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ReversibleReaction)假設(shè)將一支銅棒放入酸性藍色的**銅溶液中，理論上固與液兩相之間并非***靜止之狀態(tài)。其微觀介面上，將會出現(xiàn)銅溶解與銅離子沉積兩種反應(yīng)同時進行。金屬銅的溶解(例如CuCu+++Ze-)在電化學(xué)上稱為游離或解離，是一種失去電子的廣義氧化作用。銅離子的鍍出(例如Cu+++2e－Cu0)則是一種接受電子的沉積反應(yīng)，是一種還原作用。因為是有進有出有來有往，故學(xué)理上稱之為可逆反應(yīng)(ReversibleReaction)，但其間對外的凈電流(NetCurrent)卻保持在零的狀態(tài)。若從動力學(xué)的觀點，此種電極可逆反應(yīng)進行所需的吉布森自由能(Gibbsfreeenergy)(G1與上G2)可從下示意圖中得知。電鍍銅電極電位(ElectrodePotential)因為單一電極的電極反應(yīng)，無法求出其電位倒底是多少，故必須找出一種公定的參考標準，做彼此較量比對的依據(jù)，才能比較出各種金屬電極在某一溶液中的電極電位。電化學(xué)領(lǐng)域是以“標準氫電極”(StandardHydrogenElectrode；SHE)做為參考。也就將下圖中白金極(Pt)所發(fā)出的H2與氫離子之間的反應(yīng)，當成人為的零電位：但先決條件是必須要將反應(yīng)狀況設(shè)定在氫氣壓為一個大氣壓(1atm)，氫離子活性(Activity)為1，反應(yīng)溫度為25℃之狀態(tài)。電鍍產(chǎn)品，就選浙江共感電鍍有限公司，用戶的信賴之選，歡迎您的來電！湖南電鍍

銅﹐具有暮玫吶仔旋旋旋旋光性能﹐鍍層孔隙小﹐耐蝕性好。低錫青銅因大氣中容易氧化變色﹐必須套鉻含錫40%~~50%的高錫青銅﹐外觀呈銀白色﹔硬度介于鎳與鉻之間﹔經(jīng)拋光后﹐其反射率僅次于銀﹔在大氣中不易失去光澤﹔能耐弱酸﹐弱堿和食品中有機酸的腐蝕﹔同時具有良好的導(dǎo)電性和焊接性。但是鍍層性脆﹐不能承受敲打或變形低錫青套鉻后﹐可作機械﹑輕工業(yè)和日用五金的防護-保護性鍍層高錫青銅可用來代銀鉻﹐鉻﹐作反光鏡﹑儀器儀表﹑日用五金﹑餐具﹑樂器等防護-裝飾性鍍層鋅-銅合金鍍層含銅25%左右的合金﹐有銀白色光澤﹐成本低﹐保護性好。對銅鐵來說﹐屬陽極性鍍層。在潮濕環(huán)境下﹐外觀不如鎳穩(wěn)定﹐容易產(chǎn)生白色腐蝕點套鉻后作輕工業(yè)產(chǎn)品﹐一般用作戶內(nèi)產(chǎn)品的防護-裝飾鍍層在工拼篤條件下﹐鋅銅合金的防護-裝飾性能比鍍鎳層好鋅-鐵-鎳合金及鋅-鐵合金鍍層這兩種合金有銀白色處觀﹐其電極電位同鋅銅合﹐在潮濕環(huán)境下容易產(chǎn)生白色腐蝕點?？蓮慕沽姿猁}電解液中鍍?nèi)√足t后﹐用來代替鋅-銅合金鍍層﹐作一般戶內(nèi)產(chǎn)品防護-裝飾用防護裝飾性鍍層金﹑金合金鍍層鍍金層﹐或含金75%~~80%的合金鍍層。福建電鍍招聘電鍍產(chǎn)品，就選浙江共感電鍍有限公司，用戶的信賴之選，有需要可以聯(lián)系我司哦！

一是鍍層與基體附著力不佳，二是鍍鎳層脆性大，延展性小。若熱處理不當產(chǎn)生難以***的污垢或鍍前處理不徹底，污垢夾雜在基體與鍍層之間，使鍍層與基體結(jié)合力很差，后續(xù)裝配加工時，易起皮脫落。當光亮劑配比不當或質(zhì)量差、pH值太高、陰極電流密度太大及鍍液溫度過低時，都會造成氫離子在陰極還原后，便以原子氫的狀態(tài)滲入基體金屬及鍍層中，使基體金屬及鍍層的韌性下降而產(chǎn)生”氫脆”現(xiàn)象。另外，當鍍鎳液中的金屬雜質(zhì)及分解產(chǎn)物過多時，也會使鍍層產(chǎn)生“氫脆”現(xiàn)象。電鍍鎳耐腐蝕性差由于鍍鎳層的孔隙率高，只有當鍍層厚度超過25微米時才基本上無孔。因此薄的鍍鎳層不能單獨用來作防護性鍍層，**好采用雙層鎳與多層鎳體系。電鍍鎳掛綠腐蝕電鍍后采用VCF一385防銹切削液對鍍層進行封閉處理，當防銹切削液干燥后，在產(chǎn)品上便形成掛綠的不良現(xiàn)象。電鍍鎳內(nèi)孔露銅由于光亮鎳鍍液的深鍍能力不如**鍍暗銅的好，電鍍后亮鎳鍍層在產(chǎn)品內(nèi)孔部位不能完全把銅鍍層覆蓋。

