IONPUREEDI模塊作為超純水設(shè)備的主要部件，一旦損壞將直接造成拋光混床樹脂的壽命縮短，增加運行成本，嚴重影響生產(chǎn)。 導致IONPUREEDI模塊故障的主要原因： 1、IONPUREEDI模塊長期在大電流，低于額定流量情況下運行，極板側(cè)積聚的熱量得不到有效散發(fā)，造成EDI接近兩極的膜片和隔網(wǎng)較早發(fā)熱變形,EDI濃水壓差增大，水質(zhì)和水量下降，嚴重會碳化漏水。 2、IONPUREEDI模塊長期沒有清洗保養(yǎng)，EDI的膜片和通道結(jié)垢，進出水壓差增大，造成產(chǎn)水水質(zhì)下降，電流無法調(diào)節(jié)，電壓上升。 模塊上海純超環(huán)保購買品質(zhì)有保證。安徽模塊多少錢運用技術(shù)編輯 G...

運用技術(shù)編輯 GEEDI模塊采用了濃水循環(huán)系統(tǒng)技術(shù)，濃水室加鹽主要影響是可減少濃水室中Ca2+&Mg2+攜帶電流的機會，降低Ca2+&Mg2+流動通量、降低結(jié)垢的速率;次要影響是增加濃水室的離子強度，增加對垢類的溶解、降低垢類形成的機會。因此，具有產(chǎn)水量高、產(chǎn)水品質(zhì)穩(wěn)定、性能可控性強、低能耗的特點。 結(jié)構(gòu)和原理編輯 　　GEEDI模塊常與RO連用,構(gòu)成RO-EDI純水系統(tǒng)。EDI已設(shè)計成標準模塊,EDI單元就是由若干模塊組合而成。每個GEEDI模塊有數(shù)個雙腔室夾在兩個電極(加直流電)之間,呈層疊式板框結(jié)構(gòu);雙腔室包括淡水腔(用D表示)和濃水腔(用C表示);二腔之間隔以一對陰、陽離子膜(亦稱陰...

注意事項編輯 　　·在給GEEDI模塊連接供水管道之前必須用經(jīng)過濾的合格沖洗水將管道系統(tǒng)徹底沖洗干凈并且將沖洗水排放。因為如果管道內(nèi)殘余的碎屑或其他顆粒物可能對模塊導致無法挽回的損害。 　　·EDI啟動時，給水泵應該緩慢升壓，從零到穩(wěn)定的運行壓力需要1-2分鐘以上，這樣做可防止水錘導致的嚴重損壞。在全部供水之前請先緩慢將模塊和系統(tǒng)中的空氣排盡。請勿對模塊過度加壓。 　　·確保電流開關(guān)及變送器設(shè)置正確并且能夠正常工作。 　　·確保建立了三條水流，并且所有的安全互鎖都經(jīng)過證明：極水排放流，淡水產(chǎn)水流以及濃水排放流。 　　·核實沒有任何形式的氯或氧化劑進入E-Cell?模塊。進水必須符合進水水質(zhì)要...

3、超濾系統(tǒng)控制余氯等氧化劑不當，進EDI氧化劑超量，導致EDI樹脂破碎，堵塞產(chǎn)水通道，水量下降。 4、采用不當?shù)那逑春拖荆苯訉е翬DI樹脂破碎，進出水壓差增大，造成產(chǎn)水水質(zhì)和水量全部下降。 5、西門子EDI模塊系統(tǒng)手動運行時，在缺水狀態(tài)下加電，直接導致膜片和樹脂的發(fā)熱碳化，清洗無效，無法使用。 6、西門子EDI模塊進水前無保安濾器，或安裝時沒有徹底清洗管道和水箱，導致異物堵塞EDI通道，進出水壓差增大，造成產(chǎn)水水量嚴重下降，清洗無效。 7、出廠時產(chǎn)品不合格，使用一段時間不明原因的漏水。 8、電流電壓超出額定值或人為誤操作。 模塊上海純...

