江西氣浮隔振光學(xué)平臺(tái)配件

來源: 發(fā)布時(shí)間:2024-08-22

光學(xué)平臺(tái)的隔振性能取決于臺(tái)面本身和支架的隔振性能,總體上說,光學(xué)平臺(tái)的隔振,通過三個(gè)方面來實(shí)現(xiàn):隔振支架:通常來說,氣浮式隔振支架性能優(yōu)于阻尼式隔振支架,部分性能優(yōu)異的隔振支架可以將外界振動(dòng)(常見10~200Hz)減少一至兩個(gè)數(shù)量級(jí)臺(tái)面物理性能:要求臺(tái)面有一定的剛性而且較輕(硬重比),這樣的臺(tái)面可以有效減少共振時(shí)的振幅,這一點(diǎn)在后面闡述臺(tái)面內(nèi)部結(jié)構(gòu):臺(tái)面的內(nèi)部結(jié)構(gòu),除了負(fù)責(zé)減輕支架未能消除的外界振動(dòng)外對(duì)于降低或消除因臺(tái)面上的沖擊和相對(duì)運(yùn)動(dòng)引起的振動(dòng),起到至關(guān)重要的作用光學(xué)平臺(tái)共振頻率和振幅是負(fù)相關(guān)的,因此共振頻率應(yīng)盡可能地增大,從而將振動(dòng)強(qiáng)度小化。江西氣浮隔振光學(xué)平臺(tái)配件

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光學(xué)平板通常作為分光鏡或窗口等透過型元件或被用作全反射鏡或光學(xué)測(cè)量中的基準(zhǔn)平面。其中大部分產(chǎn)品有各種指標(biāo)的組合:形狀,面精度,多種厚度和平行度。臺(tái)面采用陣列的M6標(biāo)準(zhǔn)螺紋孔,便于固定各種調(diào)整架、支撐架、光具座、位移臺(tái)等,是一種便利且性價(jià)比高的平臺(tái)。產(chǎn)品特點(diǎn):光學(xué)平板采用優(yōu)良鋁合金或者不銹鋼精加工而成,重量適中,易搬動(dòng),不易變形。螺紋孔陣列的標(biāo)準(zhǔn)孔距便于固定各種調(diào)整架、支撐架、光具座、位移臺(tái)等。表面經(jīng)過陽極氧化發(fā)黑處理,減少表面反射,美觀耐用。天津精密光學(xué)平臺(tái)廠家光學(xué)平臺(tái)重要的作用是提供動(dòng)態(tài)剛度。

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不要把精密大理石檢測(cè)平臺(tái)放在磁場(chǎng)附近,例如磨床的磁性作業(yè)臺(tái)上,避免感磁.發(fā)現(xiàn)有不正常景象時(shí),如表面不平、有毛刺、有銹斑以及刻度禁絕、尺身曲折變形、活動(dòng)不靈活等等,使用者不應(yīng)當(dāng)自行拆修,更不應(yīng)該自行用榔頭敲、銼刀銼、砂布打磨等粗糙方法修理,避免反而增大誤差。發(fā)現(xiàn)上述情況,使用者應(yīng)當(dāng)自行送計(jì)量站維修,并經(jīng)檢定大理石檢測(cè)平臺(tái)精度后再持續(xù)使用。大理石檢測(cè)平臺(tái)使用后,應(yīng)及時(shí)擦干凈。精密大理石檢測(cè)平臺(tái)應(yīng)實(shí)施定時(shí)檢定和維護(hù),長期使用的精密大理石檢測(cè)平臺(tái),要定時(shí)送計(jì)量站進(jìn)行維護(hù)和檢定精度,避免因大理石檢測(cè)平臺(tái)的示值誤差超差而形成產(chǎn)品質(zhì)量事故。

氣墊式隔振支架是利用氣墊的原理,將光學(xué)平臺(tái)架在氣墊上以達(dá)到隔振的效果。特點(diǎn)是:隔振效果好。但是造價(jià)較高,使用和維護(hù)繁瑣。針對(duì)維護(hù)繁瑣的情況又出現(xiàn)了自平衡(主動(dòng)隔振)系統(tǒng)。原理是利用各種傳感器提供的平臺(tái)平衡狀況,通過控制系統(tǒng)調(diào)節(jié)各個(gè)隔振支撐的氣壓來達(dá)到平衡的目的。光學(xué)平臺(tái)重要的兩個(gè)參數(shù)是平臺(tái)本身的平面度與隔振性能。平面度是主要是由材料、加工精度及加工工藝決定,三者缺一不可。由于光學(xué)系統(tǒng)對(duì)環(huán)境振動(dòng)極為敏感,剛性平臺(tái)在3個(gè)轉(zhuǎn)動(dòng)自由度上的振動(dòng)干擾會(huì)對(duì)發(fā)射光束的精確定向產(chǎn)生較為嚴(yán)重的破壞作用,直接影響到光束定向輻射的有效性,所以隔振性能也是決定光學(xué)平臺(tái)質(zhì)量好壞的一個(gè)重要指標(biāo)。光學(xué)平臺(tái)的重復(fù)定位精度,是指在空載和在一定條件下加上負(fù)載并去除負(fù)載,光學(xué)平臺(tái)終穩(wěn)定后的高度差。

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簡(jiǎn)單的光學(xué)平臺(tái)保養(yǎng)說明書?1.光學(xué)玻璃防雨罩使用時(shí)應(yīng)每年檢查周圍空氣、溫度、濕度,及時(shí)補(bǔ)充;2.材料缺陷和老化是平面顯微鏡對(duì)運(yùn)動(dòng)目標(biāo)的光學(xué)缺陷檢測(cè)很大的困難之一,受壓力改變形狀引起窗口模板反應(yīng)靈敏變形和關(guān)斷的遲鈍及其他其他缺陷;3.硬質(zhì)打磨主要是為了更加精細(xì)的修整和使用方便,但過大的打磨力會(huì)破壞平面顯微鏡,因?yàn)槠矫骘@微鏡的剛度需要很高;4.使用或處理過程中應(yīng)檢查檢驗(yàn)平面顯微鏡與玻璃接觸的部位,注意玻璃外部與玻璃之間的加工應(yīng)相對(duì)光滑;儀器設(shè)備的微振動(dòng)直接影響精密儀器設(shè)備的測(cè)量精度。天津精密光學(xué)平臺(tái)廠家

優(yōu)良的光學(xué)平臺(tái)不僅需要高精度的機(jī)器設(shè)備來加工。江西氣浮隔振光學(xué)平臺(tái)配件

大理石光學(xué)平臺(tái)材質(zhì)脆弱,害怕硬物的撞擊、敲打。所以平時(shí)應(yīng)注意防止鐵器等重物磕砸大理石平臺(tái)工作面,以免出現(xiàn)凹坑,降低大理石光學(xué)平臺(tái),影響使用。定期以微濕帶有溫和洗滌劑的布擦拭,大理石平臺(tái)清潔時(shí)應(yīng)少用水。然后用清潔的軟布抹干和擦亮。定期以微濕帶有溫和洗滌劑的布擦拭大理石平臺(tái)工作面。對(duì)于油跡,可用乙醇(酒精)(木精)或打火機(jī)電油擦拭,然后清洗及弄干。大理石光學(xué)平臺(tái)應(yīng)實(shí)施定期檢察恢復(fù),視具體情況可為6-12個(gè)月,但至少一年檢個(gè)修一次(要聘請(qǐng)專業(yè)人員來做)。江西氣浮隔振光學(xué)平臺(tái)配件