上海TPP雙光子聚合微納光刻

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上分辨率非常高的3D無掩模光刻技術(shù)，用于快速，精度非常高的微納加工，可以輕松3D微納光學(xué)制作。可以搭配不同的基板，包括玻璃，硅晶片，光子和微流控芯片等，也可以實(shí)現(xiàn)芯片和光纖上直接打印。我們的3D微納加工技術(shù)可以滿足您對(duì)于制作亞微米分辨率和毫米級(jí)尺寸的復(fù)雜微機(jī)械元件的要求。3D設(shè)計(jì)的多功能性對(duì)于制作復(fù)雜且響應(yīng)迅速的高精度微型機(jī)械，傳感器和執(zhí)行器是至關(guān)重要的?；陔p光子聚合原理的激光直寫技術(shù)，可適用于您的任何新穎創(chuàng)意的快速原型制作；也適合科學(xué)家和工程師們?cè)跓o需額外成本增加的前提下，實(shí)現(xiàn)不同參數(shù)的創(chuàng)新3D結(jié)構(gòu)的制作。微米級(jí)增材制造能夠突破傳統(tǒng)微納光學(xué)設(shè)計(jì)的上限，借助Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)的出色的性能，可以輕松實(shí)現(xiàn)球形，非球形，自由曲面或復(fù)雜3D微納光學(xué)元件制作，并具備出色的光學(xué)質(zhì)量表面和形狀精度。

Nanoscribe中國分公司-納糯三維邀您一起探討國內(nèi)在雙光子聚合技術(shù)領(lǐng)域的未來發(fā)展。上海TPP雙光子聚合微納光刻

QuantumXshape技術(shù)特點(diǎn)概要：快速原型制作，高精度，高設(shè)計(jì)自由度，簡(jiǎn)易明了的工程流程；工業(yè)驗(yàn)證的晶圓級(jí)批量生產(chǎn)；200個(gè)標(biāo)準(zhǔn)結(jié)構(gòu)的通宵產(chǎn)量；通用及專門使用的打印材料；兼容自主及第三方打印材料QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng)，用于快速原型制作和晶圓級(jí)批量生產(chǎn)，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)（2PP）的專業(yè)激光直寫系統(tǒng)，可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設(shè)計(jì)自由度。QuantumXshape可實(shí)現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進(jìn)行高精度3D微納加工。這種效率的提升對(duì)于晶圓級(jí)批量生產(chǎn)尤其重要，這對(duì)于科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域應(yīng)用有著重大意義。歡迎咨詢。黑龍江新型雙光子聚合3D光刻科學(xué)家們運(yùn)用Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)打印微型通道的聚合物母版，并結(jié)合軟光刻技術(shù)做后續(xù)復(fù)制工作。

Nanoscribe成立于2007年，是卡爾斯魯厄理工學(xué)院(KIT)的衍生公司。Nanoscribe憑借其過硬的技術(shù)背景和市場(chǎng)敏銳度奠定了其市場(chǎng)優(yōu)先領(lǐng)導(dǎo)地位，并以高標(biāo)準(zhǔn)來要求自己以滿足客戶的需求。Nanoscribe將在未來在基于雙光子聚合技術(shù)的3D微納加工系統(tǒng)基礎(chǔ)上進(jìn)一步擴(kuò)大產(chǎn)品組合實(shí)現(xiàn)多樣化，以滿足不用客戶群的需求。Nanoscribe作為一家納米，微米和中尺度高精度結(jié)構(gòu)增材制造**，一直致力于開發(fā)和生產(chǎn)和無掩模光刻系統(tǒng)，以及自研發(fā)的打印材料和特定應(yīng)用不同解決方案。在全球頂端大學(xué)和創(chuàng)新科技企業(yè)的中，有超過2,500多名用戶在使用我們突破性的3D微納加工技術(shù)和定制應(yīng)用解決方案。

