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IC去除剝離液MSDS1.產(chǎn)品屬性產(chǎn)品形式:混合溶液產(chǎn)品名稱:ANS-908產(chǎn)品功能描述:用于COG重工,使IC與玻璃無損傷分離2.組成成份化學(xué)名稱CASNo含量%(v)1-METHYL-2-PYRROLIDINONE872-50-445~90N,N-DIMETHYLACETAMIDE127-19-510~58Other12~45SurfactantThickener3.危險(xiǎn)識(shí)別可燃性液體和蒸汽警示標(biāo)識(shí)外觀:透明或微黃氣味:類氨對(duì)人類和環(huán)境的危害:對(duì)眼睛和皮膚有刺激性吸入:會(huì)引起呼吸道受刺激,肝臟、腎受傷害,對(duì)系統(tǒng)有影響攝?。簳?huì)引起呼吸道和消化道刺激長期接觸:會(huì)引起皮膚傷害4.緊急處理吸入:移至空氣新鮮處,呼吸困難時(shí)輸氧、看醫(yī)生攝?。貉杆賴I吐或者看醫(yī)生皮膚接觸:用大量水沖洗15分鐘以上,更換衣服、鞋,或者看醫(yī)生眼睛接觸:用大量水沖洗15分鐘以上,嚴(yán)重時(shí)看醫(yī)生5.防火措施合適的滅火裝置:水槍、泡沫滅火器、干粉滅火器、CO2滅火器特別防護(hù)措施:穿戴防護(hù)面罩閃點(diǎn):>110℃自燃溫度:>340℃6.意外泄漏注意事項(xiàng)人員:避免吸入,避免皮膚、眼睛、衣物的接觸,霧狀時(shí)戴防護(hù)面罩環(huán)境:迅速移除火源,避免吸入和接觸清潔方法:大量泄漏應(yīng)截流并泵入容器,用吸附材料吸掉殘余物;少量泄漏用水沖洗7.存儲(chǔ)和搬運(yùn)搬運(yùn):遠(yuǎn)離火源、煙霧;不要吸入蒸汽。剝離液的成分分類有哪幾種;紹興半導(dǎo)體剝離液推薦貨源
能夠增強(qiáng)親水性,使得剝離液親水性良好,能快速高效地剝離溶解光刻膠。潤濕劑含有羥基,為聚乙二醇、甘油中的任意一種。下面通過具體實(shí)施例對(duì)本申請(qǐng)作進(jìn)一步詳細(xì)說明。以下實(shí)施例對(duì)本申請(qǐng)進(jìn)行進(jìn)一步說明,不應(yīng)理解為對(duì)本申請(qǐng)的限制。表一:兩種不同組分的剝離液配方一和配方二所采用的基礎(chǔ)組分基本相同,不同的是配方二中加入有潤濕劑,上述所描述的潤濕劑是用于增強(qiáng)親水性的,滴液與產(chǎn)品表面間的夾角為接觸角,接觸角可用來衡量潤濕程度,水滴角測試儀可測量接觸角,從潤濕角度考慮,接觸角<90°,且接觸角越小潤濕效果越好加入潤濕劑后的配方二所制得的剝離液,在滴落在高世代面板后,通過水滴角測試儀測接觸角,檢測圖如圖1所示,三次測試的接觸角如下表二:上述兩種不同組分的剝離液作接觸角測試接觸角配方一配方二測試一,加入潤濕劑后的配方二所制得的剝離液,其滴落在高世代面板后,其接觸角比未加入潤濕劑的配方一的剝離液潤濕效果更好;請(qǐng)參閱圖2所示,將配方一所制得的剝離液以及配方二所制得的剝離液進(jìn)行光刻膠剝離,圖2中的陰影圓點(diǎn)為浸泡時(shí)間t1后光刻膠殘留,明顯地,可以看出配方二中t1時(shí)間后光刻膠殘留量小,而配方一中產(chǎn)品邊緣處光刻膠的殘留量大。紹興半導(dǎo)體剝離液推薦貨源剝離液,高效去除光刻膠,不留痕跡。
隨著電子元器件制作要求的提高,相關(guān)行業(yè)應(yīng)用對(duì)濕電子化學(xué)品純度的要求也不斷提高。為了適應(yīng)電子信息產(chǎn)業(yè)微處理工藝技術(shù)水平不斷提高的趨勢,并規(guī)范世界超凈高純?cè)噭┑臉?biāo)準(zhǔn),國際半導(dǎo)體設(shè)備與材料組織(SEMI)將濕電子化學(xué)品按金屬雜質(zhì)、控制粒徑、顆粒個(gè)數(shù)和應(yīng)用范圍等指標(biāo)制定國際等級(jí)分類標(biāo)準(zhǔn)。濕電子化學(xué)品在各應(yīng)用領(lǐng)域的產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn)有所不同,光伏太陽能電池領(lǐng)域一般只需要G1級(jí)水平;平板顯示和LED領(lǐng)域?qū)耠娮踊瘜W(xué)品的等級(jí)要求為G2、G3水平;半導(dǎo)體領(lǐng)域中,集成電路用濕電子化學(xué)品的純度要求較高,基本集中在G3、G4水平,分立器件對(duì)濕電子化學(xué)品純度的要求低于集成電路,基本集中在G2級(jí)水平。一般認(rèn)為,產(chǎn)生集成電路斷絲、短路等物理性故障的雜質(zhì)分子大小為**小線寬的1/10。因此隨著集成電路電線寬的尺寸減少,對(duì)工藝中所需的濕電子化學(xué)品純度的要求也不斷提高。從技術(shù)趨勢上看,滿足納米級(jí)集成電路加工需求是超凈高純?cè)噭┙窈蟀l(fā)展方向之一。
