全真空閘閥手動(dòng)閥

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2024-09-28

微泰,超高壓閘閥應(yīng)用于? Evaporation? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過(guò)MW-PACVD生長(zhǎng)金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對(duì)卷)? Coating(涂層)? 蝕刻? Diffusion?CVD等設(shè)備上。期特點(diǎn)是*陶瓷球機(jī)構(gòu)產(chǎn)生的低顆粒*使用維修配件工具包易于維護(hù)*應(yīng)用:研發(fā)和工業(yè)中的UHV隔離。高壓閘閥規(guī)格如下:驅(qū)動(dòng)方式:手動(dòng)或氣動(dòng)、法蘭尺寸:1.5英寸~ 12英寸、法蘭類(lèi)型:CF、連接方式:焊接波紋管(AM350或STS316L)、閥門(mén)密封:氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM、閥蓋密封:銅墊圈、響應(yīng)時(shí)間:≤ 2 sec、操作壓力范圍:1.5? ~ 6? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar,8? ~ 14? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar 、開(kāi)始時(shí)的壓差:≤ 30 mbar、閘門(mén)的差動(dòng)壓力:1.5? ~ 6? : ≤ 1400 mbar / 8? ~ 14? ≤ 1200 mbar、泄漏率:< 1×10 -10 Mbar/秒、初次維護(hù)前可用次數(shù):200,000次、閥體溫度≤ 200 °、CTemperature for Actuator≤ 150 °C、烤爐溫度≤ 200 °C、材料:閥體(不銹鋼304或316L)/驅(qū)動(dòng)器(鋁6061陽(yáng)極氧化)、安裝位置:任意、操作壓力(N2):4 ~ 7 bar。有中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī)。在機(jī)組的給水、主汽、凝結(jié)水、抽汽、空氣、循環(huán)冷卻水、軸冷水等系統(tǒng)中,均安裝有許多閘閥。全真空閘閥手動(dòng)閥

閘閥

微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥,多定位閘閥。多定位閘閥是一種利用壓縮空氣或氮?dú)饪刂崎l閥位置的閥門(mén)。它在閥門(mén)的頂部有一個(gè)內(nèi)置控制器,可以在本地和遠(yuǎn)程模式下操作。它還具有緊急關(guān)閉功能,以應(yīng)對(duì)泵停止或CDA壓縮干空氣丟失的情況。其特點(diǎn)之一是能夠遠(yuǎn)程檢查閥門(mén)狀態(tài),并可用于具有不同法蘭類(lèi)型的各種工藝。多定位閘閥具有可隔離的閘閥,以滑動(dòng)方式操作,適用于需要壓力控制的所有加工領(lǐng)域。采用手動(dòng)調(diào)節(jié)控制裝置控制,用戶(hù)可直接控制閘門(mén)的開(kāi)啟和關(guān)閉,以調(diào)節(jié)壓力。微泰半導(dǎo)體多定位閘閥被廣泛應(yīng)用于 Evaporation(蒸發(fā))、Sputtering(濺射)、Diamond growth by MW-PACVD(通過(guò) MW-PACVD 生長(zhǎng)金剛石)、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對(duì)卷)、Coating(涂層)、Etch(蝕刻)、Diffusion(擴(kuò)散)、CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上,可替代 HVA 閘閥、VA T閘閥。有中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī)。該閘閥由上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰咎峁AT閘閥ALUMINUM GATE VALVE真空閘閥是真空系統(tǒng)中用于控制氣體進(jìn)出真空室的機(jī)械裝置。

全真空閘閥手動(dòng)閥,閘閥

微泰半導(dǎo)體閘閥與其他類(lèi)型閘閥相比,具有以下一些優(yōu)勢(shì):1. 高精度控制:能更精確地調(diào)節(jié)流體流量。2. 適應(yīng)半導(dǎo)體環(huán)境:對(duì)溫度、真空等條件有更好的適應(yīng)性。3. 低顆粒產(chǎn)生:減少對(duì)晶圓等的污染。4. 長(zhǎng)壽命和可靠性:確保穩(wěn)定運(yùn)行,減少維護(hù)成本。5. 多功能應(yīng)用:可適用于多種半導(dǎo)體工藝設(shè)備。微泰半導(dǎo)體閘閥被廣泛應(yīng)用于 Evaporation(蒸發(fā))、Sputtering(濺射)、Diamond growth by MW-PACVD(通過(guò) MW-PACVD 生長(zhǎng)金剛石)、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對(duì)卷)、Coating(涂層)、Etch(蝕刻)、Diffusion(擴(kuò)散)、CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上,可替代 HVA 閘閥、VA T閘閥。該閘閥由上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰咎峁?。