1、西門子（IONPURE）EDI模塊，設(shè)備具有連續(xù)運行性，不需要再生產(chǎn)。離子交換和再生產(chǎn)同步，無需停機再生，更不必有有酸堿儲運設(shè)備及計量設(shè)備等。 2、西門子（IONPURE）EDI模塊，水質(zhì)更加的穩(wěn)定?；齑仓械臉渲傆幸粋€逐步失效的過程，所以它的水質(zhì)也從合格逐步的失效。而用EDI制水工藝離子交換和再生是同步的，其水質(zhì)非常的穩(wěn)定。 3、西門子（IONPURE）EDI模塊，運行更加的環(huán)保，沒有酸液、堿液排放，可以節(jié)水節(jié)能合理會用全部的濃水。 模塊上海純超環(huán)保專業(yè)銷售。北京口碑好模塊種類 美國西門子（IONPURE）EDI模塊工作主要有三個過程： a. ...

EDI電除鹽模塊清洗及消毒模式 ?直通逆流（低及高pH值都可）再循環(huán)（氧化劑） ?可選清洗模式: 再循環(huán),或直通,順流(低及高 pH值都可) 步驟 注意: 以下列出的流速為直通情況。再循環(huán)清洗及消毒過程在通常情況下都以相同流速進行。 ?步驟 1. 氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm) ?步驟 2. ...

3、超濾系統(tǒng)控制余氯等氧化劑不當，進EDI氧化劑超量，導致EDI樹脂破碎，堵塞產(chǎn)水通道，水量下降。 4、采用不當?shù)那逑春拖?，直接導致EDI樹脂破碎，進出水壓差增大，造成產(chǎn)水水質(zhì)和水量全部下降。 5、IONPUREEDI模塊系統(tǒng)手動運行時，在缺水狀態(tài)下加電，直接導致膜片和樹脂的發(fā)熱碳化，清洗無效，無法使用。 6、IONPUREEDI模塊進水前無保安濾器，或安裝時沒有徹底清洗管道和水箱，導致異物堵塞EDI通道，進出水壓差增大，造成產(chǎn)水水量嚴重下降，清洗無效。 7、出廠時產(chǎn)品不合格，使用一段時間不明原因的漏水。 8、電流電壓超出額定值或人為誤操...

如果電壓降低或是進水的總離子水平提高的話,那么系統(tǒng)中的樹脂會更多的和離子發(fā)生交換,相應的工作區(qū)間就往出水側(cè)移動,直至達到新的平衡,或是穿透,這一過程中,出水電導會發(fā)生一定的變化,出水的弱電離子增加是**明顯的表現(xiàn)。如果電壓上升或是進水離子減少,則系統(tǒng)的工作區(qū)間會向進水側(cè)發(fā)生移動,表現(xiàn)為出水水質(zhì)變好,弱電離子的含量減少。所以判斷系統(tǒng)的平衡狀態(tài)可以通過出水水質(zhì)變化,弱電離子的漏出多少來實現(xiàn),并可以通過工作區(qū)間的移動來解釋。 濃水流量的變化是另一個調(diào)節(jié)系統(tǒng)平衡的要素,特別是對于系統(tǒng)中的電流有直接影響。濃水的流量對去除弱電離子Ｓｉ也有一定關(guān)系。由于Ｓｉ在２５℃,ｐＨ值是６～８的水體中的...

二、工業(yè)水處理的未來 目前的RO－EDI技術(shù)**地降低了化學藥劑的使用，簡化了運行操作，降低了總的固定投資費用。盡管在工業(yè)水處理中還面臨著進一步降低化學藥劑使用的要求，但我們可以預期，隨著過濾及RO膜技術(shù)的提高，RO－EDI系統(tǒng)的經(jīng)濟性將會得到進一步的提高。 將來會如何變化？我們會看到在所有的工業(yè)單元中降低對化學藥劑的使用將是肯定的?？梢灶A計，在3到5年的時間內(nèi)，85％的工業(yè)水處理系統(tǒng)將會采用RO／EDI系統(tǒng)，剩余15％的部分則是應用在預處理的費用較高或者不能抵消非化學方法的RO－EDI系統(tǒng)所帶來的固有益處的場合。 Ionpur...