作為納米、微米和介觀尺度高分辨率3D微納加工的關(guān)鍵技術(shù)，雙光子聚合技術(shù)(2PP)能在高速打印的同時(shí)確保高精度制作。結(jié)合極高設(shè)計(jì)自由度的特點(diǎn)，2PP高精度增材制造推動(dòng)著未來技術(shù)在例如生命科學(xué)、微流體、材料工程、微機(jī)械 和MEMS等科研和工業(yè)領(lǐng)域應(yīng)用的發(fā)展。Nanoscribe作為2PP微納加工市場(chǎng)人物，將繼續(xù)突破3D微納加工的極限。基于突破性雙光子對(duì)準(zhǔn)技術(shù)(A2PL@)的Quantum X平臺(tái)系列，可以實(shí)現(xiàn)在光纖前列和光子芯片上直接打印自由曲面微光學(xué)元件，助力光子封裝領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)在所有空間方向的納米級(jí)對(duì)準(zhǔn)和定位。此外，該系統(tǒng)具備的雙光子灰度光刻技術(shù)(2GL @)是制造具備比較高光學(xué)質(zhì)量的2.5D折射和衍射微光學(xué)器件的好的選擇，雙光子聚合技術(shù)運(yùn)用在哪些地方你了解嗎？歡迎咨詢納糯三維科技（上海）有限公司。

雙光子聚合是物質(zhì)在發(fā)生雙光子吸收后所引發(fā)的光聚合過程。雙光子吸收是指物質(zhì)的一個(gè)分子同時(shí)吸收兩個(gè)光子的過程，只能在強(qiáng)激光作用下發(fā)生，是一種強(qiáng)激光下光與物質(zhì)相互作用的現(xiàn)象，屬于三階非線性效應(yīng)的一種。雙光子吸收的發(fā)生主要在脈沖激光所產(chǎn)生的特別強(qiáng)激光的焦點(diǎn)處，光路上其他地方的激光強(qiáng)度不足以產(chǎn)生雙光子吸收，而由于所用光波長(zhǎng)較長(zhǎng)，能量較低，相應(yīng)的單光子過程不能發(fā)生，因此，雙光子過程具有良好的空間選擇性。雙光子聚合利用了雙光子吸收過程對(duì)材料穿透性好、空間選擇性高的特點(diǎn)，在三維微加工、高密度光儲(chǔ)存及生物醫(yī)療領(lǐng)域有著巨大的應(yīng)用前景，近年來已成為全球高新技術(shù)領(lǐng)域的一大研究熱點(diǎn)雙光子聚合技術(shù)（2PP）是一種“納米光學(xué)”3D打印方法。江蘇新型雙光子聚合微納光刻

Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)具有高設(shè)計(jì)自由度和高精度。上海TPP雙光子聚合微納光刻

在當(dāng)前科技快速發(fā)展的時(shí)代，各種新技術(shù)層出不窮。其中，雙光子聚合技術(shù)以其獨(dú)特的優(yōu)勢(shì)和應(yīng)用前景，正在引起越來越多的關(guān)注。雙光子聚合是物質(zhì)在發(fā)生雙光子吸收后所引發(fā)的光聚合過程，它有著更多的應(yīng)用前景，包括快速3D打印、光子晶體形成、高精度光子器件制造等領(lǐng)域。雙光子聚合技術(shù)的優(yōu)勢(shì)：1. 高精度和高分辨率：雙光子聚合技術(shù)采用光子作為加工單位，具有超高的精度和分辨率。與傳統(tǒng)的加工技術(shù)相比，雙光子聚合技術(shù)可以制造出更加精細(xì)、復(fù)雜的結(jié)構(gòu)，從而實(shí)現(xiàn)更高級(jí)別的光學(xué)器件和制造工藝。2. 快速和高效：雙光子聚合技術(shù)可以在短時(shí)間內(nèi)完成大量材料的加工和制備。由于其高精度和高分辨率的特點(diǎn)，使得制造過程更加快速和高效。這不僅縮短了產(chǎn)品的研發(fā)周期，還能滿足工業(yè)化大規(guī)模生產(chǎn)的需求。3. 高度靈活性和可擴(kuò)展性：雙光子聚合技術(shù)具有高度靈活性和可擴(kuò)展性，可以在不同材料和表面上應(yīng)用。這種技術(shù)不僅可以用于玻璃、塑料等常見材料的加工，還可以應(yīng)用于半導(dǎo)體、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域。這意味著雙光子聚合技術(shù)的應(yīng)用領(lǐng)域非常多，可以為不同行業(yè)提供定制化的解決方案。上海TPP雙光子聚合微納光刻