微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥,控制系統(tǒng)閘閥,控制閘閥、控制系統(tǒng)插板閥、控制系統(tǒng)閘閥具有可隔離的閘閥,以滑動(dòng)方式操作,可以在高真空環(huán)境中實(shí)現(xiàn)精確的壓力控制。如半導(dǎo)體等高真空工藝應(yīng)用??刂葡到y(tǒng)閘閥是自動(dòng)控制到用戶(hù)指定的值,通過(guò)控制器和步進(jìn)電機(jī)保持一致的真空壓力。微泰半導(dǎo)體閘閥被廣泛應(yīng)用于 Evaporation(蒸發(fā))、Sputtering(濺射)、Diamond growth by MW-PACVD(通過(guò) MW-PACVD 生長(zhǎng)金剛石)、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對(duì)卷)、Coating(涂層)、Etch(蝕刻)、Diffusion(擴(kuò)散)、CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上,可替代 HVA 閘閥、VA T閘閥。有中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī)。該閘閥由上海安宇泰環(huán)保科技有限公司提供。真空閘閥由一個(gè)滑動(dòng)門(mén)或板組成,可以移動(dòng)以阻止或允許通過(guò)真空閥體,從而有效地將腔室與外部環(huán)境隔離。

全真空閘閥手動(dòng)閥,閘閥

微泰,大閘閥、大型閘閥應(yīng)用于? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過(guò)MW-PACVD生長(zhǎng)金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對(duì)卷)? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴(kuò)散)?CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上??商娲鶹AT閘閥。微泰大閘閥、大型閘閥其特點(diǎn)是*陶瓷球機(jī)構(gòu)產(chǎn)生的低顆粒*使用維修配件工具包易于維護(hù)*應(yīng)用:用于研發(fā)和工業(yè)的隔離閥。大閘閥、大型閘閥規(guī)格如下:驅(qū)動(dòng)方式:氣動(dòng)、法蘭尺寸(內(nèi)徑):16? ~ 30?、 法蘭型:ISO、JIS、ASA 、饋通:Viton O-Rin、閥門(mén)密封:氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM、閥蓋密封:氟橡膠O型圈、響應(yīng)時(shí)間:可調(diào)節(jié)、工作壓力范圍:1×10-8 mbar to 1000 mbar 、維護(hù)前可用次數(shù):10,000 ~ 100,000次、開(kāi)啟時(shí)壓差 ≤ 30 mba、泄漏率 < 1×10 -9  mbar ?/sec、閥體溫度≤ 150 °、機(jī)構(gòu)溫度≤ 80 °C、烤爐溫度≤ 150 °C、材料:閥體(不銹鋼304或316L)/驅(qū)動(dòng)器(鋁6061陽(yáng)極氧化)、安裝位置:任意、操作壓力(N2):6~ 8 bar。有中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī),上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰尽?真空閘閥廣泛應(yīng)用于各種真空系統(tǒng)和工藝過(guò)程中,如半導(dǎo)體生產(chǎn)、電子設(shè)備制造、科研實(shí)驗(yàn)、航空航天等領(lǐng)域。VAT閘閥ALUMINUM GATE VALVE

閘閥通過(guò)閥座和閘板接觸進(jìn)行密封,通常密封面會(huì)堆焊金屬材料以增加耐磨性。全真空閘閥手動(dòng)閥

微泰,定制大型轉(zhuǎn)移閥,定制大型輸送閥,?應(yīng)用:大型涂層系統(tǒng)。定制大型轉(zhuǎn)移閥,定制大型輸送閥規(guī)格如下:驅(qū)動(dòng)方式:氣動(dòng)、法蘭尺寸:(內(nèi)徑)80×500、(內(nèi)徑)100×400、(內(nèi)徑)200×1800、(內(nèi)徑)650×1050等法蘭類(lèi)型:定制、饋通焊接波紋管/O形密封圈、閥門(mén)密封:氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM、閥蓋密封:氟橡膠O型圈、響應(yīng)時(shí)間:≤ 2 sec、操作壓力范圍:1×10-10 mbar to 1400 mbar 、開(kāi)始時(shí)的壓差:≤ 30 mbar、閘門(mén)上的壓差≤1000 mbar、泄漏率:泄漏率< 5×10 -9 Mbar/秒、維護(hù)前可用次數(shù):10,000 ~ 200,000次、閥體溫度≤ 200 °、機(jī)構(gòu)溫度≤ 80 °C、烤爐溫度≤ 150 °C、材料:材料:不銹鋼304、A5083~A7075、安裝位置:任意、操作壓力(N2):6 ~ 8 bar。有中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī),上海安宇泰環(huán)保科技有限公司。全真空閘閥手動(dòng)閥