啟動清洗泵運行50分鐘，運行流量和壓力為正常運行狀態(tài)，最小流量可以為EDI正常運行時流量的一半。檢查清洗過程管道無泄漏。 排掉清洗水箱內(nèi)消毒液，并用RO水沖洗EDI出水至電導率降至100μs/cm以下。 4．堿洗 1）配制5%NaCL+1.2%NaOH溶液：將1200LRO水沖入清洗水箱中，加入60KgNaCL和14.4KgNaOH，并攪拌均勻使其完全溶解（可啟動清洗泵循環(huán)攪拌）。 2）啟動清洗泵，流量大約45T/h,壓力大約為0.2MPa,循環(huán)50分鐘，停止清洗泵。 3）沖洗排掉清洗水箱內(nèi)清洗液，用RO水沖洗EDI，如清洗后封存，不要...

如果存放時間不超過3天，模塊內(nèi)需充滿水。如果存放時間超過3天到一年，需要將E-CELL?模塊內(nèi)的水排出并封口以保持模塊內(nèi)部濕潤。無論何時存放模塊，其背部的管口都應朝上。 安裝 E-Cell?模塊為類別Ⅱ安裝，污染二級。 從E-Cell?模塊上拆下所有風管蓋并連接軟管。用手緊固液壓件。 塑料件及管口可更換。請小心輕放。在初次使用操作前務(wù)必緊固所有零件。 美國GE MK-3EDI模塊必須在無風無雨，避免陽光直射及地面震動,并滿足以下的操作環(huán)境要求的情況下進行安裝： 參數(shù) ...

如果電壓降低或是進水的總離子水平提高的話,那么系統(tǒng)中的樹脂會更多的和離子發(fā)生交換,相應的工作區(qū)間就往出水側(cè)移動,直至達到新的平衡,或是穿透,這一過程中,出水電導會發(fā)生一定的變化,出水的弱電離子增加是**明顯的表現(xiàn)。如果電壓上升或是進水離子減少,則系統(tǒng)的工作區(qū)間會向進水側(cè)發(fā)生移動,表現(xiàn)為出水水質(zhì)變好,弱電離子的含量減少。所以判斷系統(tǒng)的平衡狀態(tài)可以通過出水水質(zhì)變化,弱電離子的漏出多少來實現(xiàn),并可以通過工作區(qū)間的移動來解釋。 濃水流量的變化是另一個調(diào)節(jié)系統(tǒng)平衡的要素,特別是對于系統(tǒng)中的電流有直接影響。濃水的流量對去除弱電離子Ｓｉ也有一定關(guān)系。由于Ｓｉ在２５℃,ｐＨ值是６～８的水體中的...

4、西門子（IONPURE）EDI模塊，降低運行成本。EDI設(shè)備運行只需要消耗電力，而混床技術(shù)還需要酸堿。所以DEI超純水設(shè)備節(jié)約酸堿降低了運行的成本。 5、西門子（IONPURE）EDI模塊，操作更加的簡單，只需要調(diào)節(jié)電源的電壓、電流、實現(xiàn)了全自動的控制。 6、西門子（IONPURE）EDI模塊，出水水質(zhì)好，并且延長了設(shè)備的使用壽命。 7、西門子（IONPURE）EDI模塊，設(shè)備占地小，廠房高度要求低，3米足夠。 8、西門子（IONPURE）EDI模塊，設(shè)備安裝維修簡單便捷，任一膜塊的維修、更換都不影響其他膜塊的運行。 9、西門子（ION...

