合肥銀蝕刻液蝕刻液銷售公司

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2023-05-02

    提高反應(yīng)體系的穩(wěn)定性。當(dāng)體系中加入過(guò)氧化氫后有助于提高過(guò)氧化氫的穩(wěn)定性,避免由于過(guò)氧化氫分解而引發(fā)的,提高生產(chǎn)的安全性。具體實(shí)施方式下面結(jié)合實(shí)施例,對(duì)本發(fā)明的具體實(shí)施方式作進(jìn)一步描述。以下實(shí)施例用于更加清楚地說(shuō)明本發(fā)明的技術(shù)方案,而不能以此來(lái)限制本發(fā)明的保護(hù)范圍。一種酸性銅蝕刻液的生產(chǎn)工藝,所述工藝包括以下步驟:第一步:將純水進(jìn)行低溫處理,使純水溫度≤10℃在純水罐中備用;純水罐中設(shè)有通過(guò)電路控制的電磁閥,當(dāng)純水溫度高于10℃時(shí),電磁閥無(wú)法打開。第二步:配制和準(zhǔn)備原料,將亞氨基二乙酸、氫氟酸和乙醇酸分別投入對(duì)應(yīng)的原料罐中,經(jīng)過(guò)過(guò)濾器循環(huán)過(guò)濾,備用;將hno3、四甲基氫氧化銨、h2o2分別投入對(duì)應(yīng)的原料罐,備用。亞氨基二乙酸、氫氟酸和乙醇酸需要稀釋后使用,hno3、四甲基氫氧化銨、h2o2無(wú)需調(diào)配可直接用于制備蝕刻液。第三步:根據(jù)混酸配制表算出各個(gè)原料的添加量,按照純水→亞氨基二乙酸→氫氟酸→hno3→四甲基氫氧化銨→乙醇酸的順序依次將原料加入調(diào)配罐,將上述混料充分?jǐn)嚢瑁瑪嚢钑r(shí)間為3~5h。第四步:在第三步的混料中再添加h2o2,繼續(xù)攪拌混勻,攪拌時(shí)間為3~5h,用磁力泵將混合液通過(guò)過(guò)濾器循環(huán)過(guò)濾。蝕刻液適用于哪些行業(yè)。合肥銀蝕刻液蝕刻液銷售公司

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    經(jīng)除霧組件3除霧后的氣體會(huì)夾帶著泡沫,泡沫中還是含有銅元素,為進(jìn)一步提高回收效率,需對(duì)氣體和泡沫進(jìn)行分離,泡沫與絲網(wǎng)碰撞時(shí)會(huì)吸附在絲網(wǎng)的細(xì)絲表面,細(xì)絲表面上泡沫不斷累積和泡沫的重力沉降,使泡沫形成較大的液滴沿細(xì)絲流至兩根絲的交點(diǎn),當(dāng)液滴累積至其自身產(chǎn)生的重力超過(guò)氣體的上升力和液體表面張力合力時(shí),液滴就從細(xì)絲上分離下落,氣體在通過(guò)絲網(wǎng)除沫后,基本上不含泡沫。在一個(gè)實(shí)施例中,如圖1所示,所述分離器設(shè)有液位計(jì)7、液位開關(guān)9、液相氣相溫度傳感器6和壓力傳感器8。蒸汽從加熱器11到分離器會(huì)因分離器內(nèi)壓力小而發(fā)生閃蒸,產(chǎn)生二次蒸汽,使氣液分離的效率更高,所以要維持分離器內(nèi)的壓力不變,通過(guò)觀察液位計(jì)7來(lái)使用液位開關(guān)9控制分離器內(nèi)壓力穩(wěn)定,保證分離器的工作狀態(tài)在設(shè)計(jì)的狀態(tài)下。在一個(gè)實(shí)施例中,如圖1所示,所述液位計(jì)7連接有液相氣相溫度傳感器6和壓力傳感器8。液相氣相溫度傳感器6和壓力傳感器8將分離器內(nèi)的工作情況反映到液位計(jì)7,工作人員可以通過(guò)觀察液位計(jì)7知道分離器內(nèi)的工作情況。液相氣相溫度傳感器6采用漂浮式傳感器,在分離器內(nèi)液面處工作,壓力傳感器8安裝在分離器底部,有效測(cè)量分離器內(nèi)液壓。在一個(gè)實(shí)施例中,如圖1所示。合肥銀蝕刻液蝕刻液銷售公司哪家公司的蝕刻液的是口碑推薦?

