德國德國無掩膜光刻三維微納米加工系統(tǒng)

Nanoscribe作為一家納米，微米和中尺度高精度結(jié)構(gòu)增材制造**，一直致力于開發(fā)和生產(chǎn)3D微納加工系統(tǒng)和無掩模光刻系統(tǒng)，以及自研發(fā)的打印材料和特定應用不同解決方案。Nanoscribe成立于2007年，是卡爾斯魯厄理工學院(KIT)的衍生公司。在全球前列大學和創(chuàng)新科技企業(yè)的中，有超過2,500多名用戶在使用我們突破性的3D微納加工技術(shù)和定制應用解決方案。Nanoscribe憑借其過硬的技術(shù)背景和市場敏銳度奠定了其市場優(yōu)于主導地位，并以高標準來要求自己以滿足客戶的需求。Nanoscribe將在未來進一步擴大產(chǎn)品組合實現(xiàn)多樣化，以滿足不用客戶群的需求。了解雙光子無掩模光刻技術(shù)在微納醫(yī)學中的應用，請致電Nanoscribe中國分公司-納糯三維。德國德國無掩膜光刻三維微納米加工系統(tǒng)

Nanoscribe稱，QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)（two-photongrayscalelithography，2GL）的工業(yè)系統(tǒng)，目前該技術(shù)正在申請專利。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合，可生產(chǎn)折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型。該系統(tǒng)配備三個用于實時過程控制的攝像頭和一個樹脂分配器。為了簡化硬件配置之間的轉(zhuǎn)換，物鏡和樣品夾持器識別會自動運行。多層衍射光學元件（diffractiveopticalelement，DOE）可以通過在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來完成，從而減少多層微制造所需的打印時間。Nanoscribe表示，折射微光學也受益于2GL工藝的加工能力，可制作單個光學元件、填充因子高達100%的陣列，以及可以在直接和無掩模工藝中實現(xiàn)各種形狀，如球面和非球面透鏡。QuantumX的軟件能實時控制和監(jiān)控打印作業(yè)，并通過交互式觸摸屏控制面板進行操作。為了更好地管理和安排用戶的項目，打印隊列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè)。重慶雙光子聚合無掩膜光刻微納光刻想要了解無掩膜光刻的特點和用途，請致電Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。

光學和光電組件的小型化對于實現(xiàn)數(shù)據(jù)通信和電信以及傳感和成像的應用至關(guān)重要。通過傳統(tǒng)的微納3D打印來制作自由曲面透鏡等其他新穎設計會有分辨率不足和光學質(zhì)量表面不達標的缺陷，但是利用雙光子聚合原理則可以完美解決這些問題。該技術(shù)不光可以用于在平面基板上打印微納米部件，還可以直接在預先設計的圖案和拓撲上精確地直接打印復雜結(jié)構(gòu)，包括光子集成電路，光纖頂端和預制晶片等。Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)所具有的高設計自由度，可以在各種預先構(gòu)圖的基板上實現(xiàn)波導和混合折射衍射光學器件等3D微納加工制作。結(jié)合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng)，可以按設計需要精確地集成復雜的微納結(jié)構(gòu)。

QuantumXshape作為理想的快速成型制作工具，可實現(xiàn)通過簡單工作流程進行高精度和高設計自由度的制作。作為2019年推出的頭一臺雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)QuantumX的同系列產(chǎn)品，QuantumXshape提升了3D微納加工能力，即完美平衡精度和速度以實現(xiàn)高精度增材制造，以達到高水平的生產(chǎn)力和打印質(zhì)量?？偠灾?，工業(yè)級QuantumX打印系統(tǒng)系列提供了從納米到中觀尺寸結(jié)構(gòu)的非常先進的微制造工藝，適用于晶圓級批量加工。高速3D微納加工系統(tǒng)QuantumXshape可實現(xiàn)出色形狀精度和高精度制作。這種高質(zhì)量的打印效果是結(jié)合了特別先進的振鏡系統(tǒng)和智能電子系統(tǒng)控制單元的結(jié)果，同時還離不開工業(yè)級飛秒脈沖激光器以及平穩(wěn)堅固的花崗巖操作平臺。QuantumXshape具有先進的激光焦點軌跡控制，可操控振鏡加速和減速至特別快的掃描速度，并以1MHz調(diào)制速率動態(tài)調(diào)整激光功率。Nansocribe公司的無掩模光刻系統(tǒng)，采用一種全新的方式解決了制造并集成3D微納結(jié)構(gòu)到2D微流體通道的問題 。

