氧化鉿又稱氧化鉿(IV)，它是一種無機化工產(chǎn)品，其分子式為HfO2，分子量為210.4888。存儲方法常溫密閉，陰涼通風干燥。合成方法當加熱到高溫時鉿與氧直接化合生成氧化鉿。也可通過其硫酸鹽或草酸鹽經(jīng)灼燒而得。主要用途用于光譜分析及催化劑體系，耐熔材料。系統(tǒng)編號CAS號：12055-23-1MDL號：MFCD00003565EINECS號：235-013-2PubChem號：24873674，毒理學數(shù)據(jù)主要的刺激性影響：在皮膚上面：刺激皮膚和粘膜在眼睛上面：刺激的影響致敏作用：沒有已知的敏化現(xiàn)象氧化鉿的滅火方法及滅火劑？質(zhì)量好氧化鉿供應
應用領域氧化鉿（HfO2）為鋯鉿分離的產(chǎn)物，目前只有美、法等國家在生產(chǎn)核級鋯時產(chǎn)生有氧化鉿。中國早期就已經(jīng)具備生產(chǎn)核級Zr，并生產(chǎn)少量氧化鉿的能力。但是產(chǎn)品數(shù)量稀少，價格昂貴。作為鉿的主要化學產(chǎn)品，通常用作光學鍍膜材料，很少量開始試用于高效集成電路，氧化鉿在**領域的應用尚待開發(fā)。氧化鉿在光學鍍膜領域的應用HfO2的熔點比較高、同時鉿原子的吸收截面較大Chemicalbook，捕獲中子的能力強，化學性質(zhì)特別穩(wěn)定，因此在原子能工業(yè)中具有非常大應用的價值。自上世紀以來，光學鍍膜得到了很快的發(fā)展，HfO2在光學方面的特性已經(jīng)越來越適應光學鍍膜技術(shù)的要求，所以HfO2在鍍膜領域的應用也越來越***，特別是它對光有比較寬的透明波段，在光透過氧化鉿薄膜時，對光的吸收少，大部分通過折射透過薄膜，因此HfO2在光學鍍膜領域的應用越來越被重視。生產(chǎn)方法當加熱到高溫時鉿與氧直接化合生成氧化鉿。也可通過其硫酸鹽或草酸鹽經(jīng)灼燒而得。西藏氧化鉿氣味氧化鉿的CAS登錄號是多少？
基本信息中文名稱:氧化鉿分子式:HfO?英文名稱:Hafnium(IV)oxide英文別名:Hafniumoxideoffwhitepowder;Hafniumdioxide;Hafniumoxidesinteredlumps;Hafnium(IV)鎜xide(99.998%-Hf)PURATREM;Hafniumoxide;hafnium(+4)cation;oxygen(-2)anion;dioxohafniumEINECS:235-013-2分子量:210.4888毒理學數(shù)據(jù)主要的刺激性影響在皮膚上面：刺激皮膚和粘膜在眼睛上面：刺激的影響致敏作用：沒有已知的敏化現(xiàn)象。性質(zhì)與穩(wěn)定性常溫常壓下穩(wěn)定避免的物料酸。
氧化鉿MSDS1.1產(chǎn)品標識符:Hafnium(IV)oxide化學品俗名或商品名1.2鑒別的其他方法無數(shù)據(jù)資料1.3有關(guān)的確定了的物質(zhì)或混合物的用途和建議不適合的用途*供科研用途，不作為藥物、家庭備用藥或其它用途。模塊2.危險性概述2.1GHS分類根據(jù)全球協(xié)調(diào)系統(tǒng)(GHS)的規(guī)定，不是危險物質(zhì)或混合物。2.3其它危害物-無模塊3.成分/組成信息3.1物質(zhì):HfO2分子式:210.49g/mol分子量成分濃度Hafniumdioxide-化學文摘編號(CASNo.)12055-23-1EC-編號235-013-2模塊4.急救措施4.1必要的急救措施描述如果吸入如果吸入,請將患者移到新鮮空氣處。如果停止了呼吸,給于人工呼吸。在皮膚接觸的情況下用肥皂和大量的水沖洗。