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    過(guò)濾器的出液管自動(dòng)上行離開儲(chǔ)存罐,將裝滿的儲(chǔ)存罐從鋁蝕刻液生產(chǎn)車間移動(dòng)至自動(dòng)灌裝車間中,將灌裝頭的快速接頭插入儲(chǔ)存罐的出液口中便可將儲(chǔ)存罐內(nèi)的鋁蝕刻液分裝。本實(shí)用新型除上述技術(shù)方案外,還包括以下技術(shù)特征:進(jìn)一步的是,所述地磅的頂部平臺(tái)中設(shè)置有兩條卡塊,所述卡塊與平臺(tái)之間形成一插槽;所述氣動(dòng)夾緊機(jī)構(gòu)包括氣缸和壓緊塊,所述壓緊塊位于所述插槽中,所述氣缸的伸縮桿與所述壓緊塊固連。進(jìn)一步的是,所述拖車的頂部設(shè)置有一圈圍設(shè)在所述儲(chǔ)存罐外部的護(hù)欄。進(jìn)一步的是,所述拖車的頂部設(shè)置有一集液盒,所述儲(chǔ)存罐安裝在所述集液盒中。進(jìn)一步的是,所述拖車的頂部于所述儲(chǔ)存罐的旁側(cè)設(shè)置有集液腔室。與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實(shí)用新型的有益效果是:1.將原有的大型儲(chǔ)存罐更換成數(shù)個(gè)小型儲(chǔ)存罐,并采用液壓升降式拖車帶著儲(chǔ)存罐在鋁蝕刻液生產(chǎn)車間與自動(dòng)灌裝車間之中周轉(zhuǎn),如此便可為鋁蝕刻液生產(chǎn)設(shè)備配備全自動(dòng)灌裝線,即提高了單瓶灌裝精度和效率,又降低了企業(yè)的人力成本投入;2.將原有的大型儲(chǔ)存罐更換成數(shù)個(gè)小型儲(chǔ)存罐,在儲(chǔ)存罐內(nèi)在進(jìn)液時(shí),其它儲(chǔ)存罐可以進(jìn)行定量灌裝,提高了鋁蝕刻液的生產(chǎn)效率。附圖說(shuō)明為了更清楚地說(shuō)明本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案。

    本發(fā)明涉及銅蝕刻液技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種酸性銅蝕刻液的生產(chǎn)工藝。背景技術(shù):高精細(xì)芯片和顯示集成電路主要采用銅制程,其光刻工藝中形成銅膜層結(jié)構(gòu)所需用的銅刻蝕液中主要的為過(guò)氧化氫系銅刻蝕液。過(guò)氧化氫系銅蝕刻液較其他銅刻蝕液體系(如三氯化鐵體系,過(guò)硫酸銨體系)具有不引人其他金屬離子在銅層表面或線路體系中,產(chǎn)物親和、友好、環(huán)境污染少,刻蝕效率高且使用壽命較長(zhǎng)的特點(diǎn)。大部分過(guò)氧化氫系銅刻蝕液包括參與氧化的過(guò)氧化氫組分、參與溶解的無(wú)機(jī)酸/有機(jī)酸組分,以及部分銅緩蝕劑等各類添加三個(gè)部分。由于銅蝕刻液中各物質(zhì)的反應(yīng)為放熱反應(yīng),體系中又含有過(guò)氧化氫在制備銅蝕刻液的生產(chǎn)過(guò)程中需要保證生產(chǎn)安全。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:本發(fā)明的目的在于,克服現(xiàn)有技術(shù)中存在的缺陷,提供一種銅蝕刻液大規(guī)模量產(chǎn)的生產(chǎn)工藝,該生產(chǎn)工藝溫控嚴(yán)格,生產(chǎn)過(guò)程中安全性高。為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明的技術(shù)方案是設(shè)計(jì)一種酸性銅蝕刻液的生產(chǎn)工藝,所述工藝包括以下步驟:第一步:將純水進(jìn)行低溫處理,使純水溫度≤10℃在純水罐中備用;第二步:配制和準(zhǔn)備原料,將亞氨基二乙酸、氫氟酸和乙醇酸分別投入對(duì)應(yīng)的原料罐中,經(jīng)過(guò)過(guò)濾器循環(huán)過(guò)濾,備用。哪家的蝕刻液的價(jià)格低?

