安徽電子級BOE蝕刻液價格

來源: 發(fā)布時間:2023-02-10

Cu2+的蝕刻作用由次要地位而躍居主要地位,此時蝕刻速率慢,即應考慮蝕刻液的更新。一般工廠很少分析和測定蝕刻液中的含銅量,多以蝕刻時間和蝕刻質量來確定蝕刻液的再生與更新。蝕刻銅箔的同時,還伴有一些副反應,就是CuCl2和FeCl3的水解反應:FeCl3+3H2O→Fe(OH)3↓+3HClCuCl2+2H2O→Cu(OH)2↓+2HCl生成的氫氧化物很不穩(wěn)定,受熱后易分解:2Fe(OH)3→Fe2O3↓+3H2OCu(OH)2→CuO↓+H2O結果生成了紅色的氧化鐵和黑色的氧化銅微粒,懸浮于蝕刻液中,對抗蝕層有一定的破壞作用。2.影響蝕刻速率的因素Fe3+的濃度和蝕刻液的溫度蝕刻液溫度越高,蝕刻速率越快,溫度的選擇應以不損壞抗蝕層為原則。Fe3+的濃度對蝕刻速率有很大的影響。蝕刻液中Fe3+濃度逐漸增加,對銅的蝕刻速率相應加快。當所含F(xiàn)e3+超過某一濃度時,由于溶液粘度增加,蝕刻速率反而有所降低。BOE蝕刻液專業(yè)生產廠家,蘇州博洋化學股份有限公司。安徽電子級BOE蝕刻液價格

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微蝕刻液循環(huán)再生設備在使用中不但使微蝕刻工序基本實現(xiàn)污染零排放,并產出純度高、價值高的電解金屬銅。 一、微蝕液包括過硫酸鈉/硫酸體系和雙氧水/硫酸體系,在近幾年的運用在PCB之表面處理制程,例如:沉銅(PTH)制程,電鍍制程、內層前處理、綠油前處理、OSP處理等生產線。 我們公司目前對過硫酸鈉/硫酸和雙氧水/硫酸兩種體系的微蝕工序研發(fā)設計了不同的循環(huán)再生設備。 無論是過硫酸鈉/硫酸體系還是雙氧水/硫酸體系,我司設備均可把飽和微蝕液處理再生后,返回客戶生產線繼續(xù)使用,回用時,不改變客戶原生產工藝參數(shù);在運行我們公司設備時可不停機亦可更換藥水,從而達到穩(wěn)定生產的目的。江西無機BOE蝕刻液商家優(yōu)先蘇州博洋化學股份有限公司。

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    在PCB行業(yè)中會產生大量微蝕液、蝕刻液、硝酸銅等含有不同濃度的重金屬廢水,如果不進行處理就直接排放一方面造成資源的嚴重浪費,另一方面還會嚴重影響我們環(huán)境和自身健康!以前對于這些廢液的處理方法是通過投加大量的藥劑實現(xiàn)的,但是傳統(tǒng)的加化學藥劑,操作成本高,且造成大量銅污泥產生及排放廢水導電度過高(溶解性鹽類造成),導致廢水回用難度加大或者根本無法回收使用的后續(xù)問題。因此現(xiàn)在一般都是使用提取再生的方式,蝕刻液提取再生的方法有酸性、堿性兩大系統(tǒng),可將大量的廢蝕刻液提取再生成為新的蝕刻液。從而減少生產廢液的排放,回用降低生產成本,且可提取出高純度電解金屬銅。酸性蝕刻生產線——廢液收集槽——中間儲存罐——電解槽——配藥槽——再生液儲存罐——添加槽堿性蝕刻生產線——廢液收集——萃銅及廢液再生——調配——氨水洗收集——銅回收及氨水洗再生——再生水儲存——反萃——電解——出銅。

    三氯化鐵蝕刻液在印制電路、電子和金屬精飾等工業(yè)中被采用,一般用來蝕刻銅、銅合金、不銹鋼、鐵及鋅、鋁等。雖然近些年來越來越要求再生容易,更加環(huán)保的蝕刻液,但由于三氯化鐵蝕刻液它的工藝穩(wěn)定,操作方便,價格便宜,因此還仍然被廣大蝕刻加工企事業(yè)單位采用。三氯化鐵蝕刻液適用于網(wǎng)印抗蝕印料、液體感光膠、干膜、鍍金抗蝕層等抗蝕層的印制板的蝕刻。(但不適用于鎳、錫、錫-鉛合金等抗蝕層)1.蝕刻時的主要化學反應三氯化鐵蝕刻液對銅箔的蝕刻是一個氧化-還原過程。在銅表面Fe3+使銅氧化成氯化亞銅。同時Fe3+被還原成Fe2+。FeCl3+Cu→FeCl2+CuClCuCl具有還原性,可以和FeCl3進一步發(fā)生反應生成氯化銅。FeCl3+CuCl→FeCl2+CuCl2Cu2+具有氧化性,與銅發(fā)生氧化反應:CuCl2+Cu→2CuCl所以,F(xiàn)eCl3蝕刻液對Cu的蝕刻時靠Fe3+和Cu2+共同完成的。其中Fe3+的蝕刻速率快,蝕刻質量好;而Cu2+的蝕刻速率慢,蝕刻質量差。新配制的蝕刻液中只有Fe3+,所以蝕刻速率較快。但是隨著蝕刻反應的進行,F(xiàn)e3+不斷消耗,而Cu2+不斷增加。當Fe3+消耗掉35%時,Cu2+已增加到相當大的濃度,這時Fe3+和Cu2+對Cu的蝕刻量幾乎相等;當Fe3+消耗掉50%時。 蘇州博洋化學股份有限公司,專業(yè)的BOE蝕刻液生產商。

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這兩種體系再生設備設備不僅可以節(jié)省約30%的物料成本,還降低廢水處理成本,且可以電解出金屬銅。二、蝕刻液再生循環(huán)系統(tǒng)在電子線路版(PCB)蝕刻過程中,蝕刻液中的銅含量漸漸增加。蝕刻液要達到比較好的蝕刻效果,每公升蝕刻液需含120至180克銅及相應分量的蝕刻鹽(NH4CI)及氨水(NH3)。要持續(xù)蝕刻液中上述各種成份的濃度比較好水平,蝕刻用過后的(以下稱[用后蝕刻液])溶液需不斷由添加的藥劑所取締。本系統(tǒng)將大量原本需要排放的用后蝕刻液再生還原成為可再次使用的再生蝕刻液。只需極少量的補充劑及氨水,補償因運作時被帶走而失去的部份。從而取代蝕刻子液,既可達到蝕刻工藝的要求,又可節(jié)省生產成本。蝕刻液再生循環(huán)系統(tǒng)有酸性、堿性兩大系統(tǒng),兩大系統(tǒng)又可分為萃取法、直接電解法。可將大量原本需要排放的用后蝕刻液還原再生成為可再次使用的再生蝕刻液。從而減少生產廢液的排放,回用降低生產成本,且可提取出高純度電解金屬銅。安徽電子級BOE蝕刻液價格

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