合肥BOE蝕刻液蝕刻液銷售公司

來源: 發(fā)布時間:2023-04-13

    所述液位計連接有液相氣相溫度傳感器和壓力傳感器。在其中一個實施例中,所述分離器的側(cè)壁上設(shè)有多個視鏡。在其中一個實施例中,所述液位計安裝于所述分離器的外表面。在其中一個實施例中,所述液位開關(guān)為控制閥,設(shè)置于所述濾液出口處。在其中一個實施例中,所述加熱器為盤管式加熱器。在其中一個實施例中,所述分離器底部為錐體形狀。上述,利用加熱器對含銅蝕刻液進行加熱,使其達到閃蒸要求的溫度,將加熱好的含銅蝕刻液輸送至分離器,經(jīng)過減壓閥及真空泵減壓,含銅蝕刻液在分離器內(nèi)發(fā)生閃蒸,產(chǎn)生大量蒸汽,蒸汽中攜帶著大小不等的液滴,通過除霧組件和除沫組件可以防止大液滴從蒸汽出口飛出,減小產(chǎn)品損失。附圖說明圖1是本實施例的結(jié)構(gòu)示意圖;圖2是本實施例的外觀示意圖。圖中:1、液體入口;2、濾液出口;3、除霧組件;4、除沫組件;5、蒸汽出口;6、液相氣相溫度傳感器;7、液位計;8、壓力傳感器;9、液位開關(guān);10、視鏡;11、加熱器;12、減壓閥;13、真空泵。具體實施方式在一個實施例中,如圖1所示,一種含銅蝕刻液氣液分離裝置,包括分離器及加熱器11,所述分離器設(shè)有液體入口1、蒸汽出口5及濾液出口2,所述液體入口1用于將加熱器11產(chǎn)生的液體輸入至分離器中。蝕刻液使用時要注意什么?合肥BOE蝕刻液蝕刻液銷售公司

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    很好的對注入量進行精確控制,提高了該裝置的制備純度。附圖說明圖1為本實用新型的整體示意圖;圖2為本實用新型的a處放大示意圖;圖3為本實用新型的b處放大示意圖;圖4為本實用新型翻折觀察板沿a-a方向的截面示意圖。圖中:1、制備裝置主體,2、高效攪拌裝置,3、過濾除雜裝置,4、翻折觀察板,401、觀察窗翻折滾輪,402、內(nèi)嵌觀察窗,5、裝置底座,6、成品罐,7、鹽酸裝罐,8、硝酸裝罐,9、熱水流入漏斗,10、加固支架,11、防燙隔膜,12、旋轉(zhuǎn)搖勻轉(zhuǎn)盤,13、運轉(zhuǎn)電機組,14、震蕩彈簧件,15、控制面板,16、致密防腐桿,17、攪動孔,18、注入量控制容器,19、注入量觀察刻度線,20、限流銷,21、負壓引流器,22、嵌入引流口。具體實施方式下面將結(jié)合本實用新型實施例中的附圖,對本實用新型實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實施例**是本實用新型一部分實施例,而不是全部的實施例,基于本實用新型中的實施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例,都屬于本實用新型保護的范圍。請參閱圖1-4,本實用新型提供一種技術(shù)方案:一種ito蝕刻液制備裝置,包括制備裝置主體1、高效攪拌裝置2和過濾除雜裝置3。廣州ITO蝕刻液蝕刻液供應(yīng)蘇州性價比較好的蝕刻液的公司聯(lián)系電話。

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    當(dāng)該風(fēng)刀裝置40的***風(fēng)刀41與該第二風(fēng)刀42為了減少該基板20上所殘留的藥液51而吹出該氣體43時,該氣體43碰到該擋液板結(jié)構(gòu)10后部分會往該復(fù)數(shù)個宣泄孔121流動,并朝向該第二擋板12的該上表面123宣泄而出,除了保有原有擋液板的防止該藥液51噴濺而造成的蝕刻不均現(xiàn)象,亦可達到以破真空的原理避免該氣體43在該基板20附近形成渦流而造成真空吸引問題;此外,為了避免由該噴灑裝置50噴灑而出的藥液51滴入該基板20上而造成蝕刻不均的問題,因此,該復(fù)數(shù)個宣泄孔121的孔徑a0必須要足夠小,例如:孔徑a0小于3mm,即可因毛細現(xiàn)象的作用,亦即該水滴于該宣泄孔121孔洞內(nèi)的夾角θ等于該水滴與該第二擋板12的該上表面123所夾的接觸角θ4,而達到防止位于該第二擋板12的該上表面123的藥液51水滴經(jīng)由該復(fù)數(shù)個宣泄孔121滴下至該基板20上。由上述的實施說明可知,本實用新型的擋液板結(jié)構(gòu)與以之制備的蝕刻設(shè)備與現(xiàn)有技術(shù)相較之下,本實用新型具有以下優(yōu)點。本實用新型的擋液板結(jié)構(gòu)與以之制備的蝕刻設(shè)備主要借由具有復(fù)數(shù)個宣泄孔的擋液板結(jié)構(gòu)搭配風(fēng)刀裝置的硬體設(shè)計,有效使風(fēng)刀裝置吹出的氣體得以經(jīng)由宣泄孔宣泄,并利用水滴的表面張力現(xiàn)象防止水滴由宣泄孔落下造成基板蝕刻不均等異?,F(xiàn)象。

