浙江晶片納米壓印

來源: 發(fā)布時間:2024-10-25

EVG®510HE是EVG500系列的熱壓印系統(tǒng)。EVGroup的一系列高精度熱壓印系統(tǒng)基于該公司市場領仙的晶圓鍵合技術。出色的壓力和溫度控制以及大面積的均勻性可實現(xiàn)高精度的壓印。熱壓印是一種經濟高效且靈活的制造技術,對于尺寸低至50nm的特征,其復制精度非常高。該系統(tǒng)非常適合將復雜的微結構和納米結構以及高縱橫比的特征壓印到各種聚合物基材或旋涂聚合物中。壓模與基板對準的組合可將熱壓紋與預處理的基板結構對準。這個系列包含的型號有:EVG®510HE,EVG®520HE。NIL已被證明是能夠在大面積上制造納米圖案的蕞經濟、高效的方法。浙江晶片納米壓印

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EVG®520HE特征:用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印和納米壓印應用自動化壓花工藝EVG專有的獨力對準工藝,用于光學對準的壓印和壓印氣動壓花選項軟件控制的流程執(zhí)行EVG®520HE技術數(shù)據加熱器尺寸:150毫米,200毫米蕞大基板尺寸:150毫米,200毫米蕞小基板尺寸:單芯片,100毫米蕞大接觸力:10、20、60、100kN最高溫度:標準:350°C;可選:550°C粘合卡盤系統(tǒng)/對準系統(tǒng)150毫米加熱器:EVG®610,EVG®620,EVG®6200200毫米加熱器:EVG®6200,MBA300,的SmartView®NT真空:標準:0.1毫巴可選:0.00001mbar 浙江晶片納米壓印SmartNIL集成多次使用的軟標記處理功能,并具有顯著的擁有成本的優(yōu)勢,同時保留可擴展性和易于維護的特點。

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UV-NIL/SmartNIL納米壓印系統(tǒng)EVGroup為基于紫外線的納米壓印光刻(UV-NIL)提供完整的產品線,包括不同的單步壓印系統(tǒng),大面積壓印機以及用于高效母版制作的分步重復系統(tǒng)。除了柔軟的UV-NIL,EVG還提供其專有的SmartNIL技術以及多種用途的聚合物印模技術。高效,強大的SmartNIL工藝可提供高圖案保真度,高度均勻的圖案層和蕞少的殘留層,并具有易于調整的晶圓尺寸和產量。EVG的SmartNIL兌現(xiàn)了納米壓印的長期承諾,即納米壓印是一種用于大規(guī)模生產微米和納米級結構的高性能,低成本和具有批量生產能力的技術。這個系列的型號包括:EVG®610;EVG®620NT;EVG®6200NT;EVG®720;EVG®7200;EVG®7200LA;HERCULES®NIL;EVG®770;IQAligner®。

世界lingxian的衍射波導設計商和制造商WaveOptics宣布與EVGroup(EVG)進行合作,EVGroup是晶圓鍵合和納米壓印光刻設備的lingxian供應商,以帶來高性能增強現(xiàn)實(AR)波導以當今業(yè)界的低成本進入大眾市場。波導是可穿戴AR的關鍵光學組件。WaveOptics首席執(zhí)行官DavidHayes評論:“這一合作伙伴關系標志著增強現(xiàn)實行業(yè)的轉折點,是大規(guī)模生產高質量增強現(xiàn)實解決方案的關鍵步驟,這是迄今為止尚無法實現(xiàn)的能力。”EVG的專業(yè)知識與我們可擴展的通用技術的結合將使到明年年底,AR終端用戶產品的市場價格將低于600美元?!斑@項合作是釋放AR可穿戴設備發(fā)展的關鍵;我們共同處于有利位置,可以在AR中引入大眾市場創(chuàng)新,以比以往更低的成本開辟了可擴展性的新途徑。分步重復刻印通常用于高效地制造晶圓級光學器件制造或EVG的Smart NIL工藝所需的母版。

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HERCULES®NIL完全集成SmartNIL®的UV-NIL紫外光納米壓印系統(tǒng)。EVG的HERCULES®NIL產品系列HERCULES®NIL完全集成SmartNIL®UV-NIL系統(tǒng)達200毫米對于大批量制造的完全集成的納米壓印光刻解決方案,具有EVG's專有SmartNIL®印跡技術HERCULESNIL是完全集成的UV納米壓印光刻跟蹤解決方案,適用于ZUI大200mm的晶圓,是EVG的NIL產品組合的ZUI新成員。HERCULESNIL基于模塊化平臺,將EVG專有的SmartNIL壓印技術與清潔,抗蝕劑涂層和烘烤預處理步驟相結合。這將HERCULESNIL變成了“一站式服務”,將裸露的晶圓裝載到工具中,然后將經過完全處理的納米結構晶圓退回。EVG770是用于步進重復納米壓印光刻的通用平臺,可用于進行母版制作或對基板上的復雜結構進行直接圖案化。碳化硅納米壓印值得買

SmartNIL可以實現(xiàn)無人能比的吞吐量。浙江晶片納米壓印

IQAlignerUV-NIL自動化紫外線納米壓印光刻系統(tǒng)應用:用于晶圓級透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印系統(tǒng)IQAlignerUV-NIL系統(tǒng)允許使用直徑從150mm至300mm的壓模和晶片進行微成型和納米壓印工藝,非常適合高度平行地制造聚合物微透鏡。該系統(tǒng)從從晶圓尺寸的主圖章復制的軟性圖章開始,提供了混合和整體式微透鏡成型工藝,可以輕松地將其與工作圖章和微透鏡材料的各種材料組合相適應。此外,EVGroup提供合格的微透鏡成型工藝,包括所有相關的材料專業(yè)知識。EVGroup專有的卡盤設計可為高產量大面積印刷提供均勻的接觸力。配置包括從壓印基材上釋放印章的釋放機制。浙江晶片納米壓印