湖北TPP增材制造無掩膜激光直寫

借助Nanoscribe的3D微納加工技術，您可以實現(xiàn)亞細胞結構的三維成像，適用于細胞研究和芯片實驗室應用（lab-on-a-chip）。我們的客戶成功使用Nanoscribe雙光子無掩模光刻系統(tǒng)制作了3D細胞支架來研究細胞生長、遷移和干細胞分化。此外，3D微納加工技術還可以應用在微創(chuàng)手術的生物醫(yī)學儀器，包括植入物，微針和微孔膜等制作。Nanoscribe的無掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領域是一個不折不扣的多面手，由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具，在科學和工業(yè)項目中備受青睞。這種可快速打印的微結構在科研、手板定制、模具制造和小批量生產(chǎn)中具有廣闊的應用前景。 我們的增材制造技術應用于各個行業(yè)，包括航空航天、汽車制造、醫(yī)療器械等。湖北TPP增材制造無掩膜激光直寫

   傳統(tǒng)上，調(diào)節(jié)板和冷卻臺是銅焊的。將多個零件釬焊在一起以創(chuàng)建單個組件。增材制造在此提供的優(yōu)勢在于，可以設計結構一體化的零件，從而減少零件的數(shù)量，并替代釬焊。單一的結構對設計迭代也帶來了直觀的好處，我們可以想象，要通過傳統(tǒng)的供應鏈，訂購多個零件可能需要一兩個月才能得到，因為必須通過訂購系統(tǒng)，有人必須加工，有人必須組裝，有人可能需要測試進行質(zhì)量檢查。然后才進入到供貨物流系統(tǒng)中，而將這些不同的零件組裝在一起后，才可以對其進行后續(xù)的一個測試。這使得每一次設計迭代都變得緩慢而昂貴。但是，通過3D打印-增材制造技術，就可以省去所有這些步驟。天津?qū)嶒炇以霾闹圃於嗌馘X高精度的增材制造可打印出頂端的折射微納光學元件。

   QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng)，用于快速原型制作和晶圓級批量生產(chǎn)，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領域的潛力。作為2019年推出的頭一臺雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)QuantumX的同系列產(chǎn)品，QuantumXshape提升了3D微納加工能力，即完美平衡精度和速度以實現(xiàn)高精度增材制造，以達到比較高水平的生產(chǎn)力和打印質(zhì)量。作為一款真正意義上的全能機型，該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術（2PP）的專業(yè)激光直寫系統(tǒng)，可為亞微米精度的。QuantumXshape可實現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工。這種效率的提升對于晶圓級批量生產(chǎn)尤其重要，這對于科研和工業(yè)生產(chǎn)領域應用有著重大意義?？偠灾?，該系統(tǒng)拓寬了3D微納加工在多個科研領域和工業(yè)行業(yè)應用的更多可能性（如生命科學、材料工程、微流體、微納光學、微機械和微電子機械系統(tǒng)（MEMS）等）。

Nanoscribe的Photonic Professional GT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實現(xiàn)微機械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復合物，或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機電系統(tǒng)（MEMS）。雙光子灰度光刻技術可以一步實現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件（DOE），并且滿足DOE納米結構表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。由于需要多次光刻，刻蝕和對準工藝，衍射光學元件（DOE）的傳統(tǒng)制造耗時長且成本高。

增材制造輪在性能方面也表現(xiàn)出色。

  Nanoscribe設備專注于納米，微米和中等尺寸的增材制造。早期的PhotonicProfessionalGT3D打印機設計用于使用雙光子聚合生產(chǎn)納米和微結構塑料組件和模具。在該過程中，激光固化部分液態(tài)光敏材料，逐層固化。使用雙光子聚合，分辨率可低至200納米或高達幾毫米。另一方面，GT2現(xiàn)在可以在短時間內(nèi)在高達100×100mm2的打印區(qū)域上生產(chǎn)具有亞微米細節(jié)的物體，通常為160納米至毫米范圍。此外，使用GT2，用戶可以選擇針對其應用定制的多組物鏡，基板，材料和自動化流程。  Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司邀您一起探討3D打印和增材制造原理。湖北TPP增材制造無掩膜激光直寫

Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司邀您一起探討增材制造技術發(fā)展趨勢和應用。湖北TPP增材制造無掩膜激光直寫

Nanoscribe作為一家納米，微米和中尺度高精度結構增材制造，一直致力于開發(fā)和生產(chǎn)3D 微納加工系統(tǒng)和無掩模光刻系統(tǒng)，以及自研發(fā)的打印材料和特定應用不同解決方案。Nanoscribe成立于 2007 年，是卡爾斯魯厄理工學院 (KIT) 的衍生公司。在全球前列大學和創(chuàng)新科技企業(yè)的中，有超過2,500 多名用戶在使用我們突破性的 3D 微納加工技術和定制應用解決方案。 Nanoscribe 憑借其過硬的技術背景和市場敏銳度奠定了其市場的主導地位，并以高標準來要求自己以滿足客戶的需求。 Nanoscribe 將在未來進一步擴大產(chǎn)品組合實現(xiàn)多樣化，以滿足不用客戶群的需求。湖北TPP增材制造無掩膜激光直寫