微盲孔之孔徑在3mi以下之淺小而多用于封裝載板者，實填的問題還不算嚴重，某幾種商業(yè)鍍銅制程也還頗能讓人滿意。然而增二式手機板其BGA球腳墊內(nèi)的二階盲孔，不但口徑大到6－8mil之間，且其漏斗形深度也接近3mil。加以**新亮相超難密距(－Pitch)的拉近與擠壓墊面空間，使得墊徑又被緊迫縮小到只剩下12－14mil左右，逼得盲孔表面的環(huán)寬竟只剩下3mil而已。如此局限又險惡地形之錫膏承焊，安得不令八頻捏大把冷汗？是故填孔鍍銅幾乎已經(jīng)成為勢在必行的工藝了。電鍍銅預(yù)布焊料之填孔***一點的讀者也許還記得，七年前Pentium(586)的時代，其CPU是采“卷帶自動結(jié)合(TAB)的封裝方式。此大型晶片封裝完工之多腳組件，下游還要進行板面的貼焊組裝。該QFP四邊外伸貼焊之I/O共得320腳，單邊80只平行伸腳彼此之密集櫛比，逼得承接的長方焊墊也隨之并肩鱗次，密密麻麻，方寸之間逼得相鄰腳墊之跨距(Pitch)擁擠到不足10mil!墊寬(Width)*5mil，墊距(SPacing)更在5mil以下的艱困境界。如此之密距多墊及狹面之高難度錫膏印刷，有誰能夠保證不出差錯？即使錫膏印刷得以過關(guān)，其后續(xù)的放置(Placement)踩腳與高溫熔焊(Reflow)之二種更難工序。浙江共感電鍍有限公司為您提供 電鍍產(chǎn)品，歡迎新老客戶來電！

電鍍工藝是利用電解的原理將導(dǎo)電體鋪上一層金屬的方法。電鍍是指在含有預(yù)鍍金屬的鹽類溶液中，以被鍍基體金屬為陰極，通過電解作用，使鍍液中預(yù)鍍金屬的陽離子在基體金屬表面沉積出來，形成鍍層的一種表面加工方法。鍍層性能不同于基體金屬，具有新的特征。根據(jù)鍍層的功能分為防護性鍍層，裝飾性鍍層及其它功能性鍍層。電鍍時，鍍層金屬或其他不溶性材料做陽極，待鍍的工件做陰極，鍍層金屬的陽離子在待鍍工件表面被還原形成鍍層。能增強金屬的抗腐蝕性（鍍層金屬多采用耐腐蝕的金屬）、增加硬度、防止磨耗、提高導(dǎo)電性、光滑性、耐熱性和表面美觀。中文名電鍍工藝屬性表面加工方法類屬防護性鍍層原理電化學(xué)目錄1基本原理2電鍍分類3工藝過程4工藝要求5影響因素6鍍件清洗劑7超聲波清洗8電鍍工藝的評價9電鍍工藝參數(shù)的管理電鍍工藝基本原理編輯電鍍是一種電化學(xué)過程，也是一種氧化還原過程.電鍍的基本過程是將零件浸在金屬鹽的溶液中作為陰極，金屬板作為陽極，接直流電源后，在零件上沉積出所需的鍍層。例如鍍鎳時，陰極為待鍍零件，陽極為純鎳板，在陰陽極分別發(fā)生如下反應(yīng)：陰極(鍍件)：Ni2++2e→Ni(主反應(yīng))2H++2e→H2↑(副反應(yīng))陽極(鎳板)：Ni-2e→Ni2+。浙江共感電鍍有限公司是一家專業(yè)提供 電鍍產(chǎn)品的公司，歡迎您的來電！遼寧電鍍概念

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則具有加大油門的效果而加速電鍍之進行。極限電流密度(LimitedCurrentDensity)現(xiàn)場電鍍操作中，提升電壓的同時電流也將隨之加大。從實用電流密度的觀點而言，可分為三個階段（參考下圖）:壓起步階段中其電流增加得十分緩慢，故不利于量產(chǎn)。1.一直到達某個電壓階段時電流才會快速增加，此段陡翹曲線的領(lǐng)域,正是一般電鍍量產(chǎn)的操作范圍。2.曲線到了高原后，即使再逐漸增加電壓，但電流的上升卻是極不明顯。此時已到達正常電鍍其電流密度的極限(1lim)。此時若再繼續(xù)增加電壓而迫使電流超出其極限時，則鍍層結(jié)晶會變粗甚至成*或粉化，并產(chǎn)生大量的氫氣。此一階段所形成之劣質(zhì)鍍層當然是無法受用的，但銅箔毛面棱線上的銅*，卻是刻意超出極限之制作，而強化抓地力的意外用途。以下即為陰極待鍍件在其極電流強(Ilim)與電流密度(Jlim)的公式與說明，后者尤其常見于各種有關(guān)電鍍的文章中?！癖诲兗畼O限電流強度為(單位是安培A):Ilim=●被鍍件之極限電密度為(單位是ASF；A/fi2或ASD；A*/dm2)Jlim=●超過極限電流之電鍍層，由于沉積與堆積太快的作用下，將使得結(jié)晶粗糙不堪，形成*狀或粉狀外表無光澤之劣質(zhì)鍍層，常呈現(xiàn)灰白狀或暗色之外觀，故稱之為燒焦(Burning)。湖南電鍍