蒸發(fā)閘閥UMC

來源: 發(fā)布時(shí)間:2024-06-12

微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥,一、控制系統(tǒng)閘閥。控制系統(tǒng)閘閥具有可隔離的閘閥,以滑動(dòng)方式操作,可以在高真空環(huán)境中實(shí)現(xiàn)精確的壓力控制。如半導(dǎo)體等高真空工藝應(yīng)用。控制系統(tǒng)閘閥是自動(dòng)控制到用戶指定的值,通過控制器和步進(jìn)電機(jī)保持一致的真空壓力。二、蝶閥。該蝶閥具有緊湊的設(shè)計(jì)和堅(jiān)固的不銹鋼結(jié)構(gòu),通過閘板旋轉(zhuǎn)操作。蝶閥可以實(shí)現(xiàn)精確的壓力控制和低真空環(huán)境。例如半導(dǎo)體和工業(yè)過程。蝶閥通過控制器和步進(jìn)電機(jī)自動(dòng)控制到用戶指定的值,保持一致的真空壓力。三、多定位閘閥。多定位閘閥是一種利用壓縮空氣或氮?dú)饪刂崎l閥位置的閥門。它在閥門的頂部有一個(gè)內(nèi)置控制器,可以在本地和遠(yuǎn)程模式下操作。它還具有緊急關(guān)閉功能,以應(yīng)對(duì)泵停止或CDA壓縮干空氣丟失的情況。其特點(diǎn)之一是能夠遠(yuǎn)程檢查閥門狀態(tài),并可用于具有不同法蘭類型的各種工藝。多定位閘閥具有可隔離的閘閥,以滑動(dòng)方式操作,適用于需要壓力控制的所有加工領(lǐng)域。采用手動(dòng)調(diào)節(jié)控制裝置控制,用戶可直接控制閘門的開啟和關(guān)閉,以調(diào)節(jié)壓力。有中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī)。這些真空閥可以手動(dòng)、氣動(dòng)或電子方式驅(qū)動(dòng),從而可以根據(jù)具體應(yīng)用進(jìn)行多功能控制。蒸發(fā)閘閥UMC

閘閥

微泰半導(dǎo)體閘閥的特點(diǎn):已向中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備,設(shè)備廠批量供貨,已得到品質(zhì)認(rèn)可,已完成對(duì)半導(dǎo)體Utility設(shè)備和批量生產(chǎn)設(shè)備的驗(yàn)證。1,采用陶瓷球機(jī)構(gòu),抗沖擊和震動(dòng),保證使用25萬(wàn)次,檢修方便,較低維護(hù)成本。2,無Particle(顆粒)產(chǎn)生,采用陶瓷球無腐蝕和顆粒產(chǎn)。3,屏蔽保護(hù):屏蔽式保護(hù)功能,閘閥閥體與擋板之間的距離小于1mm,可防止粉末侵入閥內(nèi),壽命為半永久性。4,保護(hù)環(huán):Protecrion Ring通過流速上升設(shè)計(jì)防止粉末凝固,并通過打磨(研磨)工藝防止粉末堆積。微泰半導(dǎo)體閘閥應(yīng)用于? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長(zhǎng)金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對(duì)卷)? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴(kuò)散)?CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上??商娲鶫VA閘閥、VAT閘閥。上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰?。真空閘閥Global Foundries微泰轉(zhuǎn)移閥是安裝在半導(dǎo)體PVDCVD設(shè)備工藝模塊和工藝室之間的閥門系統(tǒng)。

蒸發(fā)閘閥UMC,閘閥

微泰半導(dǎo)體閘閥的工作原理主要是通過閘板的升降來控制流體的通斷。當(dāng)閘板升起時(shí),閘閥打開,允許流體通過;當(dāng)閘板降下時(shí),閘閥關(guān)閉,阻止流體通過。在具體工作中,它利用各種機(jī)構(gòu)和設(shè)計(jì)來實(shí)現(xiàn)精確的控制和可靠的密封,以滿足半導(dǎo)體設(shè)備中對(duì)工藝控制的要求。微泰半導(dǎo)體閘閥被廣泛應(yīng)用于 Evaporation(蒸發(fā))、Sputtering(濺射)、Diamond growth by MW-PACVD(通過 MW-PACVD 生長(zhǎng)金剛石)、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對(duì)卷)、Coating(涂層)、Etch(蝕刻)、Diffusion(擴(kuò)散)、CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上,可替代 HVA 閘閥、VA T閘閥。有中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī)。該閘閥由上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰咎峁?/p>

