全真空閘閥蝶形控制閥

來源: 發(fā)布時間:2024-08-20

微泰半導(dǎo)體閘閥的工作原理主要是通過閘板的升降來控制流體的通斷。當閘板升起時,閘閥打開,允許流體通過;當閘板降下時,閘閥關(guān)閉,阻止流體通過。在具體工作中,它利用各種機構(gòu)和設(shè)計來實現(xiàn)精確的控制和可靠的密封,以滿足半導(dǎo)體設(shè)備中對工藝控制的要求。微泰半導(dǎo)體閘閥被廣泛應(yīng)用于 Evaporation(蒸發(fā))、Sputtering(濺射)、Diamond growth by MW-PACVD(通過 MW-PACVD 生長金剛石)、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)、Coating(涂層)、Etch(蝕刻)、Diffusion(擴散)、CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上,可替代 HVA 閘閥、VA T閘閥。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績。該閘閥由上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰咎峁N⑻?,高壓閘閥能應(yīng)用于? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD。全真空閘閥蝶形控制閥

閘閥

微泰,控制系統(tǒng)閘閥應(yīng)用于? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴散)?CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上??商娲鶹AT閘閥。其特點是? 主體材質(zhì):不銹鋼? 緊湊型設(shè)計? 帶步進電機的集成壓力控制器? 應(yīng)用:需要壓力控制和隔離的地方??刂葡到y(tǒng)閘閥規(guī)格如下:法蘭尺寸(ID):1.5英寸~ 10英寸、材料:閥體(STS304)/機構(gòu)STS304、STS420、饋通:旋轉(zhuǎn)饋通、執(zhí)行器:步進電機、氦泄漏率1X10-9 mbar.l/sec、壓力范圍:1×10-8 mbar to 1.4 bar、閘門上的壓差≤1.4bar、維護前可用次數(shù):100,000次、閥體溫度≤ 150 °、控制器≤35°C、安裝位置:任意、接口RS232、RS485、Devicenet、Profibus、EtherCat。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績,上海安宇泰環(huán)保科技有限公司。轉(zhuǎn)移閘閥Global Foundries金屬閥體襯里高壓閥門主要有襯膠閥門、襯氟閥門、襯鉛閥門、襯塑閥門、襯搪瓷閥門。

全真空閘閥蝶形控制閥,閘閥

微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥Heating gate valve,加熱插板閥,加熱閘閥,加熱器的加熱溫度為180-200度(可通過控制器設(shè)置溫度)-規(guī)格:適用雙金屬(達到200度時,斷電后溫度下降后重新啟動),應(yīng)用于去除粉末/氣體設(shè)備。微泰,加熱閘閥應(yīng)用于? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD? PECV? PVD? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴散)?CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上。加熱閘閥規(guī)格如下:驅(qū)動方式:手動或氣動、法蘭尺寸:1.5英寸~ 12英寸、法蘭類型:ISO、JIS、ASA、CF、連接方式:焊接波紋管、閥門密封:氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM、閥蓋密封:氟橡膠O型圈、響應(yīng)時間:≤ 2 sec、操作壓力范圍:1.5? ~ 6? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar,8? ~ 12? : 1×10-10 mbar to 1200 mbar 、開始時的壓差:≤ 30 mbar、閘門的差動壓力:1.5? ~ 6? : ≤ 1400 mbar / 8? ~ 12 ≤ 1200 mbar、泄漏率:< 1×10 -10 Mbar/秒、維護前可用次數(shù):200,000次、、安裝位置:任意、操作壓力(N2):4 ~ 7 bar。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績。

微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥,晶圓輸送閥Transfer Valve,傳輸閥、轉(zhuǎn)換閥、輸送閥、轉(zhuǎn)移閥是安裝在半導(dǎo)體PVDCVD設(shè)備工藝模塊和工藝室之間的閥門系統(tǒng)。I型輸送閥,-閘門動作時無震動或沖擊-通過饋通波紋管Feedthrough bellows防止閥體污染,確保高耐用性-采用LM導(dǎo)軌和單鏈路(LM-guide&Single Link)結(jié)構(gòu)/小齒輪驅(qū)動方式,使其具有簡單的運動、耐用性和高精度。I型輸送閥有爪式(Jaw type)和夾式(Clamp type)。微泰晶圓輸送閥Transfer Valve,傳輸閥、轉(zhuǎn)換閥、輸送閥、轉(zhuǎn)移閥Butterfly Valve有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績。高壓閘閥,屬于強制密封式閥門,所以在閥門關(guān)閉時,必須向閘板施加壓力,以強制密封面不泄漏。

全真空閘閥蝶形控制閥,閘閥

微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥,蝶閥,Butterfly Valve產(chǎn)品范圍:DN40 ~ 50 -壓力控制-使用步進電機- Product Range : DN40 ~ 50- Pressure Controlled- Using Stepper Motor,- Compatible with VAT Butterfly Control Valve, series61.2 - Application Process : PVD, CVD, Etching, Diffusion-使用步進電機和控制器執(zhí)行驅(qū)動。-通過步進電機/控制器精確定位,確保精確的壓力控制。-兼容VAT蝶閥控制器,系列61.2,-應(yīng)用工藝: PVD,CVD,蝕刻,擴散。微泰蝶閥Butterfly Valve有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績。真空閘閥由一個滑動門或板組成,可以移動以阻止或允許通過真空閥體,從而有效地將腔室與外部環(huán)境隔離。手動閘閥L型轉(zhuǎn)移閥

閘閥流動阻力小。閥體內(nèi)部介質(zhì)通道是直通的,介質(zhì)成直線流動,流動阻力小。全真空閘閥蝶形控制閥

半導(dǎo)體真空插板閥是一種用于半導(dǎo)體制造過程中的真空系統(tǒng)的閥門,主要作用是控制氣體的流動,以維持真空環(huán)境的穩(wěn)定。微泰半導(dǎo)體真空腔體用閘閥(插板閥)其特點包括:1. 高密封性:采用特殊的密封結(jié)構(gòu),能夠有效地防止氣體泄漏,保證真空系統(tǒng)的密封性。2. 耐腐蝕性:材料具有良好的耐腐蝕性,能夠在半導(dǎo)體制造過程中的化學(xué)物質(zhì)環(huán)境中穩(wěn)定工作。3. 高精度:能夠精確地控制氣體的流量,滿足半導(dǎo)體制造工藝對精度的要求。4. 快速響應(yīng):可以快速地開啟和關(guān)閉,以適應(yīng)半導(dǎo)體制造過程中的快速氣體控制需求。5. 可靠性高:設(shè)計和制造過程嚴格,保證了其在長期使用中的可靠性和穩(wěn)定性。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績。該閘閥由上海安宇泰環(huán)保科技有限公司提供。全真空閘閥蝶形控制閥