北京低壓氣相沉積真空鍍膜公司

真空鍍膜的功能是多方面的，這也決定了其應(yīng)用場合非常豐富?？傮w來說，真空鍍膜的主要功能包括賦予被鍍件表面高度金屬光澤和鏡面效果，在薄膜材料上使膜層具有出色的阻隔性能，提供優(yōu)異的電磁屏蔽和導(dǎo)電效果。通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面，稱為蒸發(fā)鍍膜。這種方法較早由M.法拉第于1857年提出，現(xiàn)代已成為常用鍍膜技術(shù)之一。蒸發(fā)物質(zhì)如金屬、化合物等置于坩堝內(nèi)或掛在熱絲上作為蒸發(fā)源，待鍍工件，如金屬、陶瓷、塑料等基片置于坩堝前方。待系統(tǒng)抽至高真空后，加熱坩堝使其中的物質(zhì)蒸發(fā)。蒸發(fā)物質(zhì)的原子或分子以冷凝方式沉積在基片表面。薄膜厚度可由數(shù)百埃至數(shù)微米。膜厚決定于蒸發(fā)源的蒸發(fā)速率和時間(或決定于裝料量)，并與源和基片的距離有關(guān)。對于大面積鍍膜，常采用旋轉(zhuǎn)基片或多蒸發(fā)源的方式以保證膜層厚度的均勻性。從蒸發(fā)源到基片的距離應(yīng)小于蒸氣分子在殘余氣體中的平均自由程，以免蒸氣分子與殘氣分子碰撞引起化學(xué)作用。蒸氣分子平均動能約為0.1~0.2電子伏。真空鍍膜機(jī)在集成電路制造中的應(yīng)用：晶體管路中的保護(hù)層、電極管線等多是采用CVD技術(shù)。北京低壓氣相沉積真空鍍膜公司

離子真空鍍膜機(jī)目前現(xiàn)狀情況：1、外資企業(yè)沖擊風(fēng)險(xiǎn)：目前我國多弧離子鍍膜機(jī)企業(yè)在產(chǎn)品系列尚無法與國外產(chǎn)品競爭，在國際上有名度不高。國內(nèi)多弧離子鍍膜機(jī)的生產(chǎn)廠家，主要考慮的是國內(nèi)的中、低端市場，采用消耗設(shè)備的性能和可靠性的低價策略來贏得市場，生產(chǎn)經(jīng)營也缺乏對設(shè)備研制的能力和將技術(shù)研發(fā)付諸于實(shí)施的中長期規(guī)劃。2、基礎(chǔ)材料學(xué)發(fā)展局限性：材料是現(xiàn)代高新技術(shù)和產(chǎn)業(yè)的基礎(chǔ)與先導(dǎo)，是高新技術(shù)取得突破的前提條件。真空離子鍍膜設(shè)備工作時往往溫度較高，甚至可以達(dá)到350到500攝氏度，要求設(shè)備制造材料有耐高溫和強(qiáng)度高特性。另外，涂鍍層的性能會直接影響鍍膜需求，也需要材料學(xué)的不斷創(chuàng)新。我國基礎(chǔ)材料學(xué)相較于發(fā)達(dá)國家起步較晚，雖然近幾年在國家的大力發(fā)展支持下取得了許多突破性的進(jìn)展，實(shí)現(xiàn)了許多技術(shù)突破，但是和發(fā)達(dá)國家相比還存在一定的差距。基礎(chǔ)行業(yè)發(fā)展的局限性將在一定程度上限制真空離子鍍膜行業(yè)的發(fā)展。北京低壓氣相沉積真空鍍膜公司真空鍍膜機(jī)電阻式蒸發(fā)鍍分為預(yù)熱段、預(yù)溶段、線性蒸發(fā)段三個步驟。

真空鍍膜機(jī)在韌性較好的刀具（刀片）基體上進(jìn)行表面涂層，涂覆具有高硬度、高耐磨性、耐高溫材料的薄層（如TiN、TiC等），使刀具（刀片）具有周全、良好的綜合性能。未涂層高速鋼的硬度只為62~68HRC（760~960HV），硬質(zhì)合金的硬度只為89~93.5HRA（1300~1850HV）；而涂層后的表面硬度可達(dá)2000~3000HV以上。①由于表面涂層材料具有比較高的硬度和耐磨性，且耐高溫。故與未涂層的刀具（刀片）相比，涂層刀具允許采用較高的切削速度，從而提高了切削加工效率；或能在相同的切削速度下，提高刀具壽命。②由于涂層材料與被加工材料之間的摩擦系數(shù)較小，故涂層刀具（刀片）的切削力小于未涂層刀具（刀片）。③用涂層刀具（刀片）加工，零件的已加工表面質(zhì)量較好。④由于涂層刀具（刀片）的綜合性能良好，故涂層硬質(zhì)合金刀片有較好的通用性，一種涂層硬質(zhì)合的刀片具有較寬的使用范圍。

