四氟化碳亦稱全氟化碳、四氟甲烷、全氟化碳，為非腐蝕性氣體，所有通用材料如鋼、不銹鋼、銅、青銅，鋁等金屬材料都可以使用，但是含鎂大于2%的合金不能用。在高溫，一些金屬起加速CF4分解的催化作用。按其催化作用增長的次序由小到大地排列則如下：因科鎳合金、奧氏體不銹鋼、鎳、鋼、鋁、銅、青銅、黃銅、銀。四氟化碳一般認為是惰性低毒物質，在高濃度下是窒息劑，其毒性不及四氯化碳。四氟化碳的溶氧性很好，因此被科學家用于超深度潛水實驗代替普通壓縮空氣。 是穩(wěn)定的有機化合物之一，不易溶于水。南通安全四氟化碳高性價比的選擇
對于混合氣而言，配比的精度是參數，隨著產品組分的增加、配制精度的上升，客戶常要求氣體供應商能夠對多種ppm（partpermillion，百萬分之）乃至ppb（partperbillion，十億分之）級濃度的氣體組分進行精細操作，其配制過程的難度與復雜程度也增大。此外，氣瓶處理、氣體分析檢測、氣體配送等環(huán)節(jié)亦對生產企業(yè)提出了較高的技術要求作為關鍵性材料，特種氣體的產品質量對下游產業(yè)的正常生產影響巨大。如果晶圓加工環(huán)節(jié)所使用的氣體發(fā)生質量問題，將導致整條生產線產品報廢，造成巨額損失杭州銷售四氟化碳高性價比的選擇四氟化碳在常溫常壓下為無色無臭有輕微醚味的氣體。空氣中不燃燒，是比較穩(wěn)定的無毒物質。
四氟化碳，又稱為四氟甲烷。它既可以被視為一種鹵代烴、鹵代甲烷、全氟化碳，也可以被視為一種無機化合物。所以在電子行業(yè)中制作線路板蝕刻過程中，需要使用四氟化碳。在蝕刻過程中，用四氟化碳將多余的銅皮腐蝕掉，附有油墨的電路上銅皮得以保留，之后再用四氟化碳進行清洗電路上的油墨再烘干.高純度四氟化碳和六氟化硫電子氣體是極大規(guī)模集成電路行業(yè)必須的清洗、蝕刻氣體。隨著極大規(guī)模集成電路技術的提升，芯片制程向14納米甚至7納米的邁進，其對電子氣體的純度要求越來越高。為此，黎明院借助國家科技重大專項平臺，突破產物合成、精制提純、雜物分析、潔凈充裝等關鍵技術，攻克了高純度四氟化碳和六氟化硫制備過程中微量雜質的純化、分析等技術難題，
四氟化碳又名四氟甲烷。無色無臭無味氣體。分子量88.01。熔點-150℃。沸點 -128℃。密度1.96克/立方厘米 (-184℃)。微溶于水。對熱非常穩(wěn)定。用于致冷劑、溶劑、潤滑劑、絕緣材料、紅外檢波管的冷卻劑。四氟化碳具有很高的穩(wěn)定性，屬于完全不燃性氣體，但與可燃性氣體燃燒時，會分解產生有毒氟化物。常溫下不與酸、堿及氧化劑反應，900℃以下不與Cu、Ni、W、Mo等過渡金屬反應，在碳弧溫度下緩慢分解。1 000℃不與碳、氫及甲烷反應。室溫下可與液氨一金屬鈉試劑反應，高溫下可與堿金屬、堿土金屬及SiO 反應，生成相應的氟化物。四氟化碳在高溫時，或與可燃氣體一同燃燒時，分解出有毒的氟化物。
四氟化碳與氧在高溫下不反應]四氟化炭是目前微電子行業(yè)使用比較多的等離子蝕刻氣體，它是由高純氣與高純氣配高純氧的混合物，可用于硅粉、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃和鎢薄膜材料的蝕刻。在使用CF4-H2反應離子刻蝕的硅及二氧化硅系統(tǒng)中，通過調節(jié)兩種氣體的比例，可以獲得45:1的選擇性，這對刻蝕多晶硅柵極上的二氧化硅薄膜是非常有用的。危害概覽危險類別：：吸入健康危險：吸入濃度高的四氟化碳后，出現呼吸困難、嘔吐等窒息癥狀。 用硅膠除去氣體中的水分，經精餾而得成品。華東節(jié)能四氟化碳廠家價格
四氟化碳可應用于硅、二氧化硅、氮化硅，磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻。南通安全四氟化碳高性價比的選擇
四氟化碳用于各種集成電路的等離子刻蝕工藝，也用作激光氣體，用于低溫制冷劑、溶劑、潤滑劑、絕緣材料、紅外檢波管的冷卻劑。四氟化碳是微電子工業(yè)中用量比較大的等離子蝕刻氣體，四氟甲烷高純氣及四氟甲烷高純氣、高純氧的混合氣，可廣泛應用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻，在電子器件表面清洗、太陽能電池生產、激光技術、低溫制冷、泄漏檢驗、印刷電路生產中的去污劑等方面也大量使用。四氟化碳常溫常壓下穩(wěn)定，避免強氧化劑、易燃或可燃物。不燃氣體，遇高熱后容器內壓增大，有開裂危險。化學性質穩(wěn)定，不燃。常溫下只有液氨-金屬鈉試劑能發(fā)生作用。 南通安全四氟化碳高性價比的選擇
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