為了進一步提升技術(shù)先進性，科研人員又在新材料研發(fā)的過程中發(fā)現(xiàn)了巨大的潛力。一方面，利用SCRIBE新技術(shù)的情況下，高折射率的光刻膠可進一步拓展對打印結(jié)構(gòu)的光學性能的調(diào)節(jié)度。另一方面，低自發(fā)熒光的可打印材料非常適用于生物成像領(lǐng)域。Nanoscribe公司的IP系列光刻膠，例如具有高折射率的IP-n162和具有生物相容性和低自發(fā)熒光的IP-Visio已經(jīng)為接下來的研究提供了進一步的可能。為了證明SCRIBE新技術(shù)的巨大潛力，科研人員打印了眾多令人矚目的光學組件，例如已經(jīng)提到的龍勃透鏡。此外科研人員還打印了消色差雙合透鏡（如圖示）。通過色散透鏡聚焦的光因波長不同焦點位置也不盡相同。通過組合不同折射率的透鏡可幫助降低透鏡的色差。在給出的例子中，成像中的熒光強度和折射率高度相關(guān)，同時將打印的雙透鏡中的每個單獨透鏡可視化。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司邀您一起探討無掩膜光刻系統(tǒng)的發(fā)展。河南德國無掩膜光刻激光直寫

無掩膜光刻機可以讀取任何CAD數(shù)據(jù)。德國德國無掩膜光刻三維微納米加工系統(tǒng)

多年來，Nanoscribe在微觀和納米領(lǐng)域一直非常出色，并且參與了很多3D打印的項目，包括等離子體技術(shù)、微光學等工業(yè)微加工相關(guān)項目。如今，Nanoscribe正在與美因茲大學和帕德博恩大學在內(nèi)的其他行業(yè)帶領(lǐng)機構(gòu)一起開發(fā)頻率和功率穩(wěn)定的小型二極管激光器。該團隊的項目為期三年，名為Miliquant，由德國聯(lián)邦教育和研究部（簡稱BMBF）提供資助。他們的研發(fā)成果——3D打印光源組件，將用于量子技術(shù)創(chuàng)新，并可以應用在醫(yī)療診斷、自動駕駛和細胞紅外顯微鏡成像之中。研發(fā)團隊將開展多項實驗，開發(fā)工業(yè)傳感器和成像系統(tǒng)，這就需要復雜的研發(fā)工作，還需要開發(fā)可靠的組件，以及組裝和制造的新方法。德國德國無掩膜光刻三維微納米加工系統(tǒng)

納糯三維科技（上海）有限公司致力于儀器儀表，是一家生產(chǎn)型公司。公司業(yè)務分為PPGT2，Quantum X系列，雙光子微納激光直寫系統(tǒng)，雙光子微納光刻系統(tǒng)等，目前不斷進行創(chuàng)新和服務改進，為客戶提供良好的產(chǎn)品和服務。公司將不斷增強企業(yè)重點競爭力，努力學習行業(yè)知識，遵守行業(yè)規(guī)范，植根于儀器儀表行業(yè)的發(fā)展。納糯三維立足于全國市場，依托強大的研發(fā)實力，融合前沿的技術(shù)理念，飛快響應客戶的變化需求。