安裝位置：任意、操作壓力(N2)：6 ~ 8 bar。有中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī)，上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰?。多位閘閥楔式閘閥真空閘閥的密封裝置確保關(guān)閉時(shí)的高真空完整性，防止泄漏并維持腔室內(nèi)的真空壓力。

微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥，晶圓輸送閥Transfer Valve，傳輸閥、轉(zhuǎn)換閥、輸送閥、轉(zhuǎn)移閥是安裝在半導(dǎo)體PVDCVD設(shè)備工藝模塊和工藝室之間的閥門(mén)系統(tǒng)。I型輸送閥，-閘門(mén)動(dòng)作時(shí)無(wú)震動(dòng)或沖擊-通過(guò)饋通波紋管Feedthrough bellows防止閥體污染，確保高耐用性-采用LM導(dǎo)軌和單鏈路（LM-guide&Single Link）結(jié)構(gòu)/小齒輪驅(qū)動(dòng)方式，使其具有簡(jiǎn)單的運(yùn)動(dòng)、耐用性和高精度。I型輸送閥有爪式（Jaw type）和夾式（Clamp type）。微泰晶圓輸送閥Transfer Valve，傳輸閥、轉(zhuǎn)換閥、輸送閥、轉(zhuǎn)移閥Butterfly Valve有中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī)。

微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥Heating gate valve，加熱插板閥，加熱閘閥，加熱器的加熱溫度為180-200度（可通過(guò)控制器設(shè)置溫度）-規(guī)格：適用雙金屬（達(dá)到200度時(shí)，斷電后溫度下降后重新啟動(dòng)），應(yīng)用于去除粉末/氣體設(shè)備。微泰，加熱閘閥應(yīng)用于? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD? PECV? PVD? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴(kuò)散）?CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上。加熱閘閥規(guī)格如下：驅(qū)動(dòng)方式：手動(dòng)或氣動(dòng)、法蘭尺寸：1.5英寸~ 12英寸、法蘭類(lèi)型：ISO、JIS、ASA、CF、連接方式：焊接波紋管、閥門(mén)密封：氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM、閥蓋密封：氟橡膠O型圈、響應(yīng)時(shí)間：≤ 2 sec、操作壓力范圍：1.5? ~ 6? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar，8? ~ 12? : 1×10-10 mbar to 1200 mbar 、開(kāi)始時(shí)的壓差：≤ 30 mbar、閘門(mén)的差動(dòng)壓力：1.5? ~ 6? : ≤ 1400 mbar / 8? ~ 12 ≤ 1200 mbar、泄漏率：< 1×10 -10 Mbar/秒、維護(hù)前可用次數(shù)：200,000次、、安裝位置：任意、操作壓力(N2)：4 ~ 7 bar。有中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī)。微泰高壓閘閥的特點(diǎn)是*陶瓷球機(jī)構(gòu)產(chǎn)生的低顆粒*使用維修配件工具包易于維護(hù)*應(yīng)用:隔離泵。

微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥，這里介紹一下閥門(mén)控制器-主控制器（Valve Controller Introduction）1英寸和2英寸 / 3英寸和4英寸-本地控制器1英寸和2英寸 / 3英寸和4英寸 -遙控器1英寸和2英寸 / 3英寸和4英寸。1，開(kāi)放/關(guān)閉速度LCD顯示；2，當(dāng)閥門(mén)或泵錯(cuò)誤時(shí)，燈點(diǎn)亮：3，自動(dòng)關(guān)閉功能-防止泵跳閘中的逆流；4，有閥門(mén)開(kāi)關(guān)位置的信號(hào)輸出信號(hào)；5，鎖定功能-本地/遙控器在解鎖后進(jìn)行快速操作；6，無(wú)噪音，功耗低；7，歷史管理-打開(kāi)/關(guān)閉/泵關(guān)閉等；8，UPS功能（1秒），微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥，有中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī)，可替代HVA閘閥、VAT閘閥。當(dāng)真空閥打開(kāi)時(shí)，閘門(mén)移出流路，使氣體以高電導(dǎo)率通過(guò)。屏蔽閘閥Global Foundries

介質(zhì)可向兩側(cè)任意方向流動(dòng)，易于安裝。閘閥通道兩側(cè)是對(duì)稱(chēng)的。手動(dòng)閘閥角控制閥

微泰半導(dǎo)體閘閥具有獨(dú)特的三重保護(hù)保護(hù)環(huán)機(jī)能：采用鋁質(zhì)材料，減輕重量的同時(shí)提高保護(hù)環(huán)內(nèi)部粗糙度，有效防止工程副產(chǎn)物的堆積黏附；通過(guò)提升保護(hù)環(huán)內(nèi)部流速設(shè)計(jì)，且保護(hù)環(huán)逐步收窄，進(jìn)一步提升流速，防止粉塵黏附；采用三元系 O 型圈，確保保護(hù)環(huán)驅(qū)動(dòng)穩(wěn)定，可保證 30 萬(wàn)次驅(qū)動(dòng)。該閘閥被廣泛應(yīng)用于 Evaporation（蒸發(fā)）、Sputtering（濺射）、Diamond growth by MW-PACVD（通過(guò) MW-PACVD 生長(zhǎng)金剛石）、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對(duì)卷）、Coating（涂層）、Etch（蝕刻）、Diffusion（擴(kuò)散）、CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上，能夠替代 HVA 閘閥、VAT 閘閥。此閘閥由上海安宇泰環(huán)保科技有限公司提供。手動(dòng)閘閥角控制閥