微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥,三重防護(hù)閘閥應(yīng)用于? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長(zhǎng)金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對(duì)卷)? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴(kuò)散)?CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上。有-屏蔽閘閥:防止氣體和粉末進(jìn)入閥內(nèi)的隔離閥,-三重防護(hù)閘閥:屏蔽1和2+保護(hù)環(huán)的3重隔離系統(tǒng),還有步進(jìn)電機(jī)閘閥和鋁閘閥,屏蔽門閥:產(chǎn)品范圍:2.5~12英寸?高壓/超高壓都可用?維護(hù)前可用次數(shù):25萬(wàn)次?響應(yīng)時(shí)間:0.2秒~3秒;三級(jí)預(yù)防閘閥,三重防護(hù)閘閥:產(chǎn)品范圍:4~10英寸?高壓/超高壓都可用?維護(hù)前可用次數(shù):25萬(wàn)次?包括屏蔽功能;步進(jìn)電機(jī)閘閥:產(chǎn)品范圍:2.5~10英寸?高壓/超高壓都可用?維護(hù)前可用次數(shù):25萬(wàn)次?包括屏蔽功能;步進(jìn)電機(jī)閘閥;鋁閘閥:產(chǎn)品范圍:2.5~12英寸?高壓氣動(dòng)?維護(hù)前可用次數(shù):10萬(wàn)次?響應(yīng)時(shí)間:0.2秒~3秒;有中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī),可替代HVA閘閥、VAT閘閥。上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰?。金屬閥體襯里高壓閥門主要有襯膠閥門、襯氟閥門、襯鉛閥門、襯塑閥門、襯搪瓷閥門。

蒸發(fā)閘閥UMC,閘閥

微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥,應(yīng)用于? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長(zhǎng)金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對(duì)卷)? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴(kuò)散)?CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上。這節(jié)介紹加熱閘閥、加熱式閘閥護(hù)套、加熱器插入式閥門。帶加熱器閘閥,加熱器插入閘閥:產(chǎn)品范圍:2~12英寸?高壓/超高壓都可用?維護(hù)前可用次數(shù):20萬(wàn)次?響應(yīng)時(shí)間:0.2秒~3秒;客戶指定法蘭,加熱溫度:450℃;蝶形閥;蝶閥:產(chǎn)品范圍:DN40、DN50隔離?泄漏率:1.0E-9mbar·l/秒;有中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī),可替代HVA閘閥、VAT閘閥。上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰痉墙饘俨牧细邏洪l閥有陶瓷閥門、玻璃閥門、塑料閥門。加熱閘閥SHIELD GATE VALVE

控制系統(tǒng)閘閥是自動(dòng)控制到用戶指定的值,通過控制器和步進(jìn)電機(jī)保持一致的真空壓力。蒸發(fā)閘閥UMC

微泰,大閘閥、大型閘閥應(yīng)用于? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長(zhǎng)金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對(duì)卷)? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴(kuò)散)?CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上。可替代VAT閘閥。微泰大閘閥、大型閘閥其特點(diǎn)是*陶瓷球機(jī)構(gòu)產(chǎn)生的低顆粒*使用維修配件工具包易于維護(hù)*應(yīng)用:用于研發(fā)和工業(yè)的隔離閥。大閘閥、大型閘閥規(guī)格如下:驅(qū)動(dòng)方式:氣動(dòng)、法蘭尺寸(內(nèi)徑):16? ~ 30?、 法蘭型:ISO、JIS、ASA 、饋通:Viton O-Rin、閥門密封:氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM、閥蓋密封:氟橡膠O型圈、響應(yīng)時(shí)間:可調(diào)節(jié)、工作壓力范圍:1×10-8 mbar to 1000 mbar 、維護(hù)前可用次數(shù):10,000 ~ 100,000次、開啟時(shí)壓差 ≤ 30 mba、泄漏率 < 1×10 -9  mbar ?/sec、閥體溫度≤ 150 °、機(jī)構(gòu)溫度≤ 80 °C、烤爐溫度≤ 150 °C、材料:閥體(不銹鋼304或316L)/驅(qū)動(dòng)器(鋁6061陽(yáng)極氧化)、安裝位置:任意、操作壓力(N2):6~ 8 bar。有中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī),上海安宇泰環(huán)保科技有限公司。 蒸發(fā)閘閥UMC