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一個(gè)或多個(gè)vcsel結(jié)構(gòu)具有頂層,并且激光源進(jìn)一步包括在一個(gè)或多個(gè)vcsel結(jié)構(gòu)中的至少一個(gè)vcsel結(jié)構(gòu)的頂層上的多個(gè)亞波長(zhǎng)結(jié)構(gòu)。示例9包括示例8的主題,其中,一個(gè)或多個(gè)亞波長(zhǎng)結(jié)構(gòu)包括芯材和殼材,該殼材被放置在芯材的一個(gè)或多個(gè)表面上,該殼材具有比芯材高的折射率。示例10是一種光投影儀系統(tǒng)。該光投影儀系統(tǒng)包括:激光源,被配置為生成向物體發(fā)送的輻射;以及圖像傳感器,被配置為接收從物體反射的輻射。激光源包括襯底、一個(gè)或多個(gè)***vscel結(jié)構(gòu)、以及一個(gè)或多個(gè)第二vcsel結(jié)構(gòu)。一個(gè)或多個(gè)***vcsel結(jié)構(gòu)在襯底的表面上,每個(gè)***vcsel結(jié)構(gòu)具有***孔徑寬度并且單獨(dú)地在襯底的表面上方延伸。一個(gè)或多個(gè)第二vcsel結(jié)構(gòu)在襯底表面上,每個(gè)第二vcsel結(jié)構(gòu)具有不同于***孔徑寬度的第二孔徑寬度并且單獨(dú)地在襯底的表面上方延伸。示例11包括示例10的主題,其中,一個(gè)或多個(gè)***vcsel在襯底的表面上的***區(qū)域中,一個(gè)或多個(gè)第二vcsel在襯底的表面上的不同于***區(qū)域的第二區(qū)域中。示例12包括示例10或11的主題,其中,一個(gè)或多個(gè)***vcsel和一個(gè)或多個(gè)第二vcsel在襯底的表面上的偽隨機(jī)圖案中。示例13包括示例10至12中任一項(xiàng)的主題,其中。菲涅爾透鏡聚光技術(shù)規(guī)范。重慶人體紅外透鏡
深度確定電路208被配置為從檢測(cè)器206接收?qǐng)D像獲取數(shù)據(jù),并且基于參考平面確定橫跨物體表面上的多個(gè)點(diǎn)的一個(gè)或多個(gè)空間測(cè)量結(jié)果。可以基于投射到物體上的光圖案的扭曲計(jì)算得出這些測(cè)量結(jié)果。這種圖像處理可以使用本行業(yè)的公知技術(shù),例如,標(biāo)準(zhǔn)測(cè)距或三角測(cè)量方法。在一些實(shí)施例中,光驅(qū)動(dòng)器電路210被包括在光投影儀系統(tǒng)102中并且被配置為控制光源202的操作。因此,光驅(qū)動(dòng)器電路210可以被配置為向光源202提供功率,更具體地控制應(yīng)用于光源202的功率的占空比。在一些實(shí)施例中,深度確定電路208可以向源驅(qū)動(dòng)器電路210提供信號(hào),以改變光源202的操作方式。例如,如果深度確定電路208發(fā)現(xiàn)接收?qǐng)D像太模糊而無(wú)法做出有意義的確定,則其可以向源驅(qū)動(dòng)器電路210提供信號(hào)以增大光源202的功率輸出或占空比。可以提供處理器212以執(zhí)行數(shù)字重建3d物體所需要的任何附加計(jì)算。處理器212可以是任何通用處理設(shè)備或微控制器,如根據(jù)本公開(kāi)將明白的。在一些實(shí)施例中,處理器212被配置為將數(shù)字重建的3d物體存儲(chǔ)在存儲(chǔ)器(未示出)中。所存儲(chǔ)的數(shù)字3d物體可以用類型、位置、尺寸、或任何其他符合條件的因素進(jìn)行索引。所存儲(chǔ)的3d數(shù)字物體可以被諸如圖像識(shí)別軟件之類的各種應(yīng)用使用。四川人體紅外透鏡銷售菲涅爾透鏡結(jié)構(gòu)怎么樣?
