安慶銅鈦蝕刻液蝕刻液溶劑

    如上所述的擋液板結(jié)構(gòu)，其中宣泄孔的孔徑小于3毫米(millimeter，mm)。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu)，其中宣泄孔為千鳥(niǎo)排列或矩陣排列等其中的一種排列方式。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu)，其中宣泄孔為直通孔或斜錐孔等其中的一種態(tài)樣或兩者的混合。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu)，其中宣泄孔具有一***壁面，以及一第二壁面，且第二擋板具有一下表面，當(dāng)宣泄孔為斜錐孔態(tài)樣時(shí)，***壁面與下表面的***夾角不同于第二壁面與下表面的第二夾角。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu)，其中當(dāng)宣泄孔為斜錐孔態(tài)樣時(shí)，宣泄孔的上孔徑與下孔徑不相等。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu)，其中當(dāng)宣泄孔為斜錐孔態(tài)樣時(shí)，宣泄孔的上孔徑小于下孔徑。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu)，其中當(dāng)宣泄孔為斜錐孔態(tài)樣時(shí)，宣泄孔由第二擋板的下表面朝向上表面的方向漸縮。此外，為了達(dá)到上述的實(shí)施目的，本實(shí)用新型另提出一種蝕刻設(shè)備，設(shè)置于一濕式蝕刻機(jī)的一槽體內(nèi)，蝕刻設(shè)備至少包括有一如上所述的擋液板結(jié)構(gòu)、一基板、一輸送裝置，以及一風(fēng)刀裝置；基板設(shè)置于擋液板結(jié)構(gòu)的下方；輸送裝置設(shè)置于基板的下方，輸送裝置包括有至少一滾輪，其中滾輪與基板接觸以運(yùn)行基板；風(fēng)刀裝置設(shè)置于擋液板結(jié)構(gòu)的一端部，風(fēng)刀裝置包括有一設(shè)置于基板上方的***風(fēng)刀。哪家的蝕刻液價(jià)格比較低？安慶銅鈦蝕刻液蝕刻液溶劑

    經(jīng)除霧組件3除霧后的氣體會(huì)夾帶著泡沫，泡沫中還是含有銅元素，為進(jìn)一步提高回收效率，需對(duì)氣體和泡沫進(jìn)行分離，泡沫與絲網(wǎng)碰撞時(shí)會(huì)吸附在絲網(wǎng)的細(xì)絲表面，細(xì)絲表面上泡沫不斷累積和泡沫的重力沉降，使泡沫形成較大的液滴沿細(xì)絲流至兩根絲的交點(diǎn)，當(dāng)液滴累積至其自身產(chǎn)生的重力超過(guò)氣體的上升力和液體表面張力合力時(shí)，液滴就從細(xì)絲上分離下落，氣體在通過(guò)絲網(wǎng)除沫后，基本上不含泡沫。在一個(gè)實(shí)施例中，如圖1所示，所述分離器設(shè)有液位計(jì)7、液位開(kāi)關(guān)9、液相氣相溫度傳感器6和壓力傳感器8。蒸汽從加熱器11到分離器會(huì)因分離器內(nèi)壓力小而發(fā)生閃蒸，產(chǎn)生二次蒸汽，使氣液分離的效率更高，所以要維持分離器內(nèi)的壓力不變，通過(guò)觀察液位計(jì)7來(lái)使用液位開(kāi)關(guān)9控制分離器內(nèi)壓力穩(wěn)定，保證分離器的工作狀態(tài)在設(shè)計(jì)的狀態(tài)下。在一個(gè)實(shí)施例中，如圖1所示，所述液位計(jì)7連接有液相氣相溫度傳感器6和壓力傳感器8。液相氣相溫度傳感器6和壓力傳感器8將分離器內(nèi)的工作情況反映到液位計(jì)7，工作人員可以通過(guò)觀察液位計(jì)7知道分離器內(nèi)的工作情況。液相氣相溫度傳感器6采用漂浮式傳感器，在分離器內(nèi)液面處工作，壓力傳感器8安裝在分離器底部，有效測(cè)量分離器內(nèi)液壓。在一個(gè)實(shí)施例中，如圖1所示。四川ITO蝕刻液蝕刻液生產(chǎn)蘇州性?xún)r(jià)比高的蝕刻液。

