“納米制造”路線圖強(qiáng)調(diào)了未來納米表面制造的發(fā)展。問卷調(diào)查探尋了納米表面制備所面臨的機(jī)遇。調(diào)查中提出的問題旨在獲取納米表面特征的相關(guān)信息:這種納米表面結(jié)構(gòu)可以是形貌化、薄膜化的改良表面區(qū)域,也可以是具有相位調(diào)制或一定晶粒尺寸的涂層。這類結(jié)構(gòu)構(gòu)建于眾多固體材料表面,如金屬、陶瓷、玻璃、半導(dǎo)體和聚合物等??偨Y(jié)了調(diào)查結(jié)果與發(fā)現(xiàn),并闡明了未來納米表面制造的前景。納米表面可產(chǎn)生自材料的消解、沉積、改性或形成過程。這導(dǎo)致制備出的納米表面帶有納米尺度所特有的新的化學(xué)、物理和生物特性(比如催化作用、磁性質(zhì)、電性質(zhì)、光學(xué)性質(zhì)或抗細(xì)菌性)。在納米科學(xué)許多已有的和新興的子領(lǐng)域中,表面工程已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了從基礎(chǔ)科學(xué)向現(xiàn)實(shí)應(yīng)用的轉(zhuǎn)變,比如材料科學(xué)、光學(xué)、微電子學(xué)、動(dòng)力工程學(xué)、傳感系統(tǒng)和生物工程學(xué)等。在改進(jìn)和簡(jiǎn)化生產(chǎn)過程方面,還需要做許多工作才能降低***納米表面的生產(chǎn)成本??芍貜?fù)性、尺寸形狀的控制、均勻性以及結(jié)構(gòu)的魯棒性等,都是工業(yè)生產(chǎn)過程中必須要考慮的關(guān)鍵參數(shù)。微納制造技術(shù)是微傳感器、微執(zhí)行器、微結(jié)構(gòu)和功能微納系統(tǒng)制造的基本手段和重要基礎(chǔ)。深圳刻蝕微納加工價(jià)錢
仿生學(xué)是近年來發(fā)展起來的一門工程技術(shù)與生物科學(xué)相結(jié)合的交叉學(xué)科。仿生學(xué)研究生物體的結(jié)構(gòu)、功能和工作原理,并將這些原理移植于工程技術(shù)之中,試圖在技術(shù)上模仿植物和動(dòng)物在自然中的功能,發(fā)明性能優(yōu)越的儀器、裝置和機(jī)器,創(chuàng)造新技術(shù)。就聚合物仿生功能材料而言,在聚合物材料表面加工出不同形式的微納結(jié)構(gòu)就會(huì)賦予材料不同的性能。超疏水表面是指水滴在表面的接觸角大于150°,同時(shí)滾動(dòng)角小于10°的一種特殊表面。在過去的20年里,超疏水表面誘人的潛在應(yīng)用價(jià)值已經(jīng)引起了科學(xué)家們極大的興趣。自然界中,荷葉表面是超疏水的典型象征,其表面的接觸角高達(dá)160°。展示了荷葉的超疏水效果及其表面微觀結(jié)構(gòu)。荷葉表面的這種超疏水特性是由微米乳突和低表面能的蠟狀晶體共同引起的。通過在聚合物材料表面構(gòu)建類荷葉狀的周期性微納米結(jié)構(gòu)可以獲得具有優(yōu)異超疏水性能的聚合物制品,可用于汽車后視鏡等有防水防霧需求的場(chǎng)合。黑龍江鍍膜微納加工實(shí)驗(yàn)室微納檢測(cè)主要是表征檢測(cè):原子力顯微鏡、掃描電鏡、掃描顯微鏡、XRD、臺(tái)階儀等。
MEMS工藝離不開曝光工藝。光刻曝光系統(tǒng):接觸式曝光和非接觸式曝光的區(qū)別,在于曝光時(shí)掩模與晶片間相對(duì)關(guān)系是貼緊還是分開。接觸式曝光具有分辨率高、復(fù)印面積大、復(fù)印精度好、曝光設(shè)備簡(jiǎn)單、操作方便和生產(chǎn)效率高等特點(diǎn)。但容易損傷和沾污掩模版和晶片上的感光膠涂層,影響成品率和掩模版壽命,對(duì)準(zhǔn)精度的提高也受到較多的限制。一般認(rèn)為,接觸式曝光只適于分立元件和中、小規(guī)模集成電路的生產(chǎn)。非接觸式曝光主要指投影曝光。在投影曝光系統(tǒng)中,掩膜圖形經(jīng)光學(xué)系統(tǒng)成像在感光層上,掩模與晶片上的感光膠層不接觸,不會(huì)引起損傷和沾污,成品率較高,對(duì)準(zhǔn)精度也高,能滿足高集成度器件和電路生產(chǎn)的要求。但投影曝光設(shè)備復(fù)雜,技術(shù)難度高,因而不適于低檔產(chǎn)品的生產(chǎn)?,F(xiàn)代應(yīng)用較廣的是 1:1倍的全反射掃描曝光系統(tǒng)和x:1倍的在硅片上直接分步重復(fù)曝光系統(tǒng)。
