佛山哪家蝕刻液蝕刻液按需定制

來源: 發(fā)布時(shí)間:2023-10-24

    所述液體入口1處設(shè)有減壓閥12,所述蒸汽出口5處設(shè)有真空泵13、除霧組件3及除沫組件4,所述除霧組件3用于過濾分離器中閃蒸的蒸汽中的含銅液體,所述除沫組件4用于將經(jīng)除霧組件3除霧的氣體進(jìn)行除沫。含銅蝕刻液在加熱器11中進(jìn)行加熱,達(dá)到閃蒸要求的溫度,輸送至分離器,通過減壓閥12減壓,真空泵13對(duì)分離器內(nèi)抽氣,使分離器內(nèi)處于低壓狀態(tài),含銅蝕刻液在分離器內(nèi)發(fā)生閃蒸,閃蒸產(chǎn)生大量蒸汽,蒸汽中攜帶著大小不等的液滴,大液滴中含有銅,通過除霧組件3和除沫組件4對(duì)蒸汽進(jìn)行分離過濾,也可以防止大液滴從蒸汽出口5飛出,減少產(chǎn)品損失。在一個(gè)實(shí)施例中,如圖1所示,所述除霧組件3為設(shè)有多個(gè)平行且曲折的通道的折流板。液體在隨著氣體上升時(shí)會(huì)有慣性,因?yàn)橐后w與氣體的質(zhì)量不同,他們的慣性也不同,當(dāng)夾帶著液體的氣體以一定速度通過折流板曲折的通道時(shí),液體流動(dòng)的方向不斷在曲折的通道中發(fā)生變化,液體的慣性較大,依舊保持原來的運(yùn)動(dòng)方向,從氣體中脫離,撞擊折流板壁面從而被擋下,氣體則順利通過折流板通道排出,被擋下的液體在壁面上匯集成液流,因重力的作用從折流板上流下。在一個(gè)實(shí)施例中,如圖1所示,所述除沫組件4為絲網(wǎng)。因?yàn)槌F組件3中的撞擊過程。蝕刻液應(yīng)用于什么樣的場(chǎng)合?佛山哪家蝕刻液蝕刻液按需定制

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    silane)系偶聯(lián)劑和水,上述硅烷系偶聯(lián)劑使上述硅烷系偶聯(lián)劑的反應(yīng)位點(diǎn)(activesite)的數(shù)量除以上述硅烷系偶聯(lián)劑的水解(hydrolysis)了的形態(tài)的分子量之后乘以。此外,提供一種選擇硅烷系偶聯(lián)劑的方法,其是選擇用于在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性蝕刻上述氮化物膜的蝕刻液組合物的硅烷系偶聯(lián)劑的方法,其特征在于,選擇上述硅烷系偶聯(lián)劑的反應(yīng)位點(diǎn)(activesite)的數(shù)量除以上述硅烷系偶聯(lián)劑的水解(hydrolysis)了的形態(tài)的分子量之后乘以。發(fā)明效果本發(fā)明的蝕刻液組合物提供即使不進(jìn)行另外的實(shí)驗(yàn)確認(rèn)也能夠選擇在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性蝕刻氮化物膜的效果和防蝕能力優(yōu)異的硅烷系偶聯(lián)劑的效果。此外,本發(fā)明的蝕刻液組合物提供在不損傷氧化物膜的同時(shí)*選擇性蝕刻氮化物膜的效果。附圖說明圖1是示出3dnand閃存(flashmemory)制造工序中的一部分的圖。圖2和圖3是示出制造3dnand閃存時(shí)氮化物膜去除工序(濕法去除氮化物(wetremovalofnitride))中所發(fā)生的工序不良的圖。圖4是示出能夠?qū)?dnand閃存制造工序中發(fā)生的副反應(yīng)氧化物的殘留以及氧化物膜損傷不良**少化的、硅烷系偶聯(lián)劑適宜防蝕能力范圍的圖。圖5是示出硅烷系偶聯(lián)劑的aeff值與蝕刻程度。綿陽哪家蝕刻液蝕刻液廠家現(xiàn)貨蝕刻液適用于哪些行業(yè)。