在眼睛接觸的情況下用水沖洗眼睛作為預防措施。如果誤服切勿給失去知覺者從嘴里喂食任何東西。用水漱口。4.2**重要的癥狀和影響，急性的和滯后的據(jù)我們所知，此化學，物理和毒性性質(zhì)尚未經(jīng)完整的研究。4.3及時的醫(yī)療處理和所需的特殊處理的說明和指示無數(shù)據(jù)資料模塊5.消防措施5.1滅火介質(zhì)滅火方法及滅火劑用水霧,耐醇泡沫,干粉或二氧化碳滅火。5.2源于此物質(zhì)或混合物的特別的危害二氧化鉿5.3救火人員的預防如必要的話,戴自給式呼吸器去救火。5.4進一步的信息氧化鉿的物理性質(zhì)有哪些？
產(chǎn)品特性與用途二氧化鉿(HfO2)是一種具有較高介電常數(shù)的氧化物。作為一種介電材料，因其較高的介電常數(shù)值(~20)，較大的禁帶寬度(~5.5eV)，以及在硅基底上良好的穩(wěn)定性，HfO2被認為是替代場效應晶體管中傳統(tǒng)SiO2介電層的理想材料。如果互補金屬氧化物半導體器件尺寸低于1μm，以二氧化硅為傳統(tǒng)柵介質(zhì)的技術(shù)會帶來芯片的發(fā)熱量增加、多晶硅損耗等一系列問題，隨著晶體管的尺寸縮小，二氧化硅介質(zhì)要求必須越來越薄，但是漏電流的數(shù)值會因為量子效Chemicalbook應的影響隨著二氧化硅介質(zhì)厚度的較小而急劇升高，所以急需一種更可行的物質(zhì)來取代二氧化硅作為柵介質(zhì)。二氧化鉿是一種具有寬帶隙和高介電常數(shù)的陶瓷材料，近來在工業(yè)界特別是微電子領域被引起極度的關(guān)注，由于它很可能替代目前硅基集成電路的**器件金屬氧化物半導體場效應管(MOSFET)的柵極絕緣層二氧化硅(SiO2)，以解決目前MOSFET中傳統(tǒng)SiO2/Si結(jié)構(gòu)的發(fā)展的尺寸極限問題。用途為生產(chǎn)金屬鉿和鉿合金的原料。用作耐火材料、抗放射性涂料和催化劑。氧化鉿是指二氧化鉿嗎？青海氧化鉿代理直發(fā)
氧化鉿的英文名稱是什么？質(zhì)量好氧化鉿供應
中文名稱:氧化鉿分子式:HfO?英文名稱:Hafnium(IV)oxide英文別名:Hafniumoxideoffwhitepowder;Hafniumdioxide;Hafniumoxidesinteredlumps;Hafnium(IV)鎜xide(99.998%-Hf)PURATREM;Hafniumoxide;hafnium(+4)cation;oxygen(-2)anion;dioxohafniumEINECS:235-013-2分子量:210.4888應用領域氧化鉿（HfO2）為鋯鉿分離的產(chǎn)物，目前只有美、法等國家在生產(chǎn)核級鋯時產(chǎn)生有氧化鉿。中國早期就已經(jīng)具備生產(chǎn)核級Zr，并生產(chǎn)少量氧化鉿的能力。但是產(chǎn)品數(shù)量稀少，價格昂貴。作為鉿的主要化學產(chǎn)品，通常用作光學鍍膜材料，很少量開始試用于高效集成電路，氧化鉿在**領域的應用尚待開發(fā)。氧化鉿在光學鍍膜領域的應用HfO2的熔點比較高、同時鉿原子的吸收截面較大Chemicalbook，捕獲中子的能力強，化學性質(zhì)特別穩(wěn)定，因此在原子能工業(yè)中具有非常大應用的價值。自上世紀以來，光學鍍膜得到了很快的發(fā)展，HfO2在光學方面的特性已經(jīng)越來越適應光學鍍膜技術(shù)的要求，所以HfO2在鍍膜領域的應用也越來越***，特別是它對光有比較寬的透明波段，在光透過氧化鉿薄膜時，對光的吸收少，大部分通過折射透過薄膜，因此HfO2在光學鍍膜領域的應用越來越被重視。質(zhì)量好氧化鉿供應