但現(xiàn)有的回收裝置普遍存在如下問題:剝離廢液利用水洗裝置水洗過濾出光刻膠樹脂成分,回收率低。為了解決這一問題,現(xiàn)有技術(shù)通常再向剝離廢液中加入沉淀劑繼續(xù)反應(yīng),而后沉淀過濾出光刻膠樹脂成分,但所得到的光刻膠樹脂成分品質(zhì)不宜再用于光刻膠原料,只能用于其他要求較低的樹脂需求場所。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:本實(shí)用新型的目的是為了提供一種結(jié)構(gòu)設(shè)置更為合理、使用方便可靠的光刻膠廢剝離液回收裝置,從根本上解決現(xiàn)有回收裝置回收率低的問題,同時(shí)分級(jí)回收輸出線性酚醛樹脂成分,分級(jí)儲(chǔ)存,以用于不同場合,物盡其用。為達(dá)到上述目的,本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是:一種光刻膠廢剝離液回收裝置,包括攪拌釜和與攪拌釜連通的過濾罐,攪拌釜頂部設(shè)有廢剝離液投料口,其技術(shù)要點(diǎn)是:所述過濾罐的數(shù)量為兩個(gè),由一級(jí)過濾罐和二級(jí)過濾罐組成,所述一級(jí)過濾罐和二級(jí)過濾罐在垂直方向上位于攪拌釜下方,一級(jí)過濾罐和二級(jí)過濾罐的進(jìn)料管路分別與攪拌釜底部連通,且進(jìn)料管路上分別設(shè)有電磁閥,所述一級(jí)過濾罐的底部出液口連接有提升泵,所述提升泵的出料管路末端與攪拌釜頂部的循環(huán)料口連通,所述攪拌釜頂部另設(shè)有功能切換口。天馬微電子用的哪家的剝離液?
每一所述第二子管道502與所述公共子管道501連通,所述公共子管道501與所述下一級(jí)腔室102連通。其中,閥門開關(guān)60設(shè)置在每一子管道301上。在一些實(shí)施例中,閥門開關(guān)60設(shè)置在每一***子管道401及每一所述第二子管道502上。在一些實(shí)施例中,閥門開關(guān)60設(shè)置在每一第二子管道502上。具體的,閥門開關(guān)60的設(shè)置位置可以設(shè)置在連接過濾器30的任意管道上,在此不做贅述。在一些實(shí)施例中,請(qǐng)參閱圖4,圖4為本申請(qǐng)實(shí)施例提供的剝離液機(jī)臺(tái)100的第四種結(jié)構(gòu)示意圖。第二管道50包括多個(gè)第三子管道503,每一所述第三子管道503與一子過濾器連通301,且每一所述第三子管道503與所述下一級(jí)腔室連通102。其中,閥門開關(guān)60設(shè)置在每一第三子管道503上。本申請(qǐng)實(shí)施例提供的剝離液機(jī)臺(tái),包括:依次順序排列的多級(jí)腔室、每一級(jí)所述腔室對(duì)應(yīng)連接一存儲(chǔ)箱;過濾器,所述過濾器的一端設(shè)置通過管道與當(dāng)前級(jí)腔室對(duì)應(yīng)的存儲(chǔ)箱連接,所述過濾器的另一端通過第二管道與下一級(jí)腔室連接;其中,至少在管道或所述第二管道上設(shè)置有閥門開關(guān)。通過閥門開關(guān)控制連接每一級(jí)腔室的過濾器相互獨(dú)立,從而在過濾器被阻塞時(shí)通過閥門開關(guān)將被堵塞的過濾器取下并不影響整體的剝離進(jìn)程,提高生產(chǎn)效率。 剝離液可以用在什么地方;廣州鋁鉬鋁蝕刻液剝離液訂做價(jià)格
如何挑選一款適合自己公司的剝離液?紹興半導(dǎo)體剝離液推薦貨源
剝離液是一種通用濕電子化學(xué)品,主要用于去除金屬電鍍或者蝕刻加工完成后的光刻膠和殘留物質(zhì),同時(shí)防止對(duì)襯底層造成破壞。剝離液是集成電路、分立器件、顯示面板、太陽能電池等生產(chǎn)濕法工藝制造的關(guān)鍵性電子化工材料,下游應(yīng)用領(lǐng)域,但整體應(yīng)用需求較低,因此市場規(guī)模偏小。剝離液應(yīng)用在太陽能電池中,對(duì)于剝離液的潔凈度要求較低,需達(dá)到G1等級(jí),下游客戶主要要天合、韓華、通威等;應(yīng)用到面板中,通常要達(dá)到G2、G3等級(jí),且高世代線對(duì)于剝離液的要求要高于低世代線,下游客戶有京東方、中星光電;在半導(dǎo)體中的應(yīng)用可分等級(jí),在8英寸及以下的晶圓制造中,對(duì)于剝離液的要求達(dá)到G3、G4水平,大硅片、12英寸晶元等產(chǎn)品要達(dá)到G5水平。紹興半導(dǎo)體剝離液推薦貨源