轉(zhuǎn)移閘閥L型轉(zhuǎn)移閥

微泰半導(dǎo)體閘閥的特點(diǎn)：已向中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備，設(shè)備廠批量供貨，已得到品質(zhì)認(rèn)可，已完成對半導(dǎo)體Utility設(shè)備和批量生產(chǎn)設(shè)備的驗(yàn)證。1，采用陶瓷球機(jī)構(gòu)，抗沖擊和震動，保證使用25萬次，檢修方便，較低維護(hù)成本。2，無Particle（顆粒）產(chǎn)生，采用陶瓷球無腐蝕和顆粒產(chǎn)。3，屏蔽保護(hù)：屏蔽式保護(hù)功能，閘閥閥體與擋板之間的距離小于1mm，可防止粉末侵入閥內(nèi)，壽命為半永久性。4，保護(hù)環(huán)：Protecrion Ring通過流速上升設(shè)計防止粉末凝固，并通過打磨（研磨）工藝防止粉末堆積。微泰半導(dǎo)體閘閥應(yīng)用于? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴(kuò)散）?CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上?？商娲鶫VA閘閥、VAT閘閥。上海安宇泰環(huán)保科技有限公司。閘閥不易產(chǎn)生水錘現(xiàn)象。原因是關(guān)閉時間長。轉(zhuǎn)移閘閥L型轉(zhuǎn)移閥

微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥Heating gate valve，加熱插板閥，加熱閘閥，加熱器的加熱溫度為180-200度（可通過控制器設(shè)置溫度）-規(guī)格：適用雙金屬（達(dá)到200度時，斷電后溫度下降后重新啟動），應(yīng)用于去除粉末/氣體設(shè)備。微泰，加熱閘閥應(yīng)用于? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD? PECV? PVD? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴(kuò)散）?CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上。加熱閘閥規(guī)格如下：驅(qū)動方式：手動或氣動、法蘭尺寸：1.5英寸~ 12英寸、法蘭類型：ISO、JIS、ASA、CF、連接方式：焊接波紋管、閥門密封：氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM、閥蓋密封：氟橡膠O型圈、響應(yīng)時間：≤ 2 sec、操作壓力范圍：1.5? ~ 6? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar，8? ~ 12? : 1×10-10 mbar to 1200 mbar 、開始時的壓差：≤ 30 mbar、閘門的差動壓力：1.5? ~ 6? : ≤ 1400 mbar / 8? ~ 12 ≤ 1200 mbar、泄漏率：< 1×10 -10 Mbar/秒、維護(hù)前可用次數(shù)：200,000次、、安裝位置：任意、操作壓力(N2)：4 ~ 7 bar。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績。CVD閘閥手動閥真空閘閥屬于真空隔離閥類別。但是，它也有可用于控制氣流。

微泰高壓閘閥可以應(yīng)用于多種設(shè)備，如蒸發(fā)、濺射、金剛石生長、PECV、PVD集群、卷對卷、涂層、蝕刻、擴(kuò)散和CVD等。它具有陶瓷球機(jī)構(gòu)產(chǎn)生的低顆粒和易于維護(hù)等特點(diǎn)，可替代VAT閘閥。該閥門的規(guī)格包括手動或氣動驅(qū)動方式、1.5英寸至14英寸的法蘭尺寸、CF法蘭類型、焊接波紋管連接方式、氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM閥門密封、氟橡膠O型圈閥蓋密封、≤2秒響應(yīng)時間、1.5?至6?的操作壓力范圍為1×10-10 mbar至1400 mbar，8?至14?的操作壓力范圍為1×10-10 mbar至1200 mbar、≤30 mbar的開始時壓差、≤1400 mbar的6?以下閘門差動壓力和≤1200 mbar的8?至14?閘門差動壓力、<1×10 -10 Mbar/秒的泄漏率、250,000次維護(hù)前可用次數(shù)、閥體溫度≤200°、機(jī)構(gòu)溫度≤80°C、烤爐溫度≤150°C、閥體不銹鋼304或316L和驅(qū)動器鋁6061陽極氧化、任意安裝位置和4至7 bar的N2操作壓力。此外，微泰高壓閘閥已在中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其他設(shè)備上得到應(yīng)用。如果您需要了解更多關(guān)于微泰高壓閘閥的信息，請聯(lián)系上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰?。

