三防閘閥法蘭閘閥

來源: 發(fā)布時間:2024-10-03

微泰,加熱閘閥應用于? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)? Coating? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴散)?CVD(化學氣相沉積)等設備上??商娲鶹AT閘閥。其特點是*使用加熱套或內部加熱器加熱*加熱控制器*應用:去除粉末/氣體設備。加熱閘閥規(guī)格如下:驅動方式:手動或氣動、法蘭尺寸:1.5英寸~ 12英寸、法蘭類型:ISO、JIS、ASA、CF、連接方式:焊接波紋管、閥門密封:氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM、閥蓋密封:氟橡膠O型圈、響應時間:≤ 2 sec、操作壓力范圍:1.5? ~ 6? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar,8? ~ 12? : 1×10-10 mbar to 1200 mbar 、開始時的壓差:≤ 30 mbar、閘門的差動壓力:1.5? ~ 6? : ≤ 1400 mbar / 8? ~ 12 ≤ 1200 mbar、泄漏率:< 1×10 -10 Mbar/秒、維護前可用次數(shù):200,000次、閥體溫度≤ 200 °、機構溫度≤ 80 °C、烤爐溫度≤ 200 °C、材料:閥體(不銹鋼304)/驅動器(鋁6061陽極氧化)、安裝位置:任意、操作壓力(N2):4 ~ 7 bar。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業(yè)績。閘閥形體簡單,結構長度短,制造工藝性好,適用范圍廣。三防閘閥法蘭閘閥

閘閥

微泰半導體主加工設備腔內精確壓力控制的閘閥,應用于? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴散)?CVD(化學氣相沉積)等設備上。這節(jié)介紹加熱閘閥、加熱式閘閥護套、加熱器插入式閥門。帶加熱器閘閥,加熱器插入閘閥:產品范圍:2~12英寸?高壓/超高壓都可用?維護前可用次數(shù):20萬次?響應時間:0.2秒~3秒;客戶指定法蘭,加熱溫度:450℃;蝶形閥;蝶閥:產品范圍:DN40、DN50隔離?泄漏率:1.0E-9mbar·l/秒;有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業(yè)績,可替代HVA閘閥、VAT閘閥。上海安宇泰環(huán)保科技有限公司Diffusion閘閥插板閥閘閥按閘板結構形式分為單閘板和雙閘板兩種。

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微泰,傳輸閥、轉換閥、輸送閥、轉移閥是安裝在半導體PVDCVD設備工藝模塊和工藝室之間的閥門系統(tǒng)。它充當將位于工藝模塊中的晶圓轉移到工藝室的溝槽。此外,它極大限度地減少了由于閘板打開和關閉造成的真空壓力變化,使腔室內的真空壓力得以維持。負責門控半導體晶圓轉移的傳輸閥、轉換閥、輸送閥、轉移閥分為兩種類型:I型和L型? Product Range : 32 x 222 / 46 x 236 ,50 x 336 / 56 x 500 ,? Cycles of first service : 1,000,000 ? Response Time : 2sec ? Customer Specified Flanges ,轉移閥產品由鋁或不銹鋼制成,用于傳輸晶圓小于450毫米的半導體系統(tǒng)和隔離工藝室。本型的特點是葉片在垂直方向上快速移動,確保完美的腔室壓力維持。它采用具有LM導向系統(tǒng)和單連桿的內部機構,保證高耐用性和長壽命。二、L型轉移閥。L型轉移閥產品由鋁或不銹鋼制造,其特點是設計緊湊,易于維護。I型和L型轉移閥在在閘門開啟和關閉過程中極大限度地減少了振動,并且對溫度變化非常穩(wěn)定,確保了較長的使用壽命。此外,即使長時間使用柵極,它們產生的顆粒也很少,從而避免了晶圓缺陷或主器件的污染。微泰不斷創(chuàng)新,在開發(fā)先進的壓力控制和控制閥制造專業(yè)從事真空閘閥不懈努力。