GEEDI模塊采用了濃水循環(huán)系統(tǒng)技術(shù)，濃水室加鹽主要影響是可減少濃水室中Ca2+&Mg2+攜帶電流的機會，降低Ca2+&Mg2+流動通量、降低結(jié)垢的速率;次要影響是增加濃水室的離子強度，增加對垢類的溶解、降低垢類形成的機會。因此，具有產(chǎn)水量高、產(chǎn)水品質(zhì)穩(wěn)定、性能可控性強、低能耗的特點。 　　GEEDI模塊常與RO連用,構(gòu)成RO-EDI純水系統(tǒng)。EDI已設(shè)計成標準模塊,EDI單元就是由若干模塊組合而成。每個GEEDI模塊有數(shù)個雙腔室夾在兩個電極(加直流電)之間,呈層疊式板框結(jié)構(gòu);雙腔室包括淡水腔(用D表示)和濃水腔(用C表示);二腔之間隔以一對陰、陽離子膜(亦稱陰向膜或陽向膜),陰、陽膜間裝...

影響ionpureEDI模塊性能的主要污染物有二氧化碳、懸浮顆粒及膠體等，這些污染物會帶來以下危害： 1、氧化劑：給水中的氧化劑會氧化樹脂和離子交換膜，并導致樹脂和膜的降解從而降低交換容量和選擇透過性能。氧化還會引起樹脂裂解，造成進出水壓力降上升，膜堆壽命縮短。 2、活性金屬：很低濃度的活性金屬即可以催化氧化交換樹脂和膜，并可被大量樹脂和膜吸附使其交換能力下降，使樹脂和膜的離子傳導作用減弱，從而造成ionpureEDI模塊性能衰減。 3、懸浮顆粒和膠體：顆粒和膠體物質(zhì)可以用污染指 數(shù)值表征。水中的懸浮顆粒和膠體物...

美國Ionpure EDI模塊混床在運行過程中，其內(nèi)部的樹脂分為飽和區(qū)，交換區(qū)，新生區(qū)。飽和區(qū)的樹脂已經(jīng)被離子飽和，不再具有從進水中交換離子的功能；交換區(qū)的樹脂處于部分飽和狀態(tài)，離子交換主要在交換區(qū)完成；新生區(qū)的樹脂尚未發(fā)生離子交換。隨著混床的運行，飽和區(qū)和交換區(qū)將逐步向上移動，新生區(qū)的空間將減少，直到被穿透。新生區(qū)的存在是產(chǎn)水的保證，而新生區(qū)被穿透的時候，也就意味著混床產(chǎn)水水質(zhì)將下降，混床是需要用藥品再生。模塊上海純超環(huán)保購買品質(zhì)有保證。進口模塊 　　 　　·EDI啟動時，給水泵應該緩慢升壓，從零到穩(wěn)定的運行壓力需要1-2分鐘以上，這樣做可防止水錘導致的嚴重損壞。在全部供水之前請先緩慢將模塊...

(3)濁度、污染指 數(shù)(SDI)的影響。 EDI組件產(chǎn)水通道內(nèi)填充有離子交換樹脂，過高的濁度、污染指 數(shù)會使通道堵塞，造成系統(tǒng)壓差上升，產(chǎn)水量下降。 (4)硬度的影響。 如果IONPUREEDI模塊中進水的殘存硬度太高，會導致濃縮水通道的膜表面結(jié)垢，濃水流量下降，產(chǎn)水電阻率下降;影響產(chǎn)水水質(zhì)，嚴重時會堵塞組件濃水和極水流道，導致組件因內(nèi)部發(fā)熱而毀壞。 (5) TOC(總有機碳)的影響。 進水中如果有機物含量過高，會造成樹脂和選擇透過性膜的有機污染，導致系統(tǒng)運行電壓上升，產(chǎn)水水質(zhì)下降。同時也容易在濃縮水通道...