    本實用涉及電子化學(xué)品生產(chǎn)設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,具體為高蝕刻速率無殘留酸性鋁蝕刻液生產(chǎn)裝置。背景技術(shù):近年來,人們對半導(dǎo)體裝置、液晶顯示器的需求量不斷增加的同時,對于這些裝置所具有的配線、電極等的微小化、高性能化的要求也越來越嚴格,而蝕刻的效果能直接導(dǎo)致電路板制造工藝的好壞,影響高密度細導(dǎo)線圖像的精度和質(zhì)量,為了解決蝕刻液組合物蝕刻鋁材料過程中,對蝕刻速率慢、難以控制蝕刻角度和不同金屬層的蝕刻量而造成的多層配線的半導(dǎo)體裝置的配線的斷路、短路,得到較高的成品率,為保證其穩(wěn)定性及蝕刻的平滑度及精度,在蝕刻液中需要加入多種組分,而常規(guī)的生產(chǎn)方法是將蝕刻液中的各組份在同一容器中一起混合?,F(xiàn)有的高蝕刻速率無殘留酸性鋁蝕刻液生產(chǎn)裝置密封性差,連接安裝步驟繁瑣,還需要使用工具才能進行連接安裝或拆卸,而且現(xiàn)有的高蝕刻速率無殘留酸性鋁蝕刻液生產(chǎn)裝置沒有過濾的部件,蝕刻液中的各組份蝕刻液雜質(zhì)含量多,且多種強酸直接共混存在較大的安全隱患,裝置不夠完善,難以滿足現(xiàn)代社會的需求。所以,如何設(shè)計高蝕刻速率無殘留酸性鋁蝕刻液生產(chǎn)裝置,成為我們當(dāng)前需要解決的問題。質(zhì)量好的蝕刻液的公司聯(lián)系方式。

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    經(jīng)除霧組件3除霧后的氣體會夾帶著泡沫,泡沫中還是含有銅元素,為進一步提高回收效率,需對氣體和泡沫進行分離,泡沫與絲網(wǎng)碰撞時會吸附在絲網(wǎng)的細絲表面,細絲表面上泡沫不斷累積和泡沫的重力沉降,使泡沫形成較大的液滴沿細絲流至兩根絲的交點,當(dāng)液滴累積至其自身產(chǎn)生的重力超過氣體的上升力和液體表面張力合力時,液滴就從細絲上分離下落,氣體在通過絲網(wǎng)除沫后,基本上不含泡沫。在一個實施例中,如圖1所示,所述分離器設(shè)有液位計7、液位開關(guān)9、液相氣相溫度傳感器6和壓力傳感器8。蒸汽從加熱器11到分離器會因分離器內(nèi)壓力小而發(fā)生閃蒸,產(chǎn)生二次蒸汽,使氣液分離的效率更高,所以要維持分離器內(nèi)的壓力不變,通過觀察液位計7來使用液位開關(guān)9控制分離器內(nèi)壓力穩(wěn)定,保證分離器的工作狀態(tài)在設(shè)計的狀態(tài)下。在一個實施例中,如圖1所示,所述液位計7連接有液相氣相溫度傳感器6和壓力傳感器8。液相氣相溫度傳感器6和壓力傳感器8將分離器內(nèi)的工作情況反映到液位計7,工作人員可以通過觀察液位計7知道分離器內(nèi)的工作情況。液相氣相溫度傳感器6采用漂浮式傳感器,在分離器內(nèi)液面處工作,壓力傳感器8安裝在分離器底部,有效測量分離器內(nèi)液壓。在一個實施例中,如圖1所示。ITO蝕刻液的配方是什么?廣州ITO蝕刻液蝕刻液供應(yīng)

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影響ITO堿性氯化銅蝕刻液蝕刻速率的因素:1、Cu2+離子濃度的影響:Cu2+是氧化劑,所以Cu2+的濃度是影響蝕刻速率的主要因素。研究銅濃度與蝕刻速率的關(guān)系表明:在0~82g/L時,蝕刻時間長;在82~120g/L時,蝕刻速率較低,且溶液控制困難;在135~165g/L時,蝕刻速率高且溶液穩(wěn)定;在165~225g/L時,溶液不穩(wěn)定,趨向于產(chǎn)生沉淀。2、氯化銨含量的影響:通過蝕刻再生的化學(xué)反應(yīng)可以看出:[Cu(NH3)2]+的再生需要有過量的NH3和NH4Cl存在,如果溶液中缺乏NH4Cl,大量的[Cu(NH3)2]+得不到再生,蝕刻速率就會降低,以致失去蝕刻能力。所以,氯化銨的含量對蝕刻速率影響很大。隨著蝕刻的進行,要不斷補加氯化銨。合肥BOE蝕刻液蝕刻液銷售公司

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