高溫陶氏膜

公司主要經(jīng)營 EDI模塊：美國IONPURE EDI模塊，西門子EDI模塊、GE EDI模塊、蘇伊士EDI模塊、伊樂科EDI模塊、EDIPURE EDI模塊、IP-LXM45Z模塊、IP-LXM30Z模塊、IP-LXM18Z模塊、IP-LXM10Z模塊、IP-LXM04Z模塊、MK-3模塊、-3X模塊、西門子熱消 毒模塊、IONPURE熱消 毒EDI、熱消 毒模塊、GE熱消 毒模塊、Electropure EDI模塊。 EDI電源：億能EDI電源、懿博EDI電源、萌欣EDI電源、ZSC2000D電源、ZSC電源、YN2000電源、YN3000電源、MK3電源、en-link電源 盤式過濾器、疊片式過濾器、淺層式過濾器、阿科盤式過濾器、纖維束過濾器 陶氏膜上海純超環(huán)保高性價比的選擇。高溫陶氏膜

反滲透系統(tǒng)運行過程中，大多數(shù)溶解性離子和有機物被膜元件截留，并隨濃水一同排放。反滲透產(chǎn)水的雜質(zhì)含量很低，使用于多種應(yīng)用。

  排放的濃水必須有足夠大的流量，以帶走雜質(zhì)，并防止膜的進水側(cè)發(fā)生機械性的堵塞或沉淀。為了方便系統(tǒng)操作，產(chǎn)水和進水之間的比例通常作為一個重要的運行參數(shù)使用。這個比例稱為“回收率”，通常以百分比表示。例如，如果RO裝置的進水量為200m3/hr，產(chǎn)水流量為150m3/hr，則回收率為75%。剩下的未通過膜的50m3/hr，也就是濃水，通常被排放?；厥章试跀?shù)學(xué)上定義為：

        回收率（%）=產(chǎn)水流量×100/進水流量

        產(chǎn)水流量和濃水流量之和等于進水流量，也可以表示為：

        進水流量=產(chǎn)水流量+濃水流量 8040陶氏膜更換上海純超環(huán)保出售質(zhì)量陶氏膜。

陶氏反滲透膜脫鹽率低的原因？

  1. 陶氏反滲透膜，低脫鹽率時，產(chǎn)水電導(dǎo)率高?？赡艿脑蛴心の廴?，膜降解和O型圈損壞。確認產(chǎn)水電導(dǎo)增加是否超過了15％。

   2.陶氏反滲透膜，各段膜組件的產(chǎn)水電導(dǎo)率一樣嗎？逐段測試產(chǎn)水電導(dǎo)，盡可能每個膜組件都測。產(chǎn)水電導(dǎo)率明顯高的組件可能有O型圈或膜元件損壞。要對該組件進行填墊和探測。

   3. 陶氏反滲透膜，膜元件是否與氯或其它強氧化劑有接觸？任何氧化環(huán)境接觸都會損壞膜元件。

   4.陶氏反滲透膜，儀器經(jīng)過校準了嗎？確認所有的儀器都經(jīng)過校準。

美國陶氏BW30-400IG反滲透膜操作極限：

  膜片的類型………………………………………聚酰胺復(fù)合膜；

  比較高操作溫度………………………………………45oC(113oF)；

  比較高操作壓力……………………………………600psi(41bar)；

  比較高壓降…………………………………………15psi(1.0bar)；

  連續(xù)運行pH范圍a…………………………………………2-11；

  短時清洗pH范圍(30分鐘)b………………………………1-13；

  比較大給水流量…………………………………85gpm(19m3/h)；

  比較大給水污染指 數(shù)SDI15………………………………………5；

  允許游離氯含量c………………………………………<0.1ppm；

陶氏膜上海純超環(huán)保歡迎新老客戶選購。

運行極限:

比較高操作溫度:1130F(450C)

比較高操作壓力:600psig(41bar)

比較高壓降:15psig(1.0bar)

PH范圍，連續(xù)運行a:2-10

PH范圍，短期清洗（30分鐘）b:1-13

比較大進水流量:85gpm(19m3/hr)

比較大給水SDI15:5

允許游離氯含量C:<

aPH>10時，連續(xù)運行的比較高允許溫度950F（350C）

c在某些條件下，游離氯及其他氧化劑的存在會導(dǎo)致膜片提早發(fā)生降解破壞。由于氧化破壞是超出陶氏反滲透ro膜BW30-400IG的質(zhì)保范圍，故建議用戶在殘余游離氯接觸膜片之前通過預(yù)處理將其除去。 陶氏膜上海純超環(huán)保誠信經(jīng)營。8040陶氏膜更換

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