嘉興哪家蝕刻液剝離液哪里買

來源: 發(fā)布時(shí)間:2023-06-05

    所述硫脲類緩蝕劑包括硫脲、苯基硫脲或月桂酰基硫脲中的一種。具體的,所述聚氧乙烯醚類非離子型表面活性劑為聚氧乙烯聚氧丙烯單丁基醚、壬基酚聚氧乙烯醚、辛基酚聚氧乙烯醚、十二烷基聚氧乙烯醚、二壬基酚聚氧乙烯醚中的一種。采用上述技術(shù)方案,本發(fā)明技術(shù)方案的有益效果是:本用于疊層晶圓的光刻膠剝離液具有較快的剝離速度,對(duì)金屬的腐蝕率低,而且使用壽命長(zhǎng)。具體實(shí)施方式本發(fā)明涉及一種用于疊層晶圓的光刻膠剝離液,配方包括10~20wt%二甲基亞砜,10~20wt%一乙醇胺,5~11wt%四甲基氫氧化銨,~1wt%硫脲類緩蝕劑和~2wt%聚氧乙烯醚類非離子型表面活性劑,5~15wt%n-甲基吡咯烷酮和余量的去離子水。聚氧乙烯醚類非離子型表面活性劑因?yàn)榉肿又械拿焰I不易被酸、堿破壞,所以穩(wěn)定性較高,水溶性較好,耐電解質(zhì),易于生物降解,泡沫小。硫脲類緩蝕劑呈現(xiàn)弱堿性,所以在酸性介質(zhì)中能夠起到緩蝕的效果,另外與聚氧乙烯醚類非離子型表面活性劑和n-甲基吡咯烷酮配合可以起到提高處理量的作用。下面結(jié)合具體實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)說明。使用剝離液需要什么條件。嘉興哪家蝕刻液剝離液哪里買

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根據(jù)對(duì)華新光電、日東集團(tuán)的剝離液成分進(jìn)行分析得知,剝離液主要成分為單乙醇胺(MEA),二甲亞砜(DMS0)和二乙二醇單丁醚(BDG),其中市場(chǎng)上大部分以二乙二醇單丁醚居多。剝離液廢液多呈深黑色且氣味大,由以下幾種組分構(gòu)成:(1)、1~20%重量的醇胺或者酰胺,以伯胺和腫胺為主。(2)、10~60%重量的醇;(3)、10~50%重量的水;(4)、5~50%重量的極性有機(jī)溶劑,如;N-甲基吡咯烷酮(NMP),環(huán)丁基砜、二甲基亞砜(DMSO)、二甲基乙酰胺、N-乙基甲酰胺等。(5)、0.001~3%重量的金屬抗蝕劑,如2-氨基環(huán)己醇、2-氨基環(huán)戊醇等。根據(jù)上述分析可以看出,剝離液中大部分是有機(jī)溶劑,可以加以回收資源化利用,或者將剝離廢液進(jìn)行脫色凈化處理后再用于生產(chǎn)中,配成剝離液。當(dāng)前國(guó)內(nèi)主要產(chǎn)生剝離液的廠家主要分布在天津及深圳一帶,均是高新技術(shù)發(fā)達(dá)區(qū)域,隨著國(guó)內(nèi)經(jīng)濟(jì)及城市的發(fā)展,剝離液產(chǎn)廢地點(diǎn)將越來越***,也將引起環(huán)保**的重視及關(guān)注。剝離液主要產(chǎn)廢廠家諸如上海和輝光電有限公司、深圳市聚飛光電股份有限公司、深圳市三利譜光電科技股份有限公司、深圳市聯(lián)建光電服份有限公司、深圳成光興光電技術(shù)股份有限公司、蕪湖銀蝕刻液剝離液費(fèi)用是多少蘇州性價(jià)比較好的剝離液的公司聯(lián)系電話。

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常在印刷電路板,液晶顯示面板,半導(dǎo)體集成電路等工藝制造過程中,需要通過多次圖形掩膜照射曝光及蝕刻等工序在硅晶圓或玻璃基片上形成多層精密的微電路,形成微電路之后,進(jìn)一步用剝離液將涂覆在微電路保護(hù)區(qū)域上作為掩膜的光刻膠除去。比如光電TFT-LCD生產(chǎn)工藝主要包含光阻涂布、顯影、去光阻、相關(guān)清洗作業(yè)四大階段,其中在去光阻階段會(huì)產(chǎn)生部分剝離液。印制電路板生產(chǎn)工藝相當(dāng)復(fù)雜。不僅設(shè)備和制造工藝的科技含量高,工藝流程長(zhǎng),用水量大,而且所用的化學(xué)藥品(包括各種添加劑)種類多、用量大。因此,在用減成法生產(chǎn)印刷線路板的過程中,產(chǎn)污環(huán)節(jié)多,種類繁雜,物料損耗大??煞譃楦煞庸?設(shè)計(jì)和布線、模版制作、鉆孔、貼膜、曝光和外形加工等)和濕法加工(內(nèi)層板黑膜氧化、去孔壁樹脂膩污、沉銅、電鍍、顯影、蝕刻、脫膜、絲印、熱風(fēng)整平等)過程。其中在脫模(剝膜)工序?yàn)榱嗣摮龔U舊電路板表面殘留焊錫,需用硝酸為氧化劑,氨基磺酸為穩(wěn)定劑,苯并三氮唑?yàn)殂~的緩蝕劑進(jìn)行操作,整個(gè)工序中會(huì)產(chǎn)生大量的剝離液,有機(jī)溶劑成分較大。