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    將裝置主體1內(nèi)部的蝕刻液進(jìn)行清洗,具有很好的清理作用。工作原理:對(duì)于這類的回收處理裝置,首先將蝕刻液倒入進(jìn)液漏斗6并由過濾網(wǎng)7過濾到進(jìn)液管8中,之后蝕刻液流入到承載板3上的電解池4中時(shí),啟動(dòng)液壓缸11帶動(dòng)伸縮桿12向上移動(dòng),從而通過圓環(huán)塊13配合連接桿14和伸縮管9帶動(dòng)噴頭10向上移動(dòng),進(jìn)而將蝕刻液緩慢的由噴頭10噴入到電解池4中,避免蝕刻液對(duì)電解池4造成沖擊而影響其使用壽命,具有保護(hù)電解池4的功能,之后金屬銅在隔膜5左側(cè)析出;其次在蝕刻液初次電解后,通過控制面板30啟動(dòng)增壓泵16并打開一號(hào)電磁閥18,將蝕刻液通過回流管15抽入到一號(hào)排液管17中,并由進(jìn)液管8導(dǎo)入到伸縮管9中,直至蝕刻液由噴頭10重新噴到電解池4中,可以充分的將蝕刻液中的亞銅離子電解轉(zhuǎn)化為金屬銅,起到循環(huán)電解蝕刻液的作用,然后打開二號(hào)電磁閥23,將蝕刻液通過二號(hào)排液管22導(dǎo)入到分隔板2左側(cè),傾斜板24使得蝕刻液向左流動(dòng)以便排出到裝置主體1外,接著啟動(dòng)抽氣泵19,將電解池4中產(chǎn)生的有害氣體抽入到排氣管20并導(dǎo)入到集氣箱21中,實(shí)現(xiàn)有害氣體的清理,緊接著打開活動(dòng)板25將金屬銅取出,之后啟動(dòng)增壓泵16并打開三號(hào)電磁閥29,將由進(jìn)水管27導(dǎo)入到蓄水箱26中的清水。

    本實(shí)用涉及蝕刻設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,具體為一種ito蝕刻液制備裝置。背景技術(shù):蝕刻是將材料使用化學(xué)反應(yīng)或物理撞擊作用而移除的技術(shù),蝕刻技術(shù)分為濕蝕刻和干蝕刻,其中,濕蝕刻是采用化學(xué)試劑,經(jīng)由化學(xué)反應(yīng)達(dá)到蝕刻的目的,薄膜場(chǎng)效應(yīng)晶體管液晶顯示器(tft~lcd)、發(fā)光二極管(led)、有機(jī)發(fā)光二極管(oled)等行業(yè)用作面板過程中銦錫氧化物半導(dǎo)體透明導(dǎo)電膜(ito)的蝕刻通常采用鹽酸和硝酸的混合水溶液?,F(xiàn)有的制備裝置在進(jìn)行制備時(shí)會(huì)發(fā)***熱反應(yīng),使得裝置外殼穩(wěn)定較高,工作人員直接接觸有燙傷風(fēng)險(xiǎn),熱水與鹽酸接觸會(huì)產(chǎn)生較為劇烈的反應(yīng),濺出容易傷害工作人員,保護(hù)性不足,鹽酸硝酸具有較強(qiáng)的腐蝕性,常規(guī)的攪拌裝置容易被腐蝕,影響蝕刻液的質(zhì)量,用防腐蝕的聚四氟乙烯攪拌漿進(jìn)行攪拌,成本過高,且混合的效果不好。所以,如何設(shè)計(jì)一種ito蝕刻液制備裝置,成為當(dāng)前要解決的問題。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:本實(shí)用新型的目的在于提供一種ito蝕刻液制備裝置,以解決上述背景技術(shù)中提出的ito蝕刻液制備裝置保護(hù)性不足、不具備很好的防腐蝕性和混合的效果不好的問題。為實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案:一種ito蝕刻液制備裝置,包括制備裝置主體、高效攪拌裝置和過濾除雜裝置。蝕刻液的技術(shù)指標(biāo)哪家比較好?