微泰半導體主加工設備腔內精確壓力控制的閘閥,這里介紹一下閥門控制器-主控制器(Valve Controller Introduction)1英寸和2英寸 / 3英寸和4英寸-本地控制器1英寸和2英寸 / 3英寸和4英寸 -遙控器1英寸和2英寸 / 3英寸和4英寸。1,開放/關閉速度LCD顯示;2,當閥門或泵錯誤時,燈點亮:3,自動關閉功能-防止泵跳閘中的逆流;4,有閥門開關位置的信號輸出信號;5,鎖定功能-本地/遙控器在解鎖后進行快速操作;6,無噪音,功耗低;7,歷史管理-打開/關閉/泵關閉等;8,UPS功能(1秒),微泰半導體主加工設備腔內精確壓力控制的閘閥,有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業(yè)績,可替代HVA閘閥、VAT閘閥。真空閘閥的設計具有獨特的特征。它們具有堅固的結構,通常使用不銹鋼或鋁等材料來抵抗真空條件。

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微泰高壓閘閥可以應用于多種設備,如蒸發(fā)、濺射、金剛石生長、PECV、PVD集群、卷對卷、涂層、蝕刻、擴散和CVD等。它具有陶瓷球機構產生的低顆粒和易于維護等特點,可替代VAT閘閥。該閥門的規(guī)格包括手動或氣動驅動方式、1.5英寸至14英寸的法蘭尺寸、CF法蘭類型、焊接波紋管連接方式、氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM閥門密封、氟橡膠O型圈閥蓋密封、≤2秒響應時間、1.5?至6?的操作壓力范圍為1×10-10 mbar至1400 mbar,8?至14?的操作壓力范圍為1×10-10 mbar至1200 mbar、≤30 mbar的開始時壓差、≤1400 mbar的6?以下閘門差動壓力和≤1200 mbar的8?至14?閘門差動壓力、<1×10 -10 Mbar/秒的泄漏率、250,000次維護前可用次數(shù)、閥體溫度≤200°、機構溫度≤80°C、烤爐溫度≤150°C、閥體不銹鋼304或316L和驅動器鋁6061陽極氧化、任意安裝位置和4至7 bar的N2操作壓力。此外,微泰高壓閘閥已在中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其他設備上得到應用。如果您需要了解更多關于微泰高壓閘閥的信息,請聯(lián)系上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰?。閘閥(gate valve)是一個啟閉件閘板,閘板的運動方向與流體方向相垂直,閘閥只能作全開和全關。超真空閘閥

真空閘閥是真空系統(tǒng)中用于控制氣體進出真空室的機械裝置。三防閘閥法蘭閘閥

微泰半導體閘閥具有諸多特點:首先,它已向中國臺灣的 Micron、UMC、AKT 等,新加坡的 Micron、Global Foundries,馬來西亞的英菲尼亞半導體,日本的 Micron、三星半導體等眾多設備廠批量供貨,且品質得到認可,同時完成了對半導體 Utility 設備和批量生產設備的驗證。其次,該閘閥采用陶瓷球機構,具有良好的抗沖擊和震動性能,保證可使用 25 萬次,且檢修方便,維護成本較低。它無 Particle 產生,采用陶瓷球不會有腐蝕和顆粒產生。此外,它還具有屏蔽保護功能,閘閥閥體與擋板之間的距離小于 1mm,能有效防止粉末侵入閥內,壽命為半永久性。其保護環(huán)設計也很獨特,Protecrion Ring 通過流速上升設計防止粉末凝固,并通過打磨(研磨)工藝防止粉末堆積。微泰半導體閘閥被廣泛應用于 Evaporation(蒸發(fā))、Sputtering(濺射)、Diamond growth by MW-PACVD(通過 MW-PACVD 生長金剛石)、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)、Coating(涂層)、Etch(蝕刻)、Diffusion(擴散)、CVD(化學氣相沉積)等設備上,可替代 HVA 閘閥、VA T閘閥。該閘閥由上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰咎峁H篱l閥法蘭閘閥