IONPUREL-XM系列工業(yè)型膜堆是專門為工作應用而設(shè)計的。美國IONPURE IP-LXM45Z EDI模塊具有極其可靠地生產(chǎn)出質(zhì)量穩(wěn)定的高純水，而不會由于再生而中斷運行。美國IONPURE IP-LXM45Z EDI模塊可以應用于電力、HP/CPI、電子、食品和飲料行業(yè)以及實驗室中。 美國IONPURE IP-LXM45ZEDI模塊產(chǎn)品特色： 采用雙O-型密封圈進行密封，確保膜堆在運行中不發(fā)生泄漏； 產(chǎn)水水質(zhì)等同甚至優(yōu)于混床出水，無需使用化學藥劑； 連續(xù)產(chǎn)水且水質(zhì)穩(wěn)定無波動，不似批處理設(shè)備呈周期變化； 不需要使用酸、堿中和系統(tǒng)及樹脂罐； ...

3、超濾系統(tǒng)控制余氯等氧化劑不當，進EDI氧化劑超量，導致EDI樹脂破碎，堵塞產(chǎn)水通道，水量下降。 4、采用不當?shù)那逑春拖?，直接導致EDI樹脂破碎，進出水壓差增大，造成產(chǎn)水水質(zhì)和水量全部下降。 5、IONPUREEDI模塊系統(tǒng)手動運行時，在缺水狀態(tài)下加電，直接導致膜片和樹脂的發(fā)熱碳化，清洗無效，無法使用。 6、IONPUREEDI模塊進水前無保安濾器，或安裝時沒有徹底清洗管道和水箱，導致異物堵塞EDI通道，進出水壓差增大，造成產(chǎn)水水量嚴重下降，清洗無效。 7、出廠時產(chǎn)品不合格，使用一段時間不明原因的漏水。 8、電流電壓超出額定值或人為誤操...

IonpureIP-LXM30Z EDI模塊已經(jīng)達到了高流量的工業(yè)化要求－不僅在電子工業(yè)，而且在制藥、造紙、電力及化工生產(chǎn)等領(lǐng)域，這些系統(tǒng)提供的流量可達2000gpm及以上。事實上，由于***技術(shù)的開發(fā)，EDI系統(tǒng)在出力上的限制取決于其它的因素，而不是EDI系統(tǒng)的自身。 二、工業(yè)水處理的未來 目前的RO－EDI技術(shù)**地降低了化學藥劑的使用，簡化了運行操作，降低了總的固定投資費用。盡管在工業(yè)水處理中還面臨著進一步降低化學藥劑使用的要求，但我們可以預期，隨著過濾及RO膜技術(shù)的提高，RO－EDI系統(tǒng)的經(jīng)濟性將會得到進一步的提高。 模塊上海純超環(huán)保...

美國ionpureLXM45Z EDI模塊裝置將給水分成三股**的水流:純水、濃水、和極水。純水(90%-95%)為**終得到水,濃水(5%-10%)可以再循環(huán)處理,極水(1%)排放掉。 美國ionpureLXM45Z EDI模塊裝置屬于精處理水系統(tǒng),一般多與反滲透(ＲＯ)配合使用,組成預處理、反滲透、ＥＤＩ裝置的超純水處理系統(tǒng),取代了傳統(tǒng)水處理工藝的混合離子交換設(shè)備。ＥＤＩ裝置進水要求為電阻率為0.025-0.5ＭΩ·ｃｍ,反滲透裝置完全可以滿足要求。ＥＤＩ裝置可生產(chǎn)電阻率高達15ＭΩ·ｃｍ以上的超純水。 模塊上海純超環(huán)保歡迎比價。四川銷售模塊 美國Ionpure IP-LXM...

