低真空閘閥Global Foundries

微泰半導體主加工設備腔內精確壓力控制的閘閥，三重防護閘閥應用于? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴散）?CVD（化學氣相沉積）等設備上。有-屏蔽閘閥：防止氣體和粉末進入閥內的隔離閥，-三重防護閘閥：屏蔽1和2+保護環(huán)的3重隔離系統(tǒng)，還有步進電機閘閥和鋁閘閥，屏蔽門閥：產品范圍：2.5~12英寸?高壓/超高壓都可用?維護前可用次數：25萬次?響應時間：0.2秒~3秒；三級預防閘閥，三重防護閘閥：產品范圍：4~10英寸?高壓/超高壓都可用?維護前可用次數：25萬次?包括屏蔽功能；步進電機閘閥：產品范圍：2.5~10英寸?高壓/超高壓都可用?維護前可用次數：25萬次?包括屏蔽功能；步進電機閘閥；鋁閘閥：產品范圍：2.5~12英寸?高壓氣動?維護前可用次數：10萬次?響應時間：0.2秒~3秒；有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業(yè)績，可替代HVA閘閥、VAT閘閥。上海安宇泰環(huán)保科技有限公司。微泰，高壓閘閥能應用于? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD。低真空閘閥Global Foundries

微泰半導體主加工設備腔內精確壓力控制的閘閥，步進電機插板閥Stepper Motor Gate Valve，-產品范圍：2.5“~10”-壓力控制-使用步進電機Stepper Motor GV,- Product Range : 2.5” ~ 10”- Pressure Controlled- Using Stepper Motor，用步進電機/控制器操作閥門-通過步進電機/控制器精確控制閥門的壓力-根據產品的不同，控制器可以安裝在客戶需要的地方，微泰，步進電機插板閥應用于? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴散）?CVD（化學氣相沉積）等設備上。微泰步進電機插板閥Stepper Motor Gate Valve有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業(yè)績。三防閘閥I型轉移閥為了避免在顆粒敏感應用中產生顆粒，滑動閘門機構的設計旨在避免閥殼處的摩擦。

微泰，蝶閥應用于? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴散）?CVD（化學氣相沉積）等設備上?？商娲鶹AT閘閥。微泰蝶閥其特點是? 主體材料：鋁或不銹鋼? 緊湊型設計? 高性能集成控制器? 使用維修零件套件輕松維護? 應用：半導體和工業(yè)過程的壓力控制。蝶閥規(guī)格如下：法蘭尺寸(內徑)：DN40、DN50、饋通：旋轉饋通、閥門密封：FKM（VITON）、執(zhí)行器：步進電機、壓力范圍：1×10-8 mbar to 1200 mbar 、開啟壓差：≤ 30 mbar、開啟壓差≤30mbar、氦泄漏率1X10 -9Mbar/秒、維護前可用次數：250,000次、閥體溫度≤ 150 °、控制器≤ 35 °C、材料：閥體STS304/機制STS304、安裝位置：任意、接口：RS232、RS485、Devicenet、Profibus、EtherCat。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業(yè)績，上海安宇泰環(huán)保科技有限公司。

微泰半導體主加工設備腔內精確壓力控制的閘閥，應用于? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴散）?CVD（化學氣相沉積）等設備上。這節(jié)介紹加熱閘閥、加熱式閘閥護套、加熱器插入式閥門。帶加熱器閘閥，加熱器插入閘閥：產品范圍：2~12英寸?高壓/超高壓都可用?維護前可用次數：20萬次?響應時間：0.2秒~3秒；客戶指定法蘭，加熱溫度：450℃；蝶形閥；蝶閥：產品范圍：DN40、DN50隔離?泄漏率：1.0E-9mbar·l/秒；有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業(yè)績，可替代HVA閘閥、VAT閘閥。上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰揪_控制腔內壓力的閥門分為三類：控制系統(tǒng)閘閥、蝶閥、多定位閘閥。

微泰,傳輸閥、轉換閥、輸送閥、轉移閥是安裝在半導體PVDCVD設備工藝模塊和工藝室之間的閥門系統(tǒng)。它充當將位于工藝模塊中的晶圓轉移到工藝室的溝槽。此外，它極大限度地減少了由于閘板打開和關閉造成的真空壓力變化，使腔室內的真空壓力得以維持。負責門控半導體晶圓轉移的傳輸閥、轉換閥、輸送閥、轉移閥分為兩種類型:I型和L型? Product Range : 32 x 222 / 46 x 236 ，50 x 336 / 56 x 500 ，? Cycles of first service : 1,000,000 ? Response Time : 2sec ? Customer Specified Flanges ，轉移閥產品由鋁或不銹鋼制成，用于傳輸晶圓小于450毫米的半導體系統(tǒng)和隔離工藝室。本型的特點是葉片在垂直方向上快速移動，確保完美的腔室壓力維持。它采用具有LM導向系統(tǒng)和單連桿的內部機構，保證高耐用性和長壽命。二、L型轉移閥。L型轉移閥產品由鋁或不銹鋼制造，其特點是設計緊湊，易于維護。I型和L型轉移閥在在閘門開啟和關閉過程中極大限度地減少了振動，并且對溫度變化非常穩(wěn)定，確保了較長的使用壽命。此外，即使長時間使用柵極，它們產生的顆粒也很少，從而避免了晶圓缺陷或主器件的污染。微泰不斷創(chuàng)新，在開發(fā)先進的壓力控制和控制閥制造專業(yè)從事真空閘閥不懈努力。閘閥形體簡單，結構長度短，制造工藝性好，適用范圍廣。PVD閘閥L型轉移閥

控制系統(tǒng)閘閥?？刂葡到y(tǒng)閘閥具有可隔離的閘閥，以滑動方式操作，可以在高真空環(huán)境中實現精確的壓力控制。低真空閘閥Global Foundries

微泰，高壓閘閥應用于? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長金剛石）? PECV? PVD? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴散）?CVD（化學氣相沉積）等設備上?？商娲鶹AT閘閥。其特點是*陶瓷球機構產生的低顆粒*使用維修配件工具包易于維護*應用:隔離泵。高壓閘閥規(guī)格如下：驅動方式：手動或氣動、法蘭尺寸：1.5英寸~ 14英寸、法蘭類型：CF、連接方式：焊接波紋管、閥門密封：氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM、閥蓋密封：氟橡膠O型圈、響應時間：≤ 2 sec、操作壓力范圍：1.5? ~ 6? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar，8? ~ 14? : 1×10-10 mbar to 1200 mbar 、開始時的壓差：≤ 30 mbar、閘門的差動壓力：1.5? ~ 6? : ≤ 1400 mbar / 8? ~ 14? ≤ 1200 mbar、泄漏率：< 1×10 -10 Mbar/秒、維護前可用次數：250,000次、閥體溫度≤ 200 °、機構溫度≤ 80 °C、烤爐溫度≤ 150 °C、材料：閥體(不銹鋼304或316L)/驅動器(鋁6061陽極氧化)、安裝位置：任意、操作壓力(N2)：4 ~ 7 bar。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業(yè)績，上海安宇泰環(huán)保科技有限公司。低真空閘閥Global Foundries