低真空閘閥ALUMINUM GATE VALVE

微泰半導體主加工設備腔內精確壓力控制的閘閥，控制系統(tǒng)閘閥，控制閘閥、控制系統(tǒng)插板閥、控制系統(tǒng)閘閥具有可隔離的閘閥，以滑動方式操作，可以在高真空環(huán)境中實現精確的壓力控制。如半導體等高真空工藝應用?？刂葡到y(tǒng)閘閥是自動控制到用戶指定的值，通過控制器和步進電機保持一致的真空壓力。微泰半導體閘閥被廣泛應用于 Evaporation（蒸發(fā)）、Sputtering（濺射）、Diamond growth by MW-PACVD（通過 MW-PACVD 生長金剛石）、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）、Coating（涂層）、Etch（蝕刻）、Diffusion（擴散）、CVD（化學氣相沉積）等設備上，可替代 HVA 閘閥、VA T閘閥。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業(yè)績。該閘閥由上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰咎峁？刂葡到y(tǒng)和蝶閥使用步進電機操作，而多定位閘閥使用氣動控制操作。低真空閘閥ALUMINUM GATE VALVE

微泰半導體閘閥的特點：閥門驅動部分的所有滾子和軸承都進行了防護處理，形成屏蔽和保護環(huán)（Shield Blocker 和 Protection Ring）用三重預防方式切斷粉末（Powder），延長閥門驅動和使用壽命。三重預防驅動方式的Shield功能可防止氣體和粉末侵入閥體內部，有三重保護驅動保護環(huán)，長久延長GV壽命的Shield方法-供應給海外半導體T公司、M公司和I公司Utility設備。擋板與閥體的距離小于1mm，阻擋內部粉末和氣體的流入，屏蔽擋板是采用1.5 t AL材料，考慮了復原力，并采用Viton粉末熱壓制成。三重保護保護環(huán)的主要功能說明-AL材料的重量減輕和保護環(huán)內部照明的改善-保護環(huán)內部流速的增加-三元環(huán)應用確保驅動性能。UHV閘閥BUTTERFLY VALVE金屬閥體襯里高壓閥門主要有襯膠閥門、襯氟閥門、襯鉛閥門、襯塑閥門、襯搪瓷閥門。

微泰的傳輸閥、轉換閥、輸送閥、轉移閥是安裝在半導體 PVD CVD 設備工藝模塊和工藝室之間的閥門系統(tǒng)，起著將工藝模塊中的晶圓轉移到工藝室的關鍵作用，就像一條溝槽。這些閥門能極大程度地減少閘板開閉時造成的真空壓力變化，使腔室內的真空壓力得以穩(wěn)定維持。負責門控半導體晶圓轉移的傳輸閥、轉換閥、輸送閥、轉移閥分為 I 型和 L 型兩種。其產品范圍包括多種尺寸規(guī)格，如 32 x 222、46 x 236、50 x 336、56 x 500 等。維護前使用周期可達 100 萬次，響應時間為 2 秒，并可根據客戶要求定制法蘭。這些轉移閥產品有鋁制或不銹鋼制兩種，用于傳輸晶圓小于 450 毫米的半導體系統(tǒng)和隔離工藝室。I 型的特點是葉片能在垂直方向上快速移動，保證腔室壓力完美維持，它采用具有 LM 導向系統(tǒng)和單連桿的內部機構，確保高耐用性和長壽命。L 型轉移閥產品則設計緊湊，易于維護。I 型和 L 型轉移閥在閘門開啟和關閉過程中能極大限度地減少振動，且對溫度變化非常穩(wěn)定，能確保較長的使用壽命。此外，它們即使長時間使用，產生的顆粒也很少，能避免晶圓缺陷和主器件污染。微泰不斷創(chuàng)新，在壓力控制和控制閥制造方面持續(xù)努力，專注于真空閘閥的研發(fā)。

微泰半導體主加工設備腔內精確壓力控制的閘閥，插板閥，氣動（鎖定）閘閥和手動（鎖定）閘閥-按產品尺寸和法蘭類型排列-ID為1.5英寸至30英寸，ISO、CF&JIS和ASA法蘭等-現有手動閘閥的鎖定功能（Exist Manual GV of Locking Function）。微泰氣動（鎖定）閘閥和手動（鎖定）閘閥應用于? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴散）?CVD（化學氣相沉積）等設備上。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業(yè)績。在機組的給水、主汽、凝結水、抽汽、空氣、循環(huán)冷卻水、軸冷水等系統(tǒng)中，均安裝有許多閘閥。

微泰,傳輸閥、轉換閥、輸送閥、轉移閥是安裝在半導體PVDCVD設備工藝模塊和工藝室之間的閥門系統(tǒng)。它充當將位于工藝模塊中的晶圓轉移到工藝室的溝槽。I型和L型轉移閥是用于半導體PVD CVD設備工藝模塊和工藝室之間的閥門系統(tǒng)。它們的作用是將位于工藝模塊中的晶圓轉移到工藝室的溝槽，并極大限度地減少由于閘板打開和關閉造成的真空壓力變化，以維持腔室內的真空壓力。I型轉移閥由鋁或不銹鋼制成，用于傳輸晶圓小于450毫米的半導體系統(tǒng)和隔離工藝室。其特點是葉片在垂直方向上快速移動，以確保完美的腔室壓力維持。而L型轉移閥也由鋁或不銹鋼制造，其特點是設計緊湊，易于維護。L型轉移閥的閘門在兩個階段從垂直到水平方向移動，以確保完美的腔室壓力維護。這兩種類型的轉移閥都具有高耐用性和長壽命的優(yōu)點，并且在閘門開啟和關閉過程中極大限度地減少了振動，對溫度變化也非常穩(wěn)定，以確保較長的使用壽命。如果您需要了解更多關于微泰傳輸閥、轉換閥、輸送閥、轉移閥的信息，請聯系上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰尽Ｎ⑻┛刂葡到y(tǒng)閥門是安裝在半導體CVD設備中的主要閥門?？刂葡到y(tǒng)閥門起到調節(jié)腔內壓力的作用。晶圓閘閥氣動閥

真空閘閥廣泛應用于各種真空系統(tǒng)和工藝過程中，如半導體生產、電子設備制造、科研實驗、航空航天等領域。低真空閘閥ALUMINUM GATE VALVE

半導體主加工設備腔內精確壓力控制的解決方案，真空插板閥品牌—微泰?？刂葡到y(tǒng)閥門是安裝在半導體? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴散）?CVD（化學氣相沉積）等設備中的主要閥門?？刂葡到y(tǒng)閥門起到調節(jié)腔內壓力的作用，通過控制系統(tǒng)自動調節(jié)閘板的開啟和關閉。精確控制腔內壓力的閥門分為三類：控制系統(tǒng)閘閥、蝶閥、多定位閘閥?？刂葡到y(tǒng)和蝶閥使用步進電機操作，而多定位閘閥、多位置閘閥使用氣動控制操作。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業(yè)績。低真空閘閥ALUMINUM GATE VALVE