多弧離子真空鍍膜機(jī)與蒸發(fā)真空鍍膜機(jī)、濺射真空鍍膜機(jī)相比，較大的特點(diǎn)是荷能離子一邊轟擊基體與膜層，一邊進(jìn)行沉積。荷能離子的轟擊作用所產(chǎn)生一系列的效應(yīng)，主要有如下幾點(diǎn)：多弧離子真空鍍膜機(jī)鍍膜鍍層質(zhì)量高。由于離子轟擊可提高膜的致密度，改善膜的組織結(jié)構(gòu)，使得膜層的均勻度好，多弧離子真空鍍膜設(shè)備鍍膜鍍層組織致密，小孔和氣泡少。多弧離子真空鍍膜機(jī)鍍膜沉積速率高，成膜速度快，可制備30μm的厚膜。多弧離子真空鍍膜設(shè)備鍍膜所適用的基體材料與膜層材料均比較普遍。適用于在金屬或非金屬表面上鍍制金屬、化合物、非金屬材料的膜層。如在鋼鐵、有色金屬、石英、陶瓷、塑料等各種材料表面鍍膜。磁控濺射主要利用輝光放電將氬氣離子撞擊靶材表面,靶材的原子被彈出而堆積在基板表面形成薄膜。

真空鍍膜機(jī)真空壓鑄是一項(xiàng)可供鈦鑄件生產(chǎn)廠選用，真空鍍膜機(jī)能提高鑄件質(zhì)量，降低成本的技術(shù)。由于鈦鑄件在航空工業(yè)中的應(yīng)用持續(xù)增長，各生產(chǎn)廠家都在致力于尋求能降低生產(chǎn)成本以取代高成本鈦部件的生產(chǎn)方法，尤其是當(dāng)今世界靜靜競爭激烈的情況下更是如此。因此，成本較低，機(jī)械性能與鑄件相似的鈦鑄件，不只可以取代現(xiàn)有的吧、鈦部件，還可以取代其它材料的部件，VDC技術(shù)即是為生產(chǎn)高質(zhì)量、低成本鈦鑄件開發(fā)的。其鑄件典型的應(yīng)用包括飛機(jī)體以及其它航空航天和工業(yè)用零部件。磁控濺射常用于新型氧化物，陶瓷材料的鍍膜，電子束則用于對薄膜質(zhì)量較高的金屬材料。上海功率器件真空鍍膜

真空鍍膜機(jī)大功率脈沖磁控濺射技術(shù)的脈沖峰值功率是普通磁控濺射的100倍，在1000~3000W/cm2范圍。北京低壓氣相沉積真空鍍膜公司

真空鍍膜機(jī)模具滲碳是為了提高模具的整體強(qiáng)韌性，即模具的工作表面具有高的強(qiáng)度和耐磨性。真空鍍膜機(jī)硬化膜沉積技術(shù)目前較成熟的是cvd、pvd。模具自上個世紀(jì)80年代開始采用涂覆硬化膜技術(shù)。目前的技術(shù)條件下，真空鍍膜設(shè)備硬化膜沉積技術(shù)（主要是設(shè)備）的成本較高，仍然只在一些精密、長壽命模具上應(yīng)用，如果采用建立熱處理中心的方式，則涂覆硬化膜的成本會較大降低，更多的模具如果采用這一技術(shù)，可以整體提高我國的模具制造水平。自上個世紀(jì)70年代開始，國際上就提出預(yù)硬化的想法，但由于加工機(jī)床剛度和切削刀具的制約，預(yù)硬化的硬度無法達(dá)到模具的使用硬度，所以預(yù)硬化技術(shù)的研發(fā)投入不大。隨著加工機(jī)床和切削刀具性能的提高，模具材料的預(yù)硬化技術(shù)開發(fā)速度加快，到上個世紀(jì)80年代，國際上工業(yè)發(fā)達(dá)國家在塑料模用材上使用預(yù)硬化模塊的比例已達(dá)到30%（目前在60%以上）。北京低壓氣相沉積真空鍍膜公司