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    近年來,oled顯示器廣泛應(yīng)用于手機(jī)和平板顯示。金屬銀以優(yōu)異的電導(dǎo)率和載流子遷移率被廣泛應(yīng)用于oled顯示器的陽極布線(ito/ag/ito)結(jié)構(gòu)中。為了對(duì)此進(jìn)行蝕刻,目前主要使用基于磷酸、硝酸、醋酸和硝酸鹽的濕蝕刻液(cna)。這樣的體系雖然能有效去除金屬銀,但在實(shí)際使用過程中仍會(huì)存在少量的銀殘留或銀再吸附沉積問題。4.本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題在于如何解決現(xiàn)有的銀蝕刻液在使用過程中存在少量的銀殘留、銀再吸附沉積問題。5.本發(fā)明通過以下技術(shù)手段實(shí)現(xiàn)解決上述技術(shù)問題的:6.一種銀蝕刻液組合物,其成分由質(zhì)量占比為40-60%磷酸、2-10%硝酸、%有機(jī)酸、%硝酸鹽、%含氮元素有機(jī)物、其余為水組成。 ITO蝕刻液的配方是什么?綿陽銅鈦蝕刻液蝕刻液批量定制

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    圖7:本實(shí)用新型蝕刻設(shè)備其一較佳實(shí)施例的擋液板結(jié)構(gòu)運(yùn)作局部放大圖。圖8:本實(shí)用新型蝕刻設(shè)備其一較佳實(shí)施例的擋液板結(jié)構(gòu)結(jié)合風(fēng)刀裝置示意圖。圖9:本實(shí)用新型蝕刻設(shè)備其一較佳實(shí)施例的宣泄孔的表面張力局部放大圖。圖10:本實(shí)用新型蝕刻設(shè)備其二較佳實(shí)施例的擋液板結(jié)構(gòu)結(jié)合風(fēng)刀裝置示意圖。圖11:本實(shí)用新型蝕刻設(shè)備其三較佳實(shí)施例的擋液板結(jié)構(gòu)結(jié)合風(fēng)刀裝置示意圖。圖12:本實(shí)用新型擋液板結(jié)構(gòu)其二較佳實(shí)施例的宣泄孔的表面張力局部放大圖。圖13:本實(shí)用新型蝕刻方法的步驟流程圖。圖號(hào)說明:傳統(tǒng)擋液板結(jié)構(gòu)a擋液板結(jié)構(gòu)b風(fēng)刀c氣體本實(shí)用新型1蝕刻設(shè)備10擋液板結(jié)構(gòu)11***擋板12第二擋板121宣泄孔1211***壁面1212第二壁面122下表面123上表面13第三擋板20基板30輸送裝置31滾輪40風(fēng)刀裝置41***風(fēng)刀42第二風(fēng)刀43氣體50噴灑裝置51藥液s1步驟一s2步驟二s3步驟三s4步驟四h長(zhǎng)度θ夾角θ1***夾角θ2第二夾角θ3第三夾角θ4接觸角a0孔徑a1上孔徑a2下孔徑w、w1、w2距離。具體實(shí)施方式首先,請(qǐng)參閱圖2與圖3所示,為本實(shí)用新型擋液板結(jié)構(gòu)其一較佳實(shí)施例的整體結(jié)構(gòu)示意圖,以及宣泄孔排列示意圖,其中本實(shí)用新型的擋液板結(jié)構(gòu)10適用于一濕式蝕刻機(jī)(圖式未標(biāo)示)。佛山哪家蝕刻液蝕刻液按需定制