小型閘閥蝶形控制閥

微泰轉(zhuǎn)移閥是安裝在半導(dǎo)體PVDCVD設(shè)備工藝模塊和工藝室之間的閥門系統(tǒng)。它充當(dāng)將位于工藝模塊中的晶圓轉(zhuǎn)移到工藝室的溝槽。此外，它極大限度地減少了由于閘板打開和關(guān)閉造成的真空壓力變化，使腔室內(nèi)的真空壓力得以維持。負(fù)責(zé)門控半導(dǎo)體晶圓轉(zhuǎn)移的轉(zhuǎn)移閥分為兩種類型:I型和L型。一、I型轉(zhuǎn)移閥。I型轉(zhuǎn)移閥產(chǎn)品由鋁或不銹鋼制成，用于傳輸晶圓小于450毫米的半導(dǎo)體系統(tǒng)和隔離工藝室。本型的特點是葉片在垂直方向上快速移動，確保完美的腔室壓力維持。它采用具有LM導(dǎo)向系統(tǒng)和單連桿的內(nèi)部機(jī)構(gòu)，保證高耐用性和長壽命。二、L型轉(zhuǎn)移閥。L型轉(zhuǎn)移閥產(chǎn)品由鋁或不銹鋼制造，其特點是設(shè)計緊湊，易于維護(hù)。L型轉(zhuǎn)移閥的特點是閘門在兩個階段從垂直到水平方向移動，確保完美的腔室壓力維護(hù)。它的內(nèi)部機(jī)構(gòu)，包括一個LM導(dǎo)向系統(tǒng)和滯留彈簧和楔形營地結(jié)構(gòu)，保證了高耐用性和長壽命，同時提供穩(wěn)定和精確的運動。I型和L型轉(zhuǎn)移閥在在閘門開啟和關(guān)閉過程中極大限度地減少了振動，并且對溫度變化非常穩(wěn)定，確保了較長的使用壽命。此外，即使長時間使用柵極，它們產(chǎn)生的顆粒也很少，從而避免了晶圓缺陷或主器件的污染。微泰不斷創(chuàng)新，在開發(fā)先進(jìn)的壓力控制和控制閥制造專業(yè)從事真空閘閥不懈努力。用真空閘閥時，應(yīng)考慮與工藝氣體的兼容性、工作壓力范圍、循環(huán)速度和維護(hù)要求等因素。小型閘閥蝶形控制閥

微泰半導(dǎo)體閘閥具有諸多特點：首先，它已向中國臺灣的 Micron、UMC、AKT 等，新加坡的 Micron、Global Foundries，馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體，日本的 Micron、三星半導(dǎo)體等眾多設(shè)備廠批量供貨，且品質(zhì)得到認(rèn)可，同時完成了對半導(dǎo)體 Utility 設(shè)備和批量生產(chǎn)設(shè)備的驗證。其次，該閘閥采用陶瓷球機(jī)構(gòu)，具有良好的抗沖擊和震動性能，保證可使用 25 萬次，且檢修方便，維護(hù)成本較低。它無 Particle 產(chǎn)生，采用陶瓷球不會有腐蝕和顆粒產(chǎn)生。此外，它還具有屏蔽保護(hù)功能，閘閥閥體與擋板之間的距離小于 1mm，能有效防止粉末侵入閥內(nèi)，壽命為半永久性。其保護(hù)環(huán)設(shè)計也很獨特，Protecrion Ring 通過流速上升設(shè)計防止粉末凝固，并通過打磨（研磨）工藝防止粉末堆積。微泰半導(dǎo)體閘閥被廣泛應(yīng)用于 Evaporation（蒸發(fā)）、Sputtering（濺射）、Diamond growth by MW-PACVD（通過 MW-PACVD 生長金剛石）、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）、Coating（涂層）、Etch（蝕刻）、Diffusion（擴(kuò)散）、CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上，可替代 HVA 閘閥、VA T閘閥。該閘閥由上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰咎峁?。Etch閘閥Micron微泰轉(zhuǎn)移閥是安裝在半導(dǎo)體PVDCVD設(shè)備工藝模塊和工藝室之間的閥門系統(tǒng)。

