硬質(zhì)氧化在恒電流工藝下,溶液溫度低、電流密度高、硫酸濃度低都會使得氧化膜阻擋層厚度增大,導致陽極氧化電壓升高,氧化膜的孔隙率也隨著下降,因此氧化膜的顯微硬度也隨之提高。在外加電壓達到起弧電壓之前,金屬表面已經(jīng)被陽極氧化膜所覆蓋。這層介電性的氧化膜使得電流迅速下降,為了氧化膜的繼續(xù)生長,只有增大電壓使原氧化膜的薄弱位置發(fā)生擊穿,導致局部火花以維持氧化膜生長所需要的電流。硬質(zhì)氧化膜質(zhì)量隨著電流密度變化而有所區(qū)別,通常隨著電流密度的增加,硬質(zhì)氧化膜的孔隙增多,其硬度和耐磨性也隨著提高。硬質(zhì)陽極氧化的零件在氧化過程中,要承受很高的電壓和較高的電流。張家港黑色硬質(zhì)氧化報價
常溫鋁硬質(zhì)陽極氧化又叫普通氧化,膜厚一般在5-15微米,硬度200-400HV。低溫氧化一般用于硬質(zhì)氧化,硬質(zhì)氧化的特點。1:色澤膜層呈灰.褐.墨綠至黑色,與材料成分和工藝有關(guān),而且溫度愈低,膜層愈厚色澤愈深。2:硬度氧化膜硬度極高,在純鋁上HV=1200-1500,在合金鋁上硬度明顯降低。HV=400-800.由于微孔可吸附潤滑劑,故可提高耐磨能力。 3:厚度膜層較高可達到250微米,所以又稱為厚膜氧化。4:腐蝕具有極高的耐腐蝕能力,尤其在工業(yè)大氣和海洋性氣候中有好的耐腐蝕性能。5:絕緣與絕熱性硬質(zhì)膜電阻大,膜層100微米,可耐2000伏以上,熔點達 2050攝氏度,導熱系數(shù)低至67KW/(M.K),是極好的耐熱材料。6:結(jié)合力與機體結(jié)合十分強固。由于鋁硬質(zhì)陽極氧化的特性,故應(yīng)用的地方很多。主要用于耐熱,耐磨,絕緣性能要求很高的鋁制零件,如活塞,汽缸,軸承,水電設(shè)備葉輪等。昆山本色硬質(zhì)氧化哪家好硬度氧化膜的硬度極高。
在鋁硬質(zhì)氧化染色整個流程中,因為氧化工藝原因造成染色不良是比較普遍的。氧化膜的膜厚和孔隙均勻一致是染色時獲得均勻一致顏色的前提和基礎(chǔ),為獲得均勻一致的氧化膜,保證足夠的循環(huán)量,冷卻量,保證良好的導電性是舉足輕重的,此外就是氧化工藝的穩(wěn)定性。硫酸濃度,控制在180—200g/l。稍高的硫酸濃度可促進氧化膜的溶解反應(yīng)加快,利于孔隙的擴張,更易于染色;鋁離子濃度,控制在5—15 g/l。鋁離子小于5g/l,生成的氧化膜吸附能力降低,影響上色速度,鋁離子大于15g/l時,氧化膜的均勻性受到影響,容易出現(xiàn)不規(guī)則的膜層。鋁硬質(zhì)氧化溫度,控制在20℃左右,氧化槽液的溫度對染色的影響非常明顯,過低的溫度致使氧化膜的膜孔致密,染色速度明顯減緩;溫度過高,氧化膜蔬松,容易粉化,不利于染色的控制,氧化槽的溫差變化應(yīng)在2℃以內(nèi)為宜。
硬質(zhì)氧化主要應(yīng)用于要求高耐磨、耐熱、絕緣性能好等得鋁和鋁合金零件上。如各種作為圓筒得內(nèi)壁,活塞、汽塞、汽缸、軸承、飛機貨艙得地板、滾棒和導軌、水利設(shè)備、蒸汽葉輪、適平機、齒輪和緩沖墊等零件。用硬質(zhì)氧化工藝來代替?zhèn)鹘y(tǒng)得鍍硬鉻鍍層,與硬鉻工藝相比它具有成本低,膜層結(jié)合牢固,鍍液,清洗廢液處理方便等優(yōu)點。但此工藝所得膜層得缺點是膜層厚度較大時,對鋁和鋁合金得機械疲勞強度指標有所影響。硬質(zhì)氧化得硬質(zhì)陽極氧化電解方法很多,例如:硫酸、草酸、丙二醇、磺基水楊酸及其它得無機鹽和有機酸等。所用電源可分為直流、交流和交直流疊加電源等幾種,目前普遍應(yīng)用得有下列兩種硬質(zhì)陽極氧化。硬質(zhì)氧化主要目的是提高鋁及鋁合金的各種性能。
硬質(zhì)氧化膜層與哪些因素有關(guān)?鋁及鋁合金表面上,能否形成好的硬質(zhì)氧化膜層,這主要是與電解液的成份濃度、溫度、電流密度以及其原材料的成分等這些方面有關(guān)的,下面就來講解一些。電解液的濃度:如果是采用硫酸電解液進行陽極氧化,那么其濃度范圍為10%—30%。如果濃度過低的話,那么就會損壞零件,反而會帶來不良影響。溫度:溫度下降,氧化膜的耐磨性會提高,但是也不能太低,所以溫度偏差應(yīng)在±2℃的范圍內(nèi),這樣是比較合適的。硬質(zhì)氧化有著不同使用工藝方法。高鹽霧硬質(zhì)氧化品質(zhì)
硬質(zhì)陽極氧化的槽液,一般是硫酸溶液以及硫酸添加有機酸,如草酸、氨基磺酸等。張家港黑色硬質(zhì)氧化報價
硬質(zhì)陽極氧化和普通陽極氧化的區(qū)別:硬質(zhì)氧化的氧化膜有50%滲透在鋁合金內(nèi)部,50%附著在鋁合金表面,因此硬質(zhì)氧化后產(chǎn)品外部尺寸變大,內(nèi)孔變小。 一、操作條件方面的差異: 1、溫度不同:普通氧化18-22℃左右,有添加劑的可以到30℃,溫度過高易出現(xiàn)粉末或裂紋;硬質(zhì)氧化一般在5℃以下,相對來說溫度越低硬質(zhì)越高。 2、濃度差異:普通氧化一般20%左右;硬質(zhì)氧化一般在15%或更低。 3、電流/電壓差異:普通氧化電流密度一般:1-1.5A/dm2;而硬質(zhì)氧化:1.5-5A/dm2;普通氧化電壓≤18V,硬質(zhì)氧化有時高達120V。 二、膜層性能方面的差異: 1、膜層厚度:普通氧化膜層厚度相對較??;硬質(zhì)氧化一般膜層厚度>15μm,過低達不到硬度≥300HV的要求。 2、表面狀態(tài):普通氧化表面較光滑,而硬質(zhì)氧化表面較粗糙(微觀,和基體表面粗糙度有關(guān))。 3、孔隙率不同:普通氧化孔隙率高;而硬質(zhì)氧化孔隙率低。 4、普通氧化基本是透明膜;硬質(zhì)氧化由于膜厚,為不透明膜。 5、適用場合不同:普通氧化適用于裝飾為主;而硬質(zhì)氧化以功能為主,一般用于耐磨、耐電的場合。張家港黑色硬質(zhì)氧化報價