微泰控制系統(tǒng)閥門是安裝在半導(dǎo)體CVD設(shè)備中的主要閥門?？刂葡到y(tǒng)閥門起到調(diào)節(jié)腔內(nèi)壓力的作用，通過控制系統(tǒng)自動調(diào)節(jié)閘板的開啟和關(guān)閉。精確控制腔內(nèi)壓力的閥門分為三類：控制系統(tǒng)閘閥、蝶閥、多定位閘閥。控制系統(tǒng)和蝶閥使用步進(jìn)電機(jī)操作，而多定位閘閥使用氣動控制操作。一、控制系統(tǒng)閘閥?？刂葡到y(tǒng)閘閥具有可隔離的閘閥，以滑動方式操作，可以在高真空環(huán)境中實(shí)現(xiàn)精確的壓力控制。如半導(dǎo)體等高真空工藝應(yīng)用?？刂葡到y(tǒng)閘閥是自動控制到用戶指定的值，通過控制器和步進(jìn)電機(jī)保持一致的真空壓力。二、蝶閥。該蝶閥具有緊湊的設(shè)計和堅(jiān)固的不銹鋼結(jié)構(gòu)，通過閘板旋轉(zhuǎn)操作。蝶閥可以實(shí)現(xiàn)精確的壓力控制和低真空環(huán)境。例如半導(dǎo)體和工業(yè)過程。蝶閥通過控制器和步進(jìn)電機(jī)自動控制到用戶指定的值，保持一致的真空壓力。三、多定位閘閥。多定位閘閥是一種利用壓縮空氣或氮?dú)饪刂崎l閥位置的閥門。它在閥門的頂部有一個內(nèi)置控制器，可以在本地和遠(yuǎn)程模式下操作。它還具有緊急關(guān)閉功能，以應(yīng)對泵停止或CDA壓縮干空氣丟失的情況。閘閥按閘板結(jié)構(gòu)形式分為單閘板和雙閘板兩種。

微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥，插板閥，氣動（鎖定）閘閥和手動（鎖定）閘閥-按產(chǎn)品尺寸和法蘭類型排列-ID為1.5英寸至30英寸，ISO、CF&JIS和ASA法蘭等-現(xiàn)有手動閘閥的鎖定功能（Exist Manual GV of Locking Function）。微泰氣動（鎖定）閘閥和手動（鎖定）閘閥應(yīng)用于? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴(kuò)散）?CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績。閘閥流動阻力小。閥體內(nèi)部介質(zhì)通道是直通的，介質(zhì)成直線流動，流動阻力小。氣動閘閥法蘭閘閥

用真空閘閥時，應(yīng)考慮與工藝氣體的兼容性、工作壓力范圍、循環(huán)速度和維護(hù)要求等因素。轉(zhuǎn)移閘閥L型轉(zhuǎn)移閥

微泰半導(dǎo)體閘閥具有獨(dú)特的特點(diǎn)：其插板閥主滑閥采用球機(jī)構(gòu)方式，并且在量產(chǎn)工藝設(shè)備上經(jīng)過了性能驗(yàn)證。該閘閥由半永久性鋼球陶瓷和板簧組成，陶瓷與金屬接觸驅(qū)動時不會產(chǎn)生顆粒。目前已向中國臺灣的 Micron、UMC、AKT，新加坡的 Micron、Global Foundries，馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體，日本的 Micron、三星半導(dǎo)體等眾多設(shè)備廠批量供貨，且品質(zhì)得到認(rèn)可，同時也完成了對半導(dǎo)體 Utility 設(shè)備和批量生產(chǎn)設(shè)備的驗(yàn)證。與其他廠家閘閥的金屬與金屬接觸驅(qū)動會產(chǎn)生大量顆粒不同，微泰半導(dǎo)體閘閥采用鋼陶瓷球，在與金屬摩擦?xí)r不會損壞，且金屬與陶瓷球之間不會產(chǎn)生 Particle。半永久板簧（SUS 鋼板）的應(yīng)用確保了閥門驅(qū)動的同步性，同時還采用了固定球?qū)蚱骱弯撎沾?。微泰半?dǎo)體閘閥廣泛應(yīng)用于 Evaporation（蒸發(fā)）、Sputtering（濺射）、Diamond growth by MW-PACVD（通過 MW-PACVD 生長金剛石）、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）、Coating（涂層）、Etch（蝕刻）、Diffusion（擴(kuò)散）、CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上，可替代 HVIA閘閥、VAT 閘閥。此外，該閘閥由上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰咎峁?。轉(zhuǎn)移閘閥L型轉(zhuǎn)移閥