按照組成成分和應(yīng)用工藝不同,濕電子化學(xué)品可分為通用性和功能性濕電子化 學(xué)品。通用濕電子化學(xué)品以超凈高純?cè)噭橹?,一般為單組份、單功能、被大量使 用的液體化學(xué)品,按照性質(zhì)劃分可分為:酸類、堿類、有機(jī)溶劑類和其他類。酸類 包括氫氟酸、硝酸、鹽酸、硫酸、磷酸等;堿類包括氨水、氫氧化鈉、氫氧化鉀等;有機(jī)溶劑類包括甲醇、乙醇、異丙醇、**、乙酸乙酯等;其他類包括雙氧水等。功能濕電子化學(xué)品指通過復(fù)配手段達(dá)到特殊功能、滿足制造中特殊工藝需求的復(fù)配 類化學(xué)品,即在單一的超凈高純?cè)噭ɑ蚨喾N超凈高純?cè)噭┑呐浜希┗A(chǔ)上,加入 水、有機(jī)溶劑、螯合劑、表面活性劑混合而成的化學(xué)品。例如剝離液、顯影液、蝕 刻液、清洗液等。由于多數(shù)功能濕電子化學(xué)品是復(fù)配的化學(xué)品,是混合物,它的理 化指標(biāo)很難通過普通儀器定量檢測(cè),只能通過應(yīng)用手段來評(píng)價(jià)其有效性。哪家的剝離液價(jià)格比較低?

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1.顯影液:顯影液是一種溶液,用于在PCB板上顯示銅線軌道的比例和位置,使其成為可以用于焊接元件的良好的PCB板。2.剝離液:剝離液是一種特殊的溶劑,用于將PCB板上的銅線軌道剝離開,以便重新焊接元件。3.蝕刻液:蝕刻液是一種酸性溶液,用于將PCB板上的銅線軌道腐蝕掉,以便重新焊接元件。4.清洗液:清洗液是一種混合物,用于將PCB板上的塵埃、污垢和其他殘留物消除干凈,以便進(jìn)行焊接和裝配。

1.顯影液:是指用于顯影制版的液體,一般由溶劑、硫酸銅、有機(jī)酸和抗氧化劑等組成。2.剝離液:是指用于把制版上的顯影膜剝離出來的液體,一般由硝酸鋁、硫酸鈉等組成。3.蝕刻液:是指用于蝕刻制版的液體,一般由硝酸銅、硝酸鈉、硝酸鋅等組成。4.清洗液:是指用于清洗制版的液體,一般由水、硝酸、硫酸、乙醇等組成。 銅剝離液的配方是什么?嘉興哪家蝕刻液剝離液哪里買

哪家公司的剝離液的有售后?嘉興哪家蝕刻液剝離液哪里買

    具體實(shí)施方式現(xiàn)有技術(shù)中剝離液廢液中含有光刻膠樹脂、水和某些金屬雜質(zhì),而剝離液廢液的處理主要是通過焚燒或者低水平回收,其大量的使用但不能夠有效地回收,或者回收后需要通過大量的時(shí)間分析其含量以及花大量時(shí)間進(jìn)行再生處理,影響了剝離液廢液的利用率。本發(fā)明對(duì)于已知的剝離液的含量以及比例有預(yù)先的了解,通過預(yù)先制定添加劑的方法,將添加劑以及某些原材料加入后重新制備剝離液新液。本發(fā)明中對(duì)于回收的剝離液廢液的進(jìn)一步處理加工,是采用現(xiàn)有技術(shù)中加壓、蒸餾等方式,可以是采用階段性變壓精餾塔進(jìn)行加壓、蒸餾處理。表1:已知的剝離液新液的組分:表二:添加劑的組分組分比例:純化液體的組分表四:制備剝離液新液在對(duì)純化液體進(jìn)行加工處理,重新制備剝離液新液的過程中,需要預(yù)先制備添加劑,該添加劑中不含有酰胺化合物,而通過表四中可以得出,制備過程中在純化液體中加入添加劑以及nmf或bdg重新得出與表1組分相同的剝離液新液,該剝離液新液能夠達(dá)到表1中剝離液新液相同的成分以及相同或大致相同的技術(shù)效果。對(duì)所公開的實(shí)施例的上述說明,使本領(lǐng)域?qū)I(yè)技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)或使用本發(fā)明。對(duì)這些實(shí)施例的多種修改對(duì)本領(lǐng)域的專業(yè)技術(shù)人員來說將是顯而易見的。嘉興哪家蝕刻液剝離液哪里買

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