安徽FB系列樂(lè)思2號(hào)銀電話

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2023-02-19

FB鍍銀光亮劑適用于電子產(chǎn)品鍍銀體系,鍍銀層可達(dá)鏡面般光亮,銀層純度高、錫焊性能良好,可以鍍厚銀,銀層在30微米以上仍可保持鏡面狀態(tài)??梢杂糜陔娮釉骷腻冦y也可以用于裝飾性鍍銀,如工藝品或餐具等器件的鍍銀。FB鍍銀光亮劑由FB-1(光亮劑)和FB-2(輔助劑)雙組分組成,配比使用,具有鍍液分散性能好,電沉積速度快,銀層不易變色等優(yōu)點(diǎn)。FB鍍銀光亮劑的濃度高,性能與同類進(jìn)口產(chǎn)品相當(dāng),與同類進(jìn)口鍍銀光亮劑完全相溶,可以相互替代使用。購(gòu)買(mǎi)鍍銀添加劑歡迎咨詢上海銀岑化學(xué)科技有限公司。安徽FB系列樂(lè)思2號(hào)銀電話

鍍銀始于1800年,是1838年由英國(guó)伯明翰的Elkington兄弟提出的,所用的鍍液為堿性鍍液,與他們發(fā)明的堿性鍍黃金體系很類似。一個(gè)多世紀(jì)以來(lái),鍍銀液的基本配方和當(dāng)年的配方差別不大,提高了銀配位離子濃度以達(dá)到快速鍍銀的目的而已。氰系鍍液過(guò)去的主要缺點(diǎn)是使用的電流密度小,現(xiàn)在這個(gè)問(wèn)題也解決了,鍍銀使電流密度可高達(dá)10A/dm,光亮鍍銀可達(dá)1.5~3A/dm,其鍍面光滑而無(wú)需再打光,也可鍍厚。近年來(lái)快速發(fā)展起來(lái)的電子元器件的高速選擇性鍍銀,如引線框架的選擇性鍍銀,采用噴射鍍的方法。所用的電流密度高達(dá)300~3000A/dm,鍍液中[KAg(CN)2]的濃度 也高達(dá)40~75g/L,陽(yáng)極采用白金或鍍鉑的鈦陽(yáng)極,這樣在1s內(nèi)即可鍍上約4~5μm的銀層,它已能滿足硅芯片和銀焊墊之間用鋁線來(lái)鍵合(Bonding)河南滾鍍樂(lè)思2號(hào)銀供應(yīng)高速鍍銀添加劑廠家上海銀岑化學(xué)科技有限公司,歡迎來(lái)電咨詢。

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鋁及其合金鍍銀比一般銅件鍍銀要困難得多,工藝過(guò)程也比較復(fù)雜。主要原因是鋁合金本身的性能與其他金屬不一樣,鋁是屬于兩性金屬,與酸和堿都起反應(yīng),前處理稍有不當(dāng),就會(huì)造成表面過(guò)腐蝕。而且鋁及其合金無(wú)論是在空氣中還是在溶液中都極易產(chǎn)生氧化膜,這層氧化膜如果不處理干凈,將影響鍍層的結(jié)合力。鋁及其合金鍍銀關(guān)鍵的是鍍層與基體金屬結(jié)合力的問(wèn)題。因此,需要采取處理方法,才能在鋁基體上得到結(jié)合強(qiáng)度良好的銀鍍層。采用浸鋅的方法能較好地解決這個(gè)難點(diǎn)。鉛錫合金電鍍廣泛應(yīng)用于工業(yè)生產(chǎn)。

鍍銀始于1800年,是1838年由英國(guó)伯明翰的Elkington兄弟提出的,所用的鍍液為堿性鍍液,與他們發(fā)明的堿性鍍黃金體系很類似。一個(gè)多世紀(jì)以來(lái),鍍銀液的基本配方和當(dāng)年的配方差別不大,提高了銀配位離子濃度以達(dá)到快速鍍銀的目的而已。氰系鍍液過(guò)去的主要缺點(diǎn)是使用的電流密度小,現(xiàn)在這個(gè)問(wèn)題也解決了,鍍銀使電流密度可高達(dá)10A/dm,光亮鍍銀可達(dá)1.5~3A/dm,其鍍面光滑而無(wú)需再打光,也可鍍厚。近年來(lái)快速發(fā)展起來(lái)的電子元器件的高速選擇性鍍銀,如引線框架的選擇性鍍銀,采用噴射鍍的方法。所用的電流密度高達(dá)300~3000A/dm鍍液中[KAg(CN)2]的濃度 也高達(dá)40~75g/L,陽(yáng)極采用白金或鍍鉑的鈦陽(yáng)極,這樣在1s內(nèi)即可鍍上約4~5μm的銀層鋁及其合金鍍銀比一般銅件鍍銀要困難得多,工藝過(guò)程也比較復(fù)雜。山東樂(lè)思2號(hào)銀供應(yīng)

鍍銀層比鍍金價(jià)格便宜得多,而且具有很高的導(dǎo)電性。安徽FB系列樂(lè)思2號(hào)銀電話

鍍銀始于1800年,是1838年由英國(guó)伯明翰的Elkington兄弟提出的,所用的鍍液為堿性鍍液,與他們發(fā)明的堿性鍍黃金體系很類似。一個(gè)多世紀(jì)以來(lái),鍍銀液的基本配方和當(dāng)年的配方差別不大,提高了銀配位離子濃度以達(dá)到快速鍍銀的目的而已。氰系鍍液過(guò)去的主要缺點(diǎn)是使用的電流密度小,現(xiàn)在這個(gè)問(wèn)題也解決了,鍍銀使電流密度可高達(dá)10A/dm,光亮鍍銀可達(dá)1.5~3A/dm,其鍍面光滑而無(wú)需再打光,也可鍍厚。近年來(lái)快速發(fā)展起來(lái)的電子元器件的高速選擇性鍍銀,如引線框架的選擇性鍍銀,采用噴射鍍的方法。所用的電流密度高達(dá)300~3000A/dm,鍍液中[KAg(CN)2]的濃度 也高達(dá)40~75g/L,陽(yáng)極采用白金或鍍鉑的鈦陽(yáng)極,這樣在1s內(nèi)即可鍍上約4~5μm的銀層。安徽FB系列樂(lè)思2號(hào)銀電話

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