無錫芯軟智控科技有限公司榮獲無錫市專精特新中小企業(yè)榮譽
又一家上市公司“精工科技”選擇芯軟云“
智能排產(chǎn)功能在MES管理系統(tǒng)中有哪些應用
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新誠物業(yè)&芯軟智控:一封表揚信,一面錦旗,是對芯軟智控的滿分
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了解MES生產(chǎn)管理系統(tǒng)的作用及優(yōu)勢?
QuantumXshape是一款真正意義上的全能機型?;陔p光子聚合技術,該激光直寫系統(tǒng)不只是快速成型制作的特別好的機型,同時適用于基于晶圓上的任何亞微米精度的2.5D及3D形狀的規(guī)模化生產(chǎn)。QuantumXshape在3D微納加工領域非常出色的精度,比肩于Nanoscribe公司在表面結構應用上突破性的雙光子灰度光刻(2GL®)。全新的QuantumXshape的高精度有賴于其高能力的體素調制比和超精細處理網(wǎng)格,從而實現(xiàn)亞體素的尺寸控制。此外,受益于雙光子灰度光刻對體素的微調,該系統(tǒng)在表面微結構的制作上可達到超光滑,同時保持高精度的形狀控制。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司邀您一起探討雙光子無掩模光刻技術。海南雙光子無掩膜光刻3D打印
由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件,從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領域的設計迭代周期,包括仿生表面,微光學元件,機械超材料和3D細胞支架等。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術,斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學研究中心的科學家們新研發(fā)的微型內窺鏡。將12050微米直徑的微光學器件直接打印在光纖上,構建了一款功能齊全的超薄像差校正光學相干斷層掃描探頭。這是迄今有報道的尺寸低值排名優(yōu)先的自由曲面3D成像探頭,包括導管鞘在內的直徑只為0.457mm。湖北2GL無掩膜光刻3D微納加工更多無掩模光刻系統(tǒng)的信息請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司。
QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng),用于快速原型制作和晶圓級批量生產(chǎn),以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領域的潛力。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(2PP)的專業(yè)激光直寫系統(tǒng),可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設計自由度。QuantumXshape可實現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工。這種效率的提升對于晶圓級批量生產(chǎn)尤其重要,這對于科研和工業(yè)生產(chǎn)領域應用有著重大意義。總而言之,該系統(tǒng)拓寬了3D微納加工在多個科研領域和工業(yè)行業(yè)應用的更多可能性(如生命科學、材料工程、微流體、微納光學、微機械和微電子機械系統(tǒng)(MEMS)等)。
Nanoscribe稱,QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(two-photongrayscalelithography,2GL)的工業(yè)系統(tǒng),目前該技術正在申請專利。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合,可生產(chǎn)折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型。QuantumX的軟件能實時控制和監(jiān)控打印作業(yè),并通過交互式觸摸屏控制面板進行操作。為了更好地管理和安排用戶的項目,打印隊列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè)。該軟件有程序向導,可在一開始就指導設計師和工程師完成打印作業(yè),并能夠接受任意光學設計的灰度圖像。例如,可接受高達32位分辨率的BMP、PNG或TIFF文件,以便使用Nanoscribe的QuantumX進行直接制造。在雙光子灰度光刻工藝中,激光功率調制和動態(tài)聚焦定位在高掃描速度下可實現(xiàn)同步進行,以便對每個掃描平面進行全體素大小控制。Nanoscribe稱,QuantumX在每個掃描區(qū)域內可產(chǎn)生簡單和復雜的光學形狀,具有可變的特征高度。離散和精確的步驟,以及本質上為準連續(xù)的形貌,可以在一個步驟中完成打印,而不需要多步光刻或多塊掩模制造??蛻羰褂肗anoscribe雙光子無掩模光刻系統(tǒng)制作了3D細胞支架來研究細胞生長、遷移和干細胞分化。
Nanoscribe作為一家納米,微米和中尺度高精度結構增材制造**,一直致力于開發(fā)和生產(chǎn)和無掩模光刻系統(tǒng),以及自研發(fā)的打印材料和特定應用不同解決方案。在全球頂端大學和創(chuàng)新科技企業(yè)的中,有超過2,500多名用戶在使用我們突破性的3D微納加工技術和定制應用解決方案。作為基于雙光子聚合技術(2PP)的微納加工領域市場帶領者,Nanoscribe在全球30多個國家擁有各科領域的客戶群體?;?PP微納加工技術方面的專業(yè)知識,Nanoscribe為頂端科學研究和工業(yè)創(chuàng)新提供強大的技術支持,并推動生物打印、微流體、微納光學、微機械、生物醫(yī)學工程和集成光子學技術等不同領域的發(fā)展?!拔覀兎浅F诖尤隒ELLINK集團,共同探索雙光子聚合技術在未來所帶來的更大機遇”NanoscribeCEOMartinHermatschweiler說道。Nanoscribe的Quantum X無掩模光刻系統(tǒng)在LASER World of Photonics展會上榮獲創(chuàng)新獎。重慶德國無掩膜光刻設備
想要了解雙光子無掩模光刻技術在微納醫(yī)學中的應用,請關注Nanoscribe中國分公司-納糯三維。海南雙光子無掩膜光刻3D打印
光子集成電路(PhotonicIntegratedCircuit,PIC)與電子集成電路類似,但不同的是電子集成電路集成的是晶體管、電容器、電阻器等電子器件,而光子集成電路集成的是各種不同的光學器件或光電器件,比如激光器、電光調制器、光電探測器、光衰減器、光復用/解復用器以及光放大器等。集成光子學可較廣地應用于各種領域,例如數(shù)據(jù)通訊,激光雷達系統(tǒng)的自動駕駛技術和YL領域中的移動感應設備等。而光子集成電路這項關鍵技術,尤其是微型光子組件應用,可以很大程度縮小復雜光學系統(tǒng)的尺寸并降低成本。光子集成電路的關鍵技術還在于連接接口,例如光纖到芯片的連接,可以有效提高集成度和功能性。類似于這種接口的制造非常具有挑戰(zhàn)性,需要權衡對準、效率和寬帶方面的種種要求。針對這些困難,科學家們提出了寬帶光纖耦合概念,并通過Nanoscribe的雙光子微納3D打印設備而制造的3D耦合器得以實現(xiàn)。海南雙光子無掩膜光刻3D打印
納糯三維科技(上海)有限公司主要經(jīng)營范圍是儀器儀表,擁有一支專業(yè)技術團隊和良好的市場口碑。納糯三維致力于為客戶提供良好的PPGT2,Quantum X系列,雙光子微納激光直寫系統(tǒng),雙光子微納光刻系統(tǒng),一切以用戶需求為中心,深受廣大客戶的歡迎。公司秉持誠信為本的經(jīng)營理念,在儀器儀表深耕多年,以技術為先導,以自主產(chǎn)品為重點,發(fā)揮人才優(yōu)勢,打造儀器儀表良好品牌。納糯三維秉承“客戶為尊、服務為榮、創(chuàng)意為先、技術為實”的經(jīng)營理念,全力打造公司的重點競爭力。