每個(gè)亞波長(zhǎng)結(jié)構(gòu)具有大約λ/2的厚度,其中,λ是該vcsel結(jié)構(gòu)的峰值輸出波長(zhǎng)。示例30包括示例23至29中任一項(xiàng)的主題,還包括在襯底的表面上的多個(gè)vcsel結(jié)構(gòu),其中,多個(gè)vcsel結(jié)構(gòu)中的每個(gè)vcsel結(jié)構(gòu)包括多個(gè)亞波長(zhǎng)結(jié)構(gòu)。示例31包括示例23至30中任一項(xiàng)的主題,其中,多個(gè)亞波長(zhǎng)結(jié)構(gòu)包括具有基部和頂部的至少一個(gè)亞波長(zhǎng)結(jié)構(gòu),其中,基部比頂部寬。示例32包括示例23至31中任一項(xiàng)的主題,其中,多個(gè)亞波長(zhǎng)結(jié)構(gòu)包括具有基部和頂部的至少一個(gè)亞波長(zhǎng)結(jié)構(gòu),其中,基部比頂部窄。示例33是一種布置在光學(xué)設(shè)備上的亞波長(zhǎng)結(jié)構(gòu)。該亞波長(zhǎng)結(jié)構(gòu)包括芯材和在芯材的一個(gè)或多個(gè)表面上的殼材。芯材具有***折射率并且具有比光源的峰值輸出波長(zhǎng)小的尺寸。殼材具有大于***折射率的第二折射率。示例34包括示例33的主題,其中,芯材是圓柱狀結(jié)構(gòu)。示例35包括示例34的主題,其中,芯材和殼材具有在λ/10到λ/5之間的直徑,其中,λ是光源的峰值輸出波長(zhǎng)。示例36包括示例33至35中任一項(xiàng)的主題,其中,殼材具有小于5nm的厚度。示例37包括示例33至36中任一項(xiàng)的主題,其中,殼材包括氧化鈦,并且芯材包括氮化硅。示例38包括示例33至37中任一項(xiàng)的主題,其中,殼材*在芯材的側(cè)壁上。
圖3示出了根據(jù)實(shí)施例的光源202或者光源202的至少一部分的自頂向下的視圖。光源202包括襯底302,該襯底具有布置在襯底302的表面上的多個(gè)vcsel結(jié)構(gòu)304。在一些實(shí)施例中,襯底302可以是:包括第iv族半導(dǎo)體材料(例如,si、ge、sige)、第iii-v族半導(dǎo)體材料(例如,gaas、gaassb、gaasin)、和/或根據(jù)本公開(kāi)將明白的任何一種或多種其他適當(dāng)材料的大塊襯底;絕緣體上的x(xoi)結(jié)構(gòu),其中,x是前述材料(例如,第iv和/或iii-v族半導(dǎo)體材料)之一,絕緣體材料是氧化物材料或介電材料或者一些其他電絕緣材料,從而xoi結(jié)構(gòu)包括兩個(gè)半導(dǎo)體層之間的電絕緣材料層;或者一些其他適當(dāng)?shù)亩鄬咏Y(jié)構(gòu),其中,頂層包括前述半導(dǎo)體材料(例如,第iv和/或iii-v族半導(dǎo)體材料)之一。這里使用的“第iv族半導(dǎo)體材料”(或“第iv族材料”或統(tǒng)稱“iv”)在包括至少一種第iv族元素(例如,硅、鍺、碳、錫),例如,硅(si)、鍺(ge)、硅鍺(sige)等。這里使用的“第iii-v族半導(dǎo)體材料”(或“第iii-v族材料”或統(tǒng)稱“ii-v”)包括至少一種第iii族元素(例如,鋁、鎵、銦)和至少一種第v族元素(例如,氮、磷、砷、銻、鉍),例如,砷化鎵(gaas)、砷化鎵銦(ingaas)、砷化鋁銦(inalas)、磷化鎵(gap)、銻化鎵(gasb)、磷化銦。菲涅爾透鏡聚光原理技術(shù)指導(dǎo)。
適當(dāng)?shù)慕Y(jié)構(gòu)化光投影儀通常包括激光設(shè)備,該激光設(shè)備采用衍射圖案實(shí)現(xiàn)期望的結(jié)構(gòu)化光圖案。一個(gè)示例激光設(shè)備是結(jié)合激光條紋使用的垂直腔面發(fā)射激光器(vcsel)。但是,存在與這種配置相關(guān)聯(lián)的局限。例如,使用激光條紋獲取精確的剖面信息的局限主要?dú)w因于與激光相關(guān)聯(lián)的噪聲和采樣誤差,因?yàn)榧す鈼l紋的中心可能不是在相機(jī)的像素中心成像并且可能不是檢測(cè)到的強(qiáng)度峰值。當(dāng)在圖像上定位激光條紋的中心時(shí)出現(xiàn)采樣誤差。存在嘗試從激光條紋提取相關(guān)信息的諸如,比較大強(qiáng)度、強(qiáng)度中心、高斯擬合、以及過(guò)零點(diǎn)之類的圖像處理技術(shù)。與這些技術(shù)中的若干技術(shù)相關(guān)聯(lián)的問(wèn)題在于,其給出了比較高峰值的位置,但是該位置不是條紋的真實(shí)中心。與激光相關(guān)聯(lián)的噪聲主要采取激光斑點(diǎn)的形式,該激光斑點(diǎn)當(dāng)從該部分的表面被反射出來(lái)時(shí)是激光的強(qiáng)度剖面的振蕩并且是由激光的相干導(dǎo)致的??