江西電子級BOE蝕刻液聯(lián)系方式

來源: 發(fā)布時間:2023-09-26

離子膜電解法是電解槽30陽極可以為石墨板或鈦陽極板,陰極為鈦板,用離子膜將陽極液和陰極液隔離開,陽極為需要再生的蝕刻母液,陰極為銅離子20~100g/l,酸度,電解槽30由數(shù)個單元電解槽串聯(lián)組成,單元電解槽30由一個或者數(shù)個陽極??蚪M成,酸性蝕刻廢液經(jīng)循環(huán)槽20陽極循環(huán)區(qū)229進(jìn)入電解陽極區(qū)301,溢流回循環(huán)槽20蝕刻循環(huán)區(qū)230。調(diào)整好循環(huán)槽20的陰極循環(huán)區(qū)231的開槽銅離子濃度20~100g/l,經(jīng)電解槽30陰極然后溢流回循環(huán)槽20陰極循環(huán)區(qū)231完成正常循環(huán),電解過程中陰極鈦板生成金屬銅,一定時間后銅可以剝離下來,剩下的廢水成為再生液,再生液因電解使銅離子濃度越來越低,酸度上升,同時比重下降時,通過比重自動添加器添加母液來提高再生液銅離子的濃度。上海和輝光電用的哪家的BOE蝕刻液?江西電子級BOE蝕刻液聯(lián)系方式

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    感光、顯影感光(爆光)是將菲林放在已經(jīng)噴了感光油的產(chǎn)品上面,主要的目的是通過爆光讓菲林上的圖案在產(chǎn)品上形成,感光(爆光)過程中要特別注意夾具一定要放好,菲林不能歪斜,否則產(chǎn)品圖案就會出現(xiàn)歪斜現(xiàn)象,從而產(chǎn)生不良品,而菲林也要定期檢查,不能出現(xiàn)折疊現(xiàn)象,否則也會出現(xiàn)不良品。感光(爆光)完成后就要進(jìn)行下一步工作:顯影;顯影的目的是通過顯影藥水將未爆光的地方?jīng)_走,經(jīng)過爆光的地方固化,形成蝕刻圖案,經(jīng)過顯影后質(zhì)檢員對產(chǎn)品進(jìn)行檢查,把顯影不到的地方或圖案不良的產(chǎn)品挑選出來,良品則進(jìn)入下一道工序:封油。

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    三氯化鐵蝕刻液在印制電路、電子和金屬精飾等工業(yè)中被采用,一般用來蝕刻銅、銅合金、不銹鋼、鐵及鋅、鋁等。雖然近些年來越來越要求再生容易,更加環(huán)保的蝕刻液,但由于三氯化鐵蝕刻液它的工藝穩(wěn)定,操作方便,價格便宜,因此還仍然被廣大蝕刻加工企事業(yè)單位采用。三氯化鐵蝕刻液適用于網(wǎng)印抗蝕印料、液體感光膠、干膜、鍍金抗蝕層等抗蝕層的印制板的蝕刻。(但不適用于鎳、錫、錫-鉛合金等抗蝕層)1.蝕刻時的主要化學(xué)反應(yīng)三氯化鐵蝕刻液對銅箔的蝕刻是一個氧化-還原過程。在銅表面Fe3+使銅氧化成氯化亞銅。同時Fe3+被還原成Fe2+。FeCl3+Cu→FeCl2+CuClCuCl具有還原性,可以和FeCl3進(jìn)一步發(fā)生反應(yīng)生成氯化銅。FeCl3+CuCl→FeCl2+CuCl2Cu2+具有氧化性,與銅發(fā)生氧化反應(yīng):CuCl2+Cu→2CuCl所以,F(xiàn)eCl3蝕刻液對Cu的蝕刻時靠Fe3+和Cu2+共同完成的。其中Fe3+的蝕刻速率快,蝕刻質(zhì)量好;而Cu2+的蝕刻速率慢,蝕刻質(zhì)量差。新配制的蝕刻液中只有Fe3+,所以蝕刻速率較快。但是隨著蝕刻反應(yīng)的進(jìn)行,F(xiàn)e3+不斷消耗,而Cu2+不斷增加。當(dāng)Fe3+消耗掉35%時,Cu2+已增加到相當(dāng)大的濃度,這時Fe3+和Cu2+對Cu的蝕刻量幾乎相等;當(dāng)Fe3+消耗掉50%時。 BOE蝕刻液的價格哪家比較優(yōu)惠?山東如何分類BOE蝕刻液報價

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蝕刻是印制電路板制造的重要工序,電路板廠生產(chǎn)過程中產(chǎn)生大量高銅蝕刻廢液,蝕刻廢液屬于危險液體廢物,含有大量的銅、氯等污染成分,如果不經(jīng)過嚴(yán)格的處理就直接排放到環(huán)境中,不僅造成資源的浪費和損失,而且也會對人類和自然環(huán)境造成很大的危害。

另外,蝕刻廢液中的銅離子及氯離子也具有很高的回收價值,在當(dāng)今資源日益緊缺且環(huán)境形勢日益嚴(yán)峻的境況下,如何嚴(yán)格并妥當(dāng)處理這么大產(chǎn)量的廢液是個十分重要的問題。從上世紀(jì)50年代起,印制電路板的制作過程中便出現(xiàn)了化學(xué)蝕刻這一步,用化學(xué)蝕刻的方法將基材上布置線路所用的多余的銅蝕刻下去,從而使得線路凸顯在板材上,使得它形成一個完整的電路回路的過程就叫做蝕刻工藝。工藝開始時,將一塊完整的銅箔附著在基材上,將電回路刻畫在其上,并用錫附著在其上,保證電回路不被蝕刻下來,保證這構(gòu)成電回路的銅完整?;瘜W(xué)蝕刻法已經(jīng)成為了印制電路板過程的不可或缺的一步?,F(xiàn)如今,應(yīng)用于工業(yè)生產(chǎn)的蝕刻液應(yīng)當(dāng)具備的以下六點技術(shù)性能:1、蝕刻液要能保證抗蝕保護(hù)層或者抗電鍍保護(hù)層的不被蝕刻的性能要求。2、蝕刻工藝條件(溫度、外界環(huán)境等)范圍寬,作業(yè)環(huán)境相對良好(不能有太多揮發(fā)性有毒氣體),并且能夠有效地實行自動 江西電子級BOE蝕刻液聯(lián)系方式