一種四氟化碳?xì)怏w濃度檢測(cè)校正方法，包括：
通過(guò)雙光路檢測(cè)系統(tǒng)利用雙波長(zhǎng)紅外差分檢測(cè)法測(cè)量出不同溫度下的四氟化碳?xì)怏w濃度值；
將測(cè)量出的所述四氟化碳?xì)怏w濃度值和對(duì)應(yīng)的溫度值輸入至RBF神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)進(jìn)行訓(xùn)練；
將對(duì)測(cè)試樣本測(cè)量所得的四氟化碳?xì)怏w濃度值輸入至訓(xùn)練好的所述RBF神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)進(jìn)行測(cè)試并開(kāi)展反演計(jì)算，得到校正后的四氟化碳?xì)怏w實(shí)際濃度值。
推薦地，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述四氟化碳?xì)怏w濃度檢測(cè)校正方法中，通過(guò)雙光路檢測(cè)系統(tǒng)利用雙波長(zhǎng)紅外差分檢測(cè)法測(cè)量出四氟化碳?xì)怏w濃度值，包括：所述紅外光源發(fā)出的紅外光束經(jīng)準(zhǔn)直后進(jìn)入內(nèi)置有四氟化碳?xì)怏w的所述氣體采樣室；被四氟化碳?xì)怏w吸收特定波長(zhǎng)的紅外光束作為測(cè)量光；波長(zhǎng)不受四氟化碳?xì)怏w影響的紅外光束作為參考光；
在所述測(cè)量光經(jīng)所述濾光片透射后，檢測(cè)所述測(cè)量光的光強(qiáng)；在所述參考光經(jīng)所述第二濾光片透射后，檢測(cè)所述參考光的光強(qiáng)；
以活性炭與氟為原料經(jīng)氟化反應(yīng)制備。江浙滬四氟化碳銷售價(jià)格
四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量的等離子燭刻氣體，其高純氣及四氟化碳高純氣配高純陽(yáng)氧氣的混合體，可廣泛應(yīng)用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢薄膜材料的燭刻。對(duì)于硅和二氧化硅體系，采用CF4-O2反應(yīng)離子刻蝕時(shí)，通過(guò)調(diào)節(jié)兩種氣體的比例，可以獲得45：1的選擇性，這在刻蝕多晶硅柵極上的二氧化硅薄膜時(shí)很有用。在電子器件表面清洗、太陽(yáng)能電池的生產(chǎn)、激光技術(shù)、氣相絕緣、低溫制冷、泄漏檢驗(yàn)劑、控制宇宙火箭姿態(tài)、印刷電路生產(chǎn)中的去污劑等方面也大量使用。由于化學(xué)穩(wěn)定性極強(qiáng)，CF4還可以用于金屬冶煉和塑料行業(yè)等。
上海市節(jié)能四氟化碳優(yōu)化價(jià)格通常常溫下只會(huì)與液氨-金屬鈉試劑能發(fā)生作用。
維護(hù)成本方面，我們以具有近 50 年運(yùn)營(yíng)經(jīng)驗(yàn)的慧瞻材料的業(yè)務(wù)模式為例進(jìn)行分析。2018年慧瞻材料的營(yíng)收中，材料占比約 65%，剩下 35%為設(shè)備安裝及現(xiàn)場(chǎng)維護(hù)。但從人員配置上看，材料業(yè)務(wù)在全球有 12 個(gè)工廠，分布在美國(guó)、韓國(guó)和中國(guó)臺(tái)灣（美國(guó) 7 家，韓國(guó) 4 家，中國(guó)臺(tái)灣 1 家），相應(yīng)工作人員在 830 名左右；而設(shè)備安裝及現(xiàn)場(chǎng)維護(hù)業(yè)務(wù)的人員配置達(dá) 900 人，其中現(xiàn)場(chǎng)服務(wù)環(huán)節(jié)人員 400 人，營(yíng)業(yè)利潤(rùn)率低于材料業(yè)務(wù)。顯然，中國(guó)大陸企業(yè)相應(yīng)的運(yùn)輸服務(wù)及現(xiàn)場(chǎng)維護(hù)將更為快速，且成本更低。
經(jīng)過(guò)現(xiàn)場(chǎng)測(cè)試和**評(píng)審，**組認(rèn)為，黎明院生產(chǎn)的高純四氟化碳和六氟化硫產(chǎn)品滿足國(guó)家重大專項(xiàng)/課題任務(wù)書(shū)研究?jī)?nèi)容和考核指標(biāo)規(guī)定的技術(shù)要求。項(xiàng)目的驗(yàn)收完成，標(biāo)志著黎明院開(kāi)發(fā)的高純度含氟電子氣體四氟化碳和六氟化硫產(chǎn)品，能夠滿足極大規(guī)模集成電路行業(yè)所需的高純度氣體需求，也標(biāo)志著極大規(guī)模集成電路行業(yè)用高純度四氟化碳和六氟化硫電子氣體實(shí)現(xiàn)了國(guó)產(chǎn)化?！呒兯姆己土蜓邪l(fā)與中試’子項(xiàng)目，通過(guò)了國(guó)家重大專項(xiàng)項(xiàng)目組的現(xiàn)場(chǎng)測(cè)試與評(píng)審。相關(guān)產(chǎn)品已提交客戶使用，市場(chǎng)應(yīng)用效果良好?！?由于化學(xué)穩(wěn)定性極強(qiáng)，CF4還可以用于金屬冶煉和塑料行業(yè)等。
四氟化碳和氧氣瓶在高溫下不反映，四氟化碳是現(xiàn)階段電子光學(xué)制造業(yè)中使用量較大的低溫等離子蝕刻工藝汽體，其高純度氣及四氟化碳高純度氣配高純氧氣的混合體，可市場(chǎng)應(yīng)用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢塑料薄膜原材料的蝕刻工藝。針對(duì)硅和二氧化硅管理體系，選用CF4-H2反映正離子刻蝕時(shí)，根據(jù)調(diào)整二種汽體的占比，能夠得到45：1的可選擇性，這在刻蝕多晶硅柵極上的二氧化硅塑料薄膜時(shí)很有效。不良影響簡(jiǎn)述危險(xiǎn)因素類型：GB2.2類不燃?xì)怏w入侵方式：吸進(jìn)身心健康傷害：吸進(jìn)高濃的四氟化碳出現(xiàn)呼吸不暢、嘔吐等室息病癥。由于四氟化碳的化學(xué)穩(wěn)定性。南京安全四氟化碳價(jià)格走勢(shì)
四氟化碳是無(wú)色無(wú)臭并且不燃的可壓縮性氣體。江浙滬四氟化碳銷售價(jià)格
四氟化碳，又稱為四氟甲烷。它既可以被視為一種鹵代烴、鹵代甲烷、全氟化碳，也可以被視為一種無(wú)機(jī)化合物。所以在電子行業(yè)中制作線路板蝕刻過(guò)程中，需要使用四氟化碳。在蝕刻過(guò)程中，用四氟化碳將多余的銅皮腐蝕掉，附有油墨的電路上銅皮得以保留，之后再用四氟化碳進(jìn)行清洗電路上的油墨再烘干，等工藝。在電子器件表面清洗、太陽(yáng)能電池的生產(chǎn)、激光技術(shù)、氣相絕緣、低溫制冷、泄漏檢驗(yàn)劑、控制宇宙火箭姿態(tài)、印刷電路生產(chǎn)中的去污劑等方面也大量使用。由于化學(xué)穩(wěn)定性極強(qiáng)，CF4還可以用于金屬冶煉和塑料行業(yè)等。
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