梢允褂脤?duì)接收的圖像的數(shù)字后處理來(lái)補(bǔ)償激光斑點(diǎn)。但是,這會(huì)是計(jì)算密集的并且導(dǎo)致相對(duì)較高的功率消耗,并且進(jìn)一步導(dǎo)致3d圖像的創(chuàng)建的延遲。因此,根據(jù)本公開(kāi)的實(shí)施例,結(jié)構(gòu)化光投影儀采用新型激光源設(shè)計(jì),該激光源設(shè)計(jì)在相對(duì)于標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)不增加計(jì)算負(fù)擔(dān)的條件下減少或基本消除了激光斑點(diǎn)。另外。菲涅爾透鏡的設(shè)計(jì)技術(shù)指導(dǎo)。廣東制造紅外透鏡材料
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用于***元原子1002和第二元原子1004二者的芯材和殼材可以包括如上針對(duì)芯材804和殼材806所述的材料,并且可以使用如上針對(duì)芯材804和殼材806所述的相同技術(shù)來(lái)制造。可以使用任意數(shù)目的具有任意形狀或大小的元原子來(lái)一起形成元分子。可以橫跨頂層802的表面重復(fù)具體的元分子結(jié)構(gòu),或者可以橫跨頂層802的表面布置不同的元分子結(jié)構(gòu)。元分子允許不同的光學(xué)相互作用基于各個(gè)元原子的不同幾何形狀而組合在一起。方法圖11是示出根據(jù)本公開(kāi)的實(shí)施例的用于降低來(lái)自激光源的斑點(diǎn)噪聲的示例方法1100的流程圖。可以看出,示例方法1100包括多個(gè)階段和子處理,這些階段和子處理的順序可以隨實(shí)施例改變。但是,當(dāng)綜合考慮時(shí),這些階段和子處理形成根據(jù)本文公開(kāi)的某些實(shí)施例的用于降低來(lái)自激光源的斑點(diǎn)噪聲的處理。如上所述,可以例如,使用圖2所示的系統(tǒng)架構(gòu)來(lái)實(shí)現(xiàn)這些實(shí)施例。但是,根據(jù)本公開(kāi)將明白的是,在其他實(shí)施例中可以使用其他系統(tǒng)架構(gòu)。因此,圖11所示的各種功能與圖2所示的具體組件的關(guān)聯(lián)不意在暗示任何結(jié)構(gòu)和/或使用限制。相反,其他實(shí)施例可以包括例如不同程度的集成,其中,多個(gè)功能由一個(gè)系統(tǒng)有效地執(zhí)行。根據(jù)本公開(kāi)將明白多種變化和替代配置。如圖11所示,在一個(gè)實(shí)施例中。重慶人體紅外透鏡
深圳市芯華利實(shí)業(yè)有限公司公司是一家專門從事微波雷達(dá)感應(yīng)模塊(傳感器,紅外人體感應(yīng)模塊,菲涅爾鏡片,PIR透鏡,單面、雙面、多層PCB板產(chǎn)品的生產(chǎn)和銷售,是一家生產(chǎn)型企業(yè),公司成立于2020-08-04,位于福城街道辦章閣社區(qū)誠(chéng)基工業(yè)園A棟5樓。多年來(lái)為國(guó)內(nèi)各行業(yè)用戶提供各種產(chǎn)品支持。公司主要經(jīng)營(yíng)微波雷達(dá)感應(yīng)模塊(傳感器,紅外人體感應(yīng)模塊,菲涅爾鏡片,PIR透鏡,單面、雙面、多層PCB板等產(chǎn)品,產(chǎn)品質(zhì)量可靠,均通過(guò)電子元器件行業(yè)檢測(cè),嚴(yán)格按照行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)執(zhí)行。目前產(chǎn)品已經(jīng)應(yīng)用與全國(guó)30多個(gè)省、市、自治區(qū)。深圳市芯華利實(shí)業(yè)有限公司研發(fā)團(tuán)隊(duì)不斷緊跟微波雷達(dá)感應(yīng)模塊(傳感器,紅外人體感應(yīng)模塊,菲涅爾鏡片,PIR透鏡,單面、雙面、多層PCB板行業(yè)發(fā)展趨勢(shì),研發(fā)與改進(jìn)新的產(chǎn)品,從而保證公司在新技術(shù)研發(fā)方面不斷提升,確保公司產(chǎn)品符合行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)和要求。微波雷達(dá)感應(yīng)模塊(傳感器,紅外人體感應(yīng)模塊,菲涅爾鏡片,PIR透鏡,單面、雙面、多層PCB板產(chǎn)品滿足客戶多方面的使用要求,讓客戶買的放心,用的稱心,產(chǎn)品定位以經(jīng)濟(jì)實(shí)用為重心,公司真誠(chéng)期待與您合作,相信有了您的支持我們會(huì)以昂揚(yáng)的姿態(tài)不斷前進(jìn)、進(jìn)步。