3、原水水質(zhì)的優(yōu)劣程度，純凈水產(chǎn)量的大小直接影響RO膜的使用壽命，為保證RO膜正常工作，需要對RO膜進行定期維護，此項工作必須由專業(yè)人員或在專業(yè)人員的授意下完成，非專業(yè)人員或未征得專業(yè)人員授意不得擅自清洗、拆卸、對RO膜進行隨意處理。如若非經(jīng)本廠專業(yè)人員授意，隨意拆卸高、增壓泵，斷水保護，反滲透系統(tǒng)等主機主要部件，造成損壞的，本廠概不負責。 4、設(shè)備閑置時，必須斷水斷電，放凈設(shè)備內(nèi)所有積水，設(shè)備不得在高溫與零下溫度的環(huán)境內(nèi)放置。 模塊上海純超環(huán)保全國發(fā)貨。江西口碑好模塊型號 GEEDI模塊采用了濃水循環(huán)系統(tǒng)技術(shù)，濃水室加鹽主要影響是可減少濃水室中Ca2+&Mg2+攜帶電流的...

1、西門子（IONPURE）EDI模塊，設(shè)備具有連續(xù)運行性，不需要再生產(chǎn)。離子交換和再生產(chǎn)同步，無需停機再生，更不必有有酸堿儲運設(shè)備及計量設(shè)備等。 2、西門子（IONPURE）EDI模塊，水質(zhì)更加的穩(wěn)定。混床中的樹脂總有一個逐步失效的過程，所以它的水質(zhì)也從合格逐步的失效。而用EDI制水工藝離子交換和再生是同步的，其水質(zhì)非常的穩(wěn)定。 3、西門子（IONPURE）EDI模塊，運行更加的環(huán)保，沒有酸液、堿液排放，可以節(jié)水節(jié)能合理會用全部的濃水。 模塊上海純超環(huán)保質(zhì)量材質(zhì)上乘。北京全國發(fā)貨模塊型號 IonpureIP-LXM30Z EDI模塊技術(shù)的市場占有率目前正迅速地擴大，...

GEEDI模塊采用了濃水循環(huán)系統(tǒng)技術(shù)，濃水室加鹽主要影響是可減少濃水室中Ca2+&Mg2+攜帶電流的機會，降低Ca2+&Mg2+流動通量、降低結(jié)垢的速率;次要影響是增加濃水室的離子強度，增加對垢類的溶解、降低垢類形成的機會。因此，具有產(chǎn)水量高、產(chǎn)水品質(zhì)穩(wěn)定、性能可控性強、低能耗的特點。 結(jié)構(gòu)和原理編輯 　　GEEDI模塊常與RO連用,構(gòu)成RO-EDI純水系統(tǒng)。EDI已設(shè)計成標準模塊,EDI單元就是由若干模塊組合而成。每個GEEDI模塊有數(shù)個雙腔室夾在兩個電極(加直流電)之間,呈層疊式板框結(jié)構(gòu);雙腔室包括淡水腔(用D表示)和濃水腔(用C表示);二腔之間隔以一對陰、陽離子膜(亦稱陰向膜或陽向膜...

啟動清洗泵運行50分鐘，運行流量和壓力為正常運行狀態(tài)，最小流量可以為EDI正常運行時流量的一半。檢查清洗過程管道無泄漏。 排掉清洗水箱內(nèi)消毒液，并用RO水沖洗EDI出水至電導率降至100μs/cm以下。 4．堿洗 1）配制5%NaCL+1.2%NaOH溶液：將1200LRO水沖入清洗水箱中，加入60KgNaCL和14.4KgNaOH，并攪拌均勻使其完全溶解（可啟動清洗泵循環(huán)攪拌）。 2）啟動清洗泵，流量大約45T/h,壓力大約為0.2MPa,循環(huán)50分鐘，停止清洗泵。 3）沖洗排掉清洗水箱內(nèi)清洗液，用RO水沖洗EDI，如清洗后封存，不要...

美國Ionpure EDI模塊工作主要有三個過程： a. 淡水進入淡水室后，淡水中的離子與混床樹脂發(fā)生交換，從而從水中脫離； b. 被交換的離子受電性吸引作用，陽離子穿過陽離子交換膜向陰極遷移，陰離子穿過陰離子交換膜向陽極遷移，并進入濃水室從而從淡水中去除。 離子進入濃水室后，由于陽離子無法穿過陰離子交換膜，因此其將被截留在濃水室，同樣，陰離子無法穿過陽離子交換膜，被截留在濃水室，這樣陰陽離子將隨濃水流被排出模塊；此外，由于進水中的離子被不斷地去除，那么淡水的純度將不斷提高，在由模塊出來的時候，其純度可以達到接近理論純水的水平。 模塊上海純超環(huán)保歡迎比價。廣東廠家供應...

