本色陽極氧化質(zhì)量

來源: 發(fā)布時(shí)間:2024-05-05

陽極氧化的注意事項(xiàng):1.必須有指定人員觀察機(jī)器,冷卻機(jī)工作時(shí)不能缺水。2.冷卻過程中注意觀看左邊壓力表是否有壓力,無壓力且有異常聲音說明管路有堵塞現(xiàn)象要立即關(guān)閉電源。檢查管路,排出故障后,再接通電源工作。3.冷卻過程中注意觀看右邊壓力表,表的指針不能超過15,指針超過15應(yīng)停機(jī),換水待指針降至15以后方可繼續(xù)工作。(如果有一次陽極處理效果不好的產(chǎn)品,可用1:30的氫氧化納(火堿)溶液清洗后再進(jìn)行陽極處理)。注:水合封孔:利用鋁的陽極氧化膜與水結(jié)合生成Ai2O3水合物,從而堵塞氧化膜的孔隙,使之喪失吸附能力,從而提高膜層防污染,防腐蝕等性能的處理過程成為水合封孔。昆山顯榮電子工業(yè)有限公司是一家專業(yè)提供陽極氧化的公司,有需求可以來電!本色陽極氧化質(zhì)量

陽極氧化,金屬或合金的電化學(xué)氧化。鋁及其合金在相應(yīng)的電解液和特定的工藝條件下,由于外加電流的作用下,在鋁制品(陽極)上形成一層氧化膜的過程。陽極氧化如果沒有特別指明,通常是指硫酸陽極氧化。為了克服鋁合金表面硬度、耐磨損性等方面的缺陷,擴(kuò)大應(yīng)用范圍,延長使用壽命,表面處理技術(shù)成為鋁合金使用中不可缺少的一環(huán),而陽極氧化技術(shù)是目前應(yīng)用廣且較成功的。陽極氧化的工藝流程:鋁工件→上掛→脫脂→中和→堿蝕→除灰→化拋→中和→陽極氧化→活化→表調(diào)→染色→封孔→除灰→水洗→烘干→下掛如果需要二次氧化,將產(chǎn)品CNC或者高光之后,(CNC后需要除油除蠟),進(jìn)行二氧,重復(fù)以上過程。常熟彩色陽極氧化單位昆山顯榮電子工業(yè)有限公司為您提供陽極氧化,有想法的不要錯(cuò)過哦!

陽極氧化的原理是什么?陽極氧化是在鋁及其合金表面上生成裝飾及保護(hù)膜的一種過程從原理上講,版在鋁上形成氧化權(quán)膜的過程實(shí)際就是一種電化學(xué)反應(yīng),即電流在足夠的電壓下經(jīng)過一種合適的酸電解質(zhì),在鋁表面形成多孔的氧化膜層。整個(gè)反應(yīng)機(jī)理如下:陽極氧化在陰極上:H2:2H+2e=H2陽極氧化在陽極上:4OH-4e=2H2O+O2;4AI+3O2=2AI2O3+3351J;一般的電解溶液采用硫酸為主的酸性溶液,陽極反應(yīng)采用鉛板或者鋁板,生成的氧化具有良好的耐腐蝕性,耐磨性能,膜的微孔能力還可以吸附染料得到多種顏色。

硬質(zhì)陽極氧化是鋁及鋁合金表面生成厚而堅(jiān)硬氧化膜的一種工藝方法。硬質(zhì)膜的較大厚度可達(dá)250μm,純鋁上形成的膜層微硬度為12000-15000MPa,合金的一般為4000-6000MPa,與硬鉻鍍層的相差無幾,它們在低符合時(shí)耐磨性好,硬質(zhì)膜的孔隙率約為20%左右,比常規(guī)硫酸膜低。瓷質(zhì)陽極氧化:瓷質(zhì)陽極氧化鋁及鋁合金在草酸、檸檬酸和硼酸的鈦鹽、鋯鹽或釷鹽溶液中陽極氧化,溶液中鹽類金屬的氫氧化物進(jìn)入氧化膜孔隙中,從而使制品表面顯示出與不透明而致密的搪瓷或具有特殊光澤的類似塑料外觀的處理過程。瓷質(zhì)陽極氧化處理工藝流程與常規(guī)硫酸陽極氧化基本一致,不同的是瓷質(zhì)陽極氧化是在高的直流電壓(115-125V)和較高的溶液溫度(50-60度)、電解液經(jīng)常攪拌、經(jīng)常調(diào)節(jié)pH值使之處于1.6-2范圍內(nèi)的條件進(jìn)行陽極氧化,就選昆山顯榮電子工業(yè)有限公司,用戶的信賴之選,有想法的不要錯(cuò)過哦!

阻擋層是又無水的氧化鋁所組成,薄而致密,具有高的硬度和阻止電流通過的作用。阻擋層厚約0.03-0.05μm,為總膜后的0.5%-2.0%。氧化膜多孔的外層主要是又非晶型的氧化鋁及小量的水合氧化鋁所組成,此外還含有電解液的陽離子。當(dāng)電解液為硫酸時(shí),膜層中硫酸鹽含量在正常情況下為13%-17%。氧化膜的大部分優(yōu)良特性都是由多孔外層的厚度及孔隙率所覺決定的,它們都與陽極氧化條件密切相關(guān)。直流電硫酸陽極氧化:在硫酸電解液中陽極氧化,作為陽極的鋁制品,在陽極化初始的短暫時(shí)間內(nèi),其表面受到均勻氧化,生成極薄而有非常致密的膜。陽極氧化,就選昆山顯榮電子工業(yè)有限公司,讓您滿意,歡迎您的來電哦!本色陽極氧化質(zhì)量

昆山顯榮電子工業(yè)有限公司為您提供陽極氧化,有想法可以來我司!本色陽極氧化質(zhì)量

氧化膜厚度計(jì)算:陽極氧化生成的氧化膜厚度從理論上可按法拉第第二定律推導(dǎo)的公式進(jìn)行計(jì)算。σ=Kit。式中σ為陽極氧化膜厚度(μm),I為電流密度(A/dm2),t為氧化時(shí)間(min),K為系數(shù)(當(dāng)氧化鋁密度γ=kg/立方米則K=0.309)。上述公式計(jì)算的前提是以認(rèn)為通過的電量全用于氧化鋁析出,同時(shí)也把氧化鋁及膜的密度視為純凈的氧化鋁密集的值。但實(shí)際情況并非完全如此,為了使K值更切合實(shí)際,應(yīng)將電流效率和在這種工藝條件下所生成膜的密度或孔隙度考慮在內(nèi),即:K=1.57η/γ式中η為電流效率(電極上實(shí)際析出的物質(zhì)量與又總電量換算出的析出物質(zhì)量之比)。K實(shí)值各國取值大小各異。本色陽極氧化質(zhì)量