微納加工技術(shù)是先進(jìn)制造的重要組成部分,是衡量國家高級(jí)制造業(yè)水平的標(biāo)志之一,具有多學(xué)科交叉性和制造要素極端性的特點(diǎn),在推動(dòng)科技進(jìn)步、促進(jìn)產(chǎn)業(yè)發(fā)展、拉動(dòng)科技進(jìn)步、保障**安全等方面都發(fā)揮著關(guān)鍵作用。微納加工技術(shù)的基本手段包括微納加工方法與材料科學(xué)方法兩種。比較顯然,微納加工技術(shù)與微電子工藝技術(shù)有密切關(guān)系。微納加工大致可以分為“自上而下”和“自下而上”兩類。“自上而下”是從宏觀對(duì)象出發(fā),以光刻工藝為基礎(chǔ),對(duì)材料或原料進(jìn)行加工,較小結(jié)果尺寸和精度通常由光刻或刻蝕環(huán)節(jié)的分辨力決定?!白韵露稀奔夹g(shù)則是從微觀世界出發(fā),通過控制原子、分子和其他納米對(duì)象的相互作用力將各種單元構(gòu)建在一起,形成微納結(jié)構(gòu)與器件。微納結(jié)構(gòu)器件是系統(tǒng)重要的組成部分,其制造的質(zhì)量、效率和成本直接影響著行業(yè)的發(fā)展。
研究應(yīng)著眼于開發(fā)一種新型的可配置、可升級(jí)的微納制造平臺(tái)和系統(tǒng),以降低大批量或是小規(guī)模定制產(chǎn)品的生產(chǎn)成本。新一代微納制造系統(tǒng)應(yīng)滿足下述要求:(1)能生產(chǎn)多種多樣高度復(fù)雜的微納產(chǎn)品;(2)具有微納特性的組件的小型化連續(xù)生產(chǎn);(3)為了掌握基于整個(gè)生產(chǎn)加工鏈制造的知識(shí),新設(shè)計(jì)和仿真系統(tǒng)的產(chǎn)品開發(fā)過程的全部跨學(xué)科知識(shí)進(jìn)行條理化和儲(chǔ)存;(4)為了保證生產(chǎn)的靈活性和適應(yīng)性,應(yīng)確保在分布式制造中各企業(yè)的有效合作,以支撐通過新型商業(yè)生產(chǎn)、管理和物流方法來實(shí)現(xiàn)的中小型企業(yè)在綜合制造網(wǎng)絡(luò)中的有效整合;(5)是一個(gè)擁有更高級(jí)的智能和可靠性、可根據(jù)相應(yīng)環(huán)境自行調(diào)整設(shè)置及生產(chǎn)加工參數(shù)的、可嵌入整個(gè)生產(chǎn)制造行業(yè)的制造系統(tǒng);(6)新型可快速配置和價(jià)格適中的微納制造系統(tǒng),融入了面向任務(wù)和可重復(fù)配置的理念,能夠?qū)崿F(xiàn)連續(xù)的系統(tǒng)升級(jí)和無縫重復(fù)配置。微納加工設(shè)備主要有:光刻、刻蝕、成膜、離子注入、晶圓鍵合等。江蘇刻蝕微納加工工藝
在我國,微納制造技術(shù)同樣是重點(diǎn)發(fā)展方向之一。深圳刻蝕微納加工價(jià)錢
微納加工氧化工藝是在高溫下,襯底的硅直接與O2發(fā)生反應(yīng)生成SiO2,后續(xù)O2通過SiO2層擴(kuò)散到Si/SiO2界面,繼續(xù)與Si發(fā)生反應(yīng)增加SiO2薄膜的厚度,生成1個(gè)單位厚度的SiO2薄膜,需要消耗0.445單位厚度的Si襯底;相對(duì)CVD工藝而言,氧化工藝可以制作更加致密的SiO2薄膜,有利于與其他材料制作更加牢固可靠的結(jié)構(gòu)層,提高M(jìn)EMS器件的可靠性。同時(shí)致密的SiO2薄膜有利于提高與其它材料的濕法刻蝕選擇比,提高刻蝕加工精度,制作更加精密的MEMS器件。同時(shí)氧化工藝一般采用傳統(tǒng)的爐管設(shè)備來制作,成本低,產(chǎn)量大,一次作業(yè)100片以上,SiO2薄膜一致性也可以做到更高+/-3%以內(nèi)。深圳刻蝕微納加工價(jià)錢