常州烘銀網(wǎng)帶爐

中溫氣氛箱式爐主要用于磷酸鐵鋰正極材料等類似產(chǎn)品的高溫燒結(jié)、熱處理工作。下面為大家介紹一下中溫氣氛箱式爐的系統(tǒng)配置。一、熱工系統(tǒng)1.額定溫度800℃2.較高溫度850℃3.加熱元件陶瓷外絲加熱管4.加熱功率18kw5.空爐保溫功率約9kw6.溫區(qū)個數(shù)1個7.控溫點數(shù)2點8.熱偶K分度9.控溫穩(wěn)定度±1℃(恒溫平臺)10.爐膛溫度均勻度±6℃（恒溫800℃,1h）二、冷卻系統(tǒng)1.冷卻結(jié)構(gòu)無2.產(chǎn)品降溫隨爐降溫3.安全保護4.報警指示超溫、斷偶、停水、停氣等聲光報警保護5.設(shè)備安全升溫速率≤5℃/min網(wǎng)帶爐的重要組成部分。常州烘銀網(wǎng)帶爐

精密鼓風烘箱適用于電子元器件、橡膠、塑料、裝飾材料等行業(yè)對溫度均勻性要求比較嚴格的實驗。真萍科技精密鼓風烤箱采用進口液晶顯示控制器，產(chǎn)品采用綜合的電磁兼容設(shè)計和人性化的菜單設(shè)計，使得設(shè)備操作完全傻瓜化，控溫效果較好。高亮度寬視窗液晶顯示，示值清晰、直觀。微電腦智能控制。設(shè)定溫度和時間后，儀表自行控制加熱功率，并顯示加熱狀態(tài)，控溫精確而穩(wěn)定。超溫報警并自動切斷加熱電源。電器控制系統(tǒng)：1.電氣控制元器件均采用國內(nèi)出名品牌“正泰”2.電氣線路設(shè)計新穎，合理布線，安全可靠3.箱體頂部為電氣控制柜，方便于集中檢查維修安全保護系統(tǒng)：1.超溫報警2.欠相缺相保護3.過電流保護4.快速熔斷器5.接地保護小型網(wǎng)帶爐網(wǎng)帶爐，有哪些好處值得選擇？

真萍科技電腦式潔凈節(jié)能氮氣柜主要應用于解決晶圓片的潮濕、氧化及被其它氣體(例如阿摩利亞氣體)破壞，解決探針卡潮濕及氧化問題解決光罩的受潮問題---黃光部封裝的金線，解決液晶的受潮問題，解決線路板受潮問題。下面為大家簡單介紹一下真萍科技電腦式潔凈節(jié)能氮氣柜的氮氣監(jiān)控系統(tǒng)。1.溫濕度記錄功能：1.2內(nèi)建內(nèi)存，可儲存溫度/濕度，收集時間1~240分鐘可自行設(shè)定。1.3可利用RS232連接阜下載至計算機中讀取。1.4品管記錄格式設(shè)計，有助于內(nèi)部記錄追蹤并可支持數(shù)據(jù)庫檔案格式。2.濕度警報系統(tǒng)：2.1可設(shè)定啟動警報的濕度值及條件，內(nèi)配蜂鳴器（90分貝）及閃爍警示功能。2.2可另外選配積層式警示燈。3.溫濕度偏移校正功能：內(nèi)建校正功能，確保顯示準確度。

真空干燥箱是將干燥物料處于負壓條件下進行干燥的一種箱體式干燥設(shè)備。它是利用真空泵進行抽氣抽濕，使工作室內(nèi)形成真空狀態(tài)，降低水的沸點，加快干燥的速度。下面為大家介紹一下真萍科技真空干燥箱的特點。1.長方體工作室，增加有效容積，微電腦溫度控制器，精確控溫。2.雙層玻璃視窗觀察工作室內(nèi)物體，一目了然。3.箱體閉合松緊能調(diào)節(jié)，整體成型的硅橡膠門封圈，確保箱內(nèi)高真空度。4.工作室采用不銹鋼板(或拉絲板)制成，確保產(chǎn)品經(jīng)久耐用。5.儲存、加熱、試驗和干燥都是在沒有氧氣或者充滿惰性氣體環(huán)境里進行，所以不會氧化。6.真空程序分段控制，該型號機型，抽真空過程可提供程序化編程，根據(jù)客戶要求編輯設(shè)定真空值，保壓時間值?？蓪崿F(xiàn)多段抽真空和保壓編程。網(wǎng)帶爐制作原理是什么呢？合肥真萍科技為您專業(yè)解答。

電熱鼓風烤箱適用于各種產(chǎn)品或材料及電氣、儀表、元器件、電子、電工及汽車、航空、通訊塑膠、機械、食品、化工、化學品、五金工具在恒溫環(huán)境條件下作干燥和各種恒溫適應性試驗。下面為大家介紹一下真萍科技電熱鼓風烤箱的箱體結(jié)構(gòu)。1.本烘箱由室體、加熱系統(tǒng)、電氣控制系統(tǒng)、送風系統(tǒng)、保護系統(tǒng)等組成。2.箱體采用先進設(shè)備制作、業(yè)內(nèi)優(yōu)良的制造工藝流程、線條流暢、美觀大方。3.工作室材質(zhì)為不銹鋼、外箱材質(zhì)為優(yōu)良冷軋鋼板，產(chǎn)品外殼使用環(huán)保金屬漆噴制，整體設(shè)計美觀大方，適合實驗室的顏色搭配。4.工作室內(nèi)的擱架不可調(diào)節(jié)。網(wǎng)帶爐的基本結(jié)構(gòu)級應用。浙江小型網(wǎng)帶爐專賣

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本篇介紹專業(yè)全自動HMDS真空烤箱，首先簡單介紹一下HMDS預處理系統(tǒng)的必要性：在半導體生產(chǎn)工藝中，光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個工藝環(huán)節(jié)，涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量，涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的，而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的，這造成光刻膠和硅片的黏合性較差，尤其是正膠，顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處，容易造成漂條、浮膠等，導致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗，同時濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。增黏劑HMDS（六甲基二硅氮烷）可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后，經(jīng)烘箱加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷涫杷珊芎玫嘏c光刻膠結(jié)合，起著偶聯(lián)劑的作用。常州烘銀網(wǎng)帶爐