海南高分辨率無掩膜光刻激光直寫

來自德國亞琛工業(yè)大學以及萊布尼茲材料研究所科學家們使用Nanoscribe的3D雙光子無掩模光刻系統(tǒng)以一種全新的方式制作帶有嵌入式3D微流控器件的2D微型通道，該器件的非常重要部件是模擬蜘蛛噴絲頭的復雜噴嘴設計?？茖W家們運用Nanoscribe的雙光子聚合技術（2PP）打印微型通道的聚合物母版，并結合軟光刻技術做后續(xù)復制工作。隨后，在密閉的微流道中通過芯片內3D微納加工技術直接制作復雜結構噴絲頭。這種集成復雜3D結構于傳統(tǒng)平面微流控芯片的全新方式為微納加工制造打開了新的大門。布魯塞爾自由大學的光子學研究小組（B-PHOT）的科學家們正在通過使用Nanoscribe雙光子聚合技術（2PP）將光波導漏斗3D打印到光纖末端上來攻克將具有不同模場幾何形狀的兩個元件之間的光束進行高效和穩(wěn)健耦合這個難題。這些錐形光束漏斗可調整SMF的模式場，以匹配光子芯片上光波導模式場。Nanoscribe的2PP技術將可調整模場的錐形體作為階躍折射率光波導光束。無掩膜光刻是一類不采用光刻掩膜版的光刻技術。海南高分辨率無掩膜光刻激光直寫

Nanoscribe公司推出針對微光學元件（如微透鏡、棱鏡或復雜自由曲面光學器件）具有特殊性能的新型打印材料，IP-n162光刻膠。全新光敏樹脂材料具有高折射率，高色散和低阿貝數的特性，這些特性對于3D微納加工創(chuàng)新微光學元件設計尤為重要，尤其是在沒有旋轉對稱性和復合三維光學系統(tǒng)的情況下。由于在紅外區(qū)域吸收率不高，因此光敏樹脂成為了紅外微光學的優(yōu)先，同時也是光通訊、量子技術和光子封裝等需要低吸收損耗應用的相當好的選擇。全新IP-n162光刻膠是為基于雙光子聚合技術的3D打印量身定制的打印材料。高折射率材料可實現具有高精度形狀精度的創(chuàng)新微光學設計，并將高精度微透鏡和自由曲面3D微光學提升到一個新的高度。由于其光學特性，高折射率聚合物可促進許多運用突破性技術的各種應用，例如光電應用中，他們可以增加顯示設備、相機或投影儀鏡頭的視覺特性。此外，這些材料在3D微納加工技術應用下可制作更高階更復雜更小尺寸的3D微光學元件。例如圖示中可應用于微型成像系統(tǒng)，內窺鏡和AR/VR3D感測的微透鏡。河南2PP無掩膜光刻三維光刻想要了解無掩模光刻系統(tǒng)可以咨詢納糯三維科技（上海）有限公司。

事實上，雙光子聚合加工是在2001年開始真正應用在微納制造領域的，其先驅者是東京大阪大學的Kawata教授以及孫洪波教授。當時這個實驗室在nature上發(fā)表的一篇工作，也就是傳說中的納米牛引起了極大的轟動：《Finerfeaturesforfunctionalmicrodevices：Micromachinescanbecreatedwithhigherresolutionusingtwo-photonabsorption.》但是，這篇文獻中還進行了另外一個更厲害的工作，這兩位教授做出了當時世界上特別小的彈簧振子，其加工分辨率達到了120nm，超越了衍射極限，同時還沒有使用諸如近場加工之類的解決方案，而是單純的利用了材料的性質。來自不來梅大學微型傳感器、致動器和系統(tǒng)(IMSAS)研究所的科學家們發(fā)明了一種全新的微流道混合方式，使用Nanoscribe公司的3D打印系統(tǒng)，利用雙光子聚合原理（2PP）結合光刻技術，將自由形式3D微流控混合元件集成到預制的晶圓級二維微流道中。該微型混合器可以處理高達100微升/分鐘的高流速樣品，適用于藥物和納米顆粒制造，快速化學反應、生物學測量和分析藥物等各種不同應用。

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產生幾乎任何3D形狀：晶格、木堆型結構、自由設計的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內置倒扣以及橋接結構。PhotonicProfessionalGT2結合了設計的靈活性和操控的簡潔性，以及比較廣的材料-基板選擇。因此，它是一個理想的科學儀器和工業(yè)快速成型設備，適用于多用戶共享平臺和研究實驗室。Nanoscribe的3D無掩模光刻機目前已經分布在30多個國家的前沿研究中，超過1,000個開創(chuàng)性科學研究項目是這項技術強大的設計和制造能力特別好的證明。想要了解無掩膜光刻的特點和用途，請致電納糯三維科技（上海）有限公司。

世界上頭一臺雙光子灰度光刻（2GL®）系統(tǒng)QuantumX實現了2D和2.5D微納結構的增材制造。該無掩模光刻系統(tǒng)將灰度光刻的出色性能與Nanoscribe的雙光子聚合技術的精度和靈活性相結合，從而達到亞微米分辨率并實現對體素大小的超快控制，自動化打印以及特別高的形狀精度和光學質量表面。高精度的增材制造可打印出頂端的折射微納光學元件。得益于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術所具有的設計自由度和光學質量的特點，您可以進行幾乎任何形狀，包括球形，非球形或者自由曲面和混合的創(chuàng)新設計。無掩膜光刻是一類不采用光刻掩膜版的光刻技術，即采用電子束直接在硅片上制作出需要的圖形。河南2PP無掩膜光刻三維光刻

納糯三維科技（上海）有限公司邀您一起探討無掩膜光刻系統(tǒng)未來的發(fā)展趨勢。海南高分辨率無掩膜光刻激光直寫

作為微納加工和3D打印領域的帶領者，Nanoscribe一直致力于推動各個科研領域，諸如力學超材料，微納機器人，再生醫(yī)學工程，微光學等創(chuàng)新領域的研究和發(fā)展，并提供優(yōu)化制程方案。2017年在上海成立的中國子公司納糯三維科技（上海）有限公司更是加強了全球銷售活動，并完善了亞太地區(qū)客戶服務范圍。此次推出的中文版官網在視覺效果上更清晰，結構分類上更明確。首頁導航欄包括了產品信息，產品應用數據庫，公司資訊和技術支持幾大專欄。比較大化滿足用戶對信息的了解和需求。Nanoscribe中國子公司總經理崔博士表示：“中文網站的發(fā)布是件值得令人高興的事情，我們希望新的中文網站能讓我們的中國客戶無需顧慮語言障礙，更全方面深入得了解我們的產品以及在科研和工業(yè)方面的應用?！焙Ｄ细叻直媛薀o掩膜光刻激光直寫

納糯三維科技（上海）有限公司是一家生產型類企業(yè)，積極探索行業(yè)發(fā)展，努力實現產品創(chuàng)新。納糯三維是一家外商獨資企業(yè)企業(yè)，一直“以人為本，服務于社會”的經營理念;“誠守信譽，持續(xù)發(fā)展”的質量方針。公司擁有專業(yè)的技術團隊，具有PPGT2，Quantum X系列，雙光子微納激光直寫系統(tǒng)，雙光子微納光刻系統(tǒng)等多項業(yè)務。納糯三維順應時代發(fā)展和市場需求，通過**技術，力圖保證高規(guī)格高質量的PPGT2，Quantum X系列，雙光子微納激光直寫系統(tǒng)，雙光子微納光刻系統(tǒng)。