    所述裝置主體的內(nèi)部底部中間部位固定連接有常閉式密封電磁閥，所述連接構(gòu)件的內(nèi)側(cè)固定連接有過(guò)濾部件，所述裝置主體的內(nèi)部底端另一側(cè)固定連接有收集倉(cāng)，所述收集倉(cāng)的另一側(cè)底部固定連接有密封閥門(mén)，所述過(guò)濾部件的頂端兩側(cè)活動(dòng)連接有滑動(dòng)蓋，所述過(guò)濾部件的內(nèi)部中間兩側(cè)固定連接有收縮彈簧管，所述連接構(gòu)件的內(nèi)側(cè)兩端嵌入連接有螺紋管，所述連接構(gòu)件的內(nèi)部中間兩側(cè)活動(dòng)連接有活動(dòng)軸，所述連接構(gòu)件的內(nèi)側(cè)中間兩側(cè)嵌入連接有密封軟膠層。推薦的，所述硝酸鉀儲(chǔ)罐的頂部嵌入連接有密封環(huán)。推薦的，所述連接構(gòu)件的兩側(cè)嵌入連接有海綿層。推薦的，所述支撐腿的底端嵌入連接有防滑紋。推薦的，所述過(guò)濾部件的內(nèi)部?jī)蓚?cè)嵌入連接有過(guò)濾板。推薦的，所述過(guò)濾部件設(shè)置有一個(gè)，所述過(guò)濾部件設(shè)置在連接構(gòu)件的內(nèi)側(cè)，所述過(guò)濾部件與連接構(gòu)件固定連接。推薦的，所述連接構(gòu)件設(shè)置有十四個(gè)，所述連接構(gòu)件設(shè)置在攪拌倉(cāng)的底部，所述連接構(gòu)件與攪拌倉(cāng)固定連接。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的有益效果是:1.高蝕刻速率無(wú)殘留酸性鋁蝕刻液生產(chǎn)裝置，過(guò)濾部件，過(guò)濾部件設(shè)置在連接構(gòu)件的內(nèi)側(cè)，過(guò)濾部件與連接構(gòu)件固定連接，過(guò)濾部件能將制備出的蝕刻液進(jìn)行過(guò)濾。

一種ito蝕刻液及其制備方法、應(yīng)用方法技術(shù)領(lǐng)域1.本技術(shù)涉及化學(xué)蝕刻技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種ito蝕刻液及其制備方法、應(yīng)用方法。背景技術(shù)：2.目前，電子器件的基板表面(例如顯示器件的陣列基板)通常帶有一定圖案的氧化銦錫(ito)膜，以便后續(xù)給電子器件可控通電。該ito膜通常通過(guò)化學(xué)蝕刻的方法蝕刻ito材料層形成。其中，對(duì)于多晶ito(p-ito)材料，所用蝕刻液主要包括硫酸系、王水系ito蝕刻液。王水系蝕刻液成本低，但其蝕刻速度快，蝕刻的角度難以控制，且容易對(duì)ito膜的下層金屬造成二次腐蝕。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：3.有鑒于此，為克服目前存在的技術(shù)難題，本技術(shù)提供了一種ito蝕刻液及其制備方法、應(yīng)用方法。4.具體地，本技術(shù)首先方面提供了一種ito蝕刻液，所述ito蝕刻液包括以下重量份數(shù)的各組分：20-22份的鹽酸，6-7份的硝酸，0.5-3份的酸抑制劑，0.5-3份的表面活性劑，以及水；其中，所述酸抑制劑包括n,n-二異丙基乙胺、n,n-二異丙基乙醇胺中的至少一種；所述表面活性劑包括聚氧乙烯脂肪胺、聚氧乙烯脂肪二胺中的至少一種。5.通過(guò)對(duì)蝕刻液中硝酸及鹽酸的含量進(jìn)行精確限定，以實(shí)現(xiàn)了對(duì)王水系蝕刻液蝕刻速度的初步調(diào)控，并在一定程度上實(shí)現(xiàn)了對(duì)蝕刻角度的控制(蝕刻角度小于35蝕刻液適用于哪些行業(yè)。