微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥蝶閥Butterfly Valve。該蝶閥具有緊湊的設(shè)計和堅固的不銹鋼結(jié)構(gòu)，通過閘板旋轉(zhuǎn)操作。蝶閥可以實現(xiàn)精確的壓力控制和低真空環(huán)境。例如半導(dǎo)體和工業(yè)過程。蝶閥通過控制器和步進(jìn)電機(jī)自動控制到用戶指定的值，保持一致的真空壓力?？梢栽诟哒婵窄h(huán)境中實現(xiàn)精確的壓力控制。如半導(dǎo)體等高真空工藝應(yīng)用?？刂葡到y(tǒng)閘閥是自動控制到用戶指定的值，通過控制器和步進(jìn)電機(jī)保持一致的真空壓力。微泰半導(dǎo)體閘閥被廣泛應(yīng)用于 Evaporation（蒸發(fā)）、Sputtering（濺射）、Diamond growth by MW-PACVD（通過 MW-PACVD 生長金剛石）、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）、Coating（涂層）、Etch（蝕刻）、Diffusion（擴(kuò)散）、CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上，可替代 HVA 閘閥、VA T閘閥。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績。該閘閥由上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰咎峁?。

微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥，步進(jìn)電機(jī)插板閥Stepper Motor Gate Valve，-產(chǎn)品范圍：2.5“~10”-壓力控制-使用步進(jìn)電機(jī)Stepper Motor GV,- Product Range : 2.5” ~ 10”- Pressure Controlled- Using Stepper Motor，用步進(jìn)電機(jī)/控制器操作閥門-通過步進(jìn)電機(jī)/控制器精確控制閥門的壓力-根據(jù)產(chǎn)品的不同，控制器可以安裝在客戶需要的地方，微泰，步進(jìn)電機(jī)插板閥應(yīng)用于? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴(kuò)散）?CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上。微泰步進(jìn)電機(jī)插板閥Stepper Motor Gate Valve有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績。閘閥按閘板結(jié)構(gòu)形式分為單閘板和雙閘板兩種。

半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的解決方案，真空插板閥品牌—微泰?？刂葡到y(tǒng)閥門是安裝在半導(dǎo)體? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴(kuò)散）?CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備中的主要閥門?？刂葡到y(tǒng)閥門起到調(diào)節(jié)腔內(nèi)壓力的作用，通過控制系統(tǒng)自動調(diào)節(jié)閘板的開啟和關(guān)閉。精確控制腔內(nèi)壓力的閥門分為三類：控制系統(tǒng)閘閥、蝶閥、多定位閘閥?？刂葡到y(tǒng)和蝶閥使用步進(jìn)電機(jī)操作，而多定位閘閥、多位置閘閥使用氣動控制操作。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績。閘閥通過閥座和閘板接觸進(jìn)行密封，通常密封面會堆焊金屬材料以增加耐磨性。真空閘閥AKT

真空閘閥通過使用滑動閘門機(jī)構(gòu)來控制氣體的通過。小型閘閥蝶形控制閥

微泰，專門用閘閥應(yīng)用于? Evaporation? Sputtering? Diamond growth by MW-PACVD? PECV? PVD? Coating? Etch? Diffusion（擴(kuò)散）?CVD等設(shè)備上?？商娲鶹AT閘閥。期特點是*使用維修配件工具包易于維護(hù)*將電磁閥和位置傳感器連接到15針D-Sub*鎖定功能*限位開關(guān)*?速度控制器&電磁閥（2Port+N2Port）用不銹鋼管連接（φ6）*應(yīng)用:泵隔離,產(chǎn)品工藝水平要求高的地方。專門用閘閥規(guī)格如下：驅(qū)動方式：氣動、法蘭尺寸：4英寸~ 8英寸、法蘭類型：ISO, JIS, ASA, CF、連接方式：焊接波紋管、閥門密封：氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM、閥蓋密封：Viton O型圈、響應(yīng)時間：≤ 0.3 sec ~2 sec、操作壓力范圍：1.5? ~ 6? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar，8? ~ 12? : 1×10-10 mbar to 1200 mbar 、開始時的壓差：≤ 30 mbar、閘門的差動壓力：4? ~ 6? : ≤ 1400 mbar / 8? ~ 14? ≤ 1200 mbar、泄漏率：< 1×10 -10 Mbar/秒、初次維護(hù)前可用次數(shù)：200,000次、閥體溫度≤ 200 °、CTemperature for Actuator≤ 80 °C、烤爐溫度≤ 150 °C、材料：閥體(不銹鋼304)/驅(qū)動器(鋁6061陽極氧化)、安裝位置：任意、操作壓力(N2)：4 ~ 7 bar。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、Micron,Global Foundries、英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體業(yè)績。

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