美國Ionpure EDI模塊工作主要有三個過程： a. 淡水進入淡水室后，淡水中的離子與混床樹脂發(fā)生交換，從而從水中脫離； b. 被交換的離子受電性吸引作用，陽離子穿過陽離子交換膜向陰極遷移，陰離子穿過陰離子交換膜向陽極遷移，并進入濃水室從而從淡水中去除。 離子進入濃水室后，由于陽離子無法穿過陰離子交換膜，因此其將被截留在濃水室，同樣，陰離子無法穿過陽離子交換膜，被截留在濃水室，這樣陰陽離子將隨濃水流被排出模塊；此外，由于進水中的離子被不斷地去除，那么淡水的純度將不斷提高，在由模塊出來的時候，其純度可以達到接近理論純水的水平。 模塊上海純超環(huán)保歡迎選購。安徽銷售模塊...

(3) 西門子EDI模塊，濁度、污染指 數(shù)(SDI)的影響。 EDI組件產(chǎn)水通道內(nèi)填充有離子交換樹脂，過高的濁度、污染指 數(shù)會使通道堵塞，造成系統(tǒng)壓差上升，產(chǎn)水量下降。 (4) 西門子EDI模塊，硬度的影響。 如果西門子EDI模塊中進水的殘存硬度太高，會導致濃縮水通道的膜表面結(jié)垢，濃水流量下降，產(chǎn)水電阻率下降;影響產(chǎn)水水質(zhì)，嚴重時會堵塞組件濃水和極水流道，導致組件因內(nèi)部發(fā)熱而毀壞。 (5) 西門子EDI模塊，TOC(總有機碳)的影響。 進水中如果有機物含量過高，會造...

如果電壓降低或是進水的總離子水平提高的話,那么系統(tǒng)中的樹脂會更多的和離子發(fā)生交換,相應的工作區(qū)間就往出水側(cè)移動,直至達到新的平衡,或是穿透,這一過程中,出水電導會發(fā)生一定的變化,出水的弱電離子增加是**明顯的表現(xiàn)。如果電壓上升或是進水離子減少,則系統(tǒng)的工作區(qū)間會向進水側(cè)發(fā)生移動,表現(xiàn)為出水水質(zhì)變好,弱電離子的含量減少。所以判斷系統(tǒng)的平衡狀態(tài)可以通過出水水質(zhì)變化,弱電離子的漏出多少來實現(xiàn),并可以通過工作區(qū)間的移動來解釋。 濃水流量的變化是另一個調(diào)節(jié)系統(tǒng)平衡的要素,特別是對于系統(tǒng)中的電流有直接影響。濃水的流量對去除弱電離子Ｓｉ也有一定關(guān)系。由于Ｓｉ在２５℃,ｐＨ值是６～８的水體中的...

(5) 西門子EDI模塊，TOC(總有機碳)的影響。 進水中如果有機物含量過高，會造成樹脂和選擇透過性膜的有機污染，導致系統(tǒng)運行電壓上升，產(chǎn)水水質(zhì)下降。同時也容易在濃縮水通道形成有機膠體，堵塞通道。 (6) 西門子EDI模塊，進水中CO2的影響。 進水中CO2生成的HCO3-是弱電解質(zhì)，容易穿透離子交換樹脂層而造成產(chǎn)水水質(zhì)下降。 (7) 西門子EDI模塊，總陰離子含量(TEA)的影響。 高的TEA將會降西門子EDI模塊產(chǎn)水電阻率，或需要提高西門子EDI模塊運行電流，而過高的運行電流會導致系統(tǒng)電流增大，極水余氯濃度增...