    所述硫醚系化合物推薦為選自由甲硫氨酸、乙硫氨酸及3-(甲硫基)丙酸所組成的群組中的至少一種。本發(fā)明的蝕刻液推薦進(jìn)一步含有α-羥基羧酸和/或其鹽。所述α-羥基羧酸推薦為選自由酒石酸、蘋(píng)果酸、檸檬酸、乳酸及甘油酸所組成的群組中的至少一種。推薦為，所述酸的濃度為20重量％至70重量％，所述有機(jī)硫化合物的濃度為％至10重量％。另外，所述α-羥基羧酸和/或其鹽的濃度推薦為％至5重量％。另外，本發(fā)明涉及一種使用所述蝕刻液在銅的存在下選擇性地蝕刻鈦的蝕刻方法。發(fā)明的效果本發(fā)明的蝕刻液可在銅的存在下選擇性地蝕刻鈦。另外，本發(fā)明的蝕刻液實(shí)質(zhì)上不含氫氟酸及過(guò)氧化氫，因此毒性低，保存穩(wěn)定性?xún)?yōu)異。具體實(shí)施方式本發(fā)明的蝕刻液為含有選自由硫酸、鹽酸及三氯乙酸所組成的群組中的至少一種酸與選自由硫酮系化合物及硫醚系化合物所組成的群組中的至少一種有機(jī)硫化合物的水溶液。所述酸中，從蝕刻速度的穩(wěn)定性及酸的低揮發(fā)性的觀點(diǎn)來(lái)看，推薦為硫酸。酸的濃度并無(wú)特別限制，推薦為20重量％至70重量％，更推薦為30重量％至60重量％。在酸的濃度小于20重量％的情況下，有無(wú)法獲得充分的鈦蝕刻速度的傾向，在超過(guò)70重量％的情況下，有蝕刻液的安全性成問(wèn)題的傾向。哪家的蝕刻液的價(jià)格低？安慶銅鈦蝕刻液蝕刻液溶劑

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    也不能在回收結(jié)束后對(duì)裝置內(nèi)部進(jìn)行清理的問(wèn)題。為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供如下技術(shù)方案：一種廢銅蝕刻液的回收處理裝置，包括裝置主體，所述裝置主體內(nèi)部中間位置固定安裝有分隔板，所述分隔板左端表面靠近中間位置固定安裝有承載板，所述承載板上端表面放置有電解池，所述電解池內(nèi)部中間位置設(shè)置有隔膜，所述裝置主體上端表面靠近右側(cè)安裝有進(jìn)液漏斗，所述進(jìn)液漏斗上設(shè)置有過(guò)濾網(wǎng)，所述裝置主體內(nèi)部靠近頂端設(shè)置有進(jìn)液管，所述進(jìn)液管左端連接有伸縮管，所述伸縮管下端安裝有噴頭，所述裝置主體上端表面靠近左側(cè)固定安裝有液壓缸，所述液壓缸下端安裝有伸縮桿，所述伸縮桿下端固定安裝有圓環(huán)塊，所述圓環(huán)塊與噴頭之間固定連接有連接桿，所述分隔板右端表面靠近上端固定安裝有增壓泵，所述增壓泵下端與電解池之間連接有回流管，所述增壓泵上端與進(jìn)液管之間連接有一號(hào)排液管，所述回流管內(nèi)部左端設(shè)置有一號(hào)電磁閥，所述裝置主體左端表面靠近上端固定安裝有抽氣泵，所述抽氣泵下方設(shè)置有集氣箱，所述集氣箱與抽氣泵之間連接有排氣管，所述電解池下端連接有二號(hào)排液管，所述二號(hào)排液管內(nèi)部上端設(shè)置有二號(hào)電磁閥，所述裝置主體內(nèi)部底端靠近左側(cè)設(shè)置有傾斜板。安慶銅鈦蝕刻液蝕刻液溶劑

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