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    近年來(lái),oled顯示器廣泛應(yīng)用于手機(jī)和平板顯示。金屬銀以優(yōu)異的電導(dǎo)率和載流子遷移率被廣泛應(yīng)用于oled顯示器的陽(yáng)極布線(ito/ag/ito)結(jié)構(gòu)中。為了對(duì)此進(jìn)行蝕刻,目前主要使用基于磷酸、硝酸、醋酸和硝酸鹽的濕蝕刻液(cna)。這樣的體系雖然能有效去除金屬銀,但在實(shí)際使用過(guò)程中仍會(huì)存在少量的銀殘留或銀再吸附沉積問(wèn)題。4.本發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題在于如何解決現(xiàn)有的銀蝕刻液在使用過(guò)程中存在少量的銀殘留、銀再吸附沉積問(wèn)題。5.本發(fā)明通過(guò)以下技術(shù)手段實(shí)現(xiàn)解決上述技術(shù)問(wèn)題的:6.一種銀蝕刻液組合物,其成分由質(zhì)量占比為40-60%磷酸、2-10%硝酸、%有機(jī)酸、%硝酸鹽、%含氮元素有機(jī)物、其余為水組成。 蝕刻液的的性價(jià)比、質(zhì)量哪家比較好?合肥銀蝕刻液蝕刻液銷售公司

蝕刻液蝕刻后的樣貌形態(tài)。合肥銀蝕刻液蝕刻液銷售公司

    本發(fā)明涉及蝕刻液組合物及選擇添加于該蝕刻液組合物的硅烷系偶聯(lián)劑的方法。背景技術(shù):參照?qǐng)D1,可以確認(rèn)3dnand閃存(flashmemory)制造工序中的一部分。3dnand閃存可以通過(guò)在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性去除氮化物膜的工序(wetremovalofnitride)來(lái)制造。在不損傷氧化物膜的同時(shí)將氮化物膜完全去除是這樣的氮化物膜去除工序(wetremovalofnitride)的**技術(shù)之一。一般而言,氮化物膜去除工序中所使用的蝕刻液組合物利用具有防蝕能力的添加劑以獲得在不損傷氧化物膜的同時(shí)*將氮化物膜完全去除的效果。但是,想要在不損傷氧化物膜的范圍內(nèi)將氮化物膜完全去除時(shí),會(huì)使用防蝕能力強(qiáng)的添加劑,由此可能發(fā)生氮化物膜沒(méi)有被完全去除的工序不良(參照?qǐng)D2)。此外,想要將氮化物膜完全去除時(shí),會(huì)使用防蝕能力弱的添加劑,由此雖然氮化物膜被完全去除,但是可能發(fā)生對(duì)氧化物膜也造成損傷(damage)的工序不良(參照?qǐng)D3)。以往,為了在包含氧化物膜和氮化物膜的多層膜中*將氮化物膜選擇性完全去除而選擇具有適當(dāng)水平的防蝕能力的添加劑時(shí),按照添加劑的種類和濃度通過(guò)實(shí)驗(yàn)進(jìn)行確認(rèn)。沒(méi)有這樣的實(shí)驗(yàn)確認(rèn)就選擇添加劑實(shí)際上是不可能的。合肥銀蝕刻液蝕刻液銷售公司

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