天津微納米增材制造無掩膜光刻

來源: 發(fā)布時間:2024-08-21

為了制作由3D工程細胞微環(huán)境制成的體外細胞培養(yǎng)物,科學(xué)家們利用雙光子聚合技術(shù)(2PP)來制造模擬腦血管幾何形狀的仿生3D支架,該仿生幾何結(jié)構(gòu)影響膠質(zhì)母細胞瘤細胞及其定植機制。在該實驗中,細胞可以在定制3D支架幾何結(jié)構(gòu)的引導(dǎo)下以受控方式生長。只有在強聚焦的激光焦點處才能發(fā)生雙光子吸收的光聚合反應(yīng)可實現(xiàn)在亞微米范圍內(nèi)打印極其精細的3D特征結(jié)構(gòu)。此外,這種增材制造技術(shù)可在微米級別實現(xiàn)高度三維設(shè)計自由度,并以比較高精度模擬三維細胞微環(huán)境。 走進Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技(上海)有限公司,學(xué)習增材制造工藝原理。天津微納米增材制造無掩膜光刻

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   作為基于雙光子聚合技術(shù)(2PP)的微納加工領(lǐng)域市場帶領(lǐng)者,Nanoscribe在全球30多個國家擁有各科領(lǐng)域的客戶群體。基于2PP微納加工技術(shù)方面的專業(yè)知識,Nanoscribe為頂端科學(xué)研究和工業(yè)創(chuàng)新提供強大的技術(shù)支持,并推動生物打印、微流體、微納光學(xué)、微機械、生物醫(yī)學(xué)工程和集成光子學(xué)技術(shù)等不同領(lǐng)域的發(fā)展?!拔覀兎浅F诖尤隒ELLINK集團,共同探索雙光子聚合技術(shù)在未來所帶來的更大機遇”NanoscribeCEOMartinHermatschweiler說道。Nanoscribe作為一家納米,微米和中尺度高精度結(jié)構(gòu)增材制造**,一直致力于開發(fā)和生產(chǎn)和無掩模光刻系統(tǒng),以及自研發(fā)的打印材料和特定應(yīng)用不同解決方案。在全球頂端大學(xué)和創(chuàng)新科技企業(yè)的中,有超過2,500多名用戶在使用我們突破性的3D微納加工技術(shù)和定制應(yīng)用解決方案。



湖南德國增材制造微納光刻Nanoscribe在中國的子公司納糯三維邀您一起探討增材制造的現(xiàn)狀和未來。

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隨著各行各業(yè)的發(fā)展及科技的進步,人們可以用3D打印創(chuàng)建在人體內(nèi)傳導(dǎo)藥物的載體,可以用3D打印來建造房子。人們還可以用3D打印創(chuàng)作出精美的珠寶首飾和設(shè)計,甚至可以用這項技術(shù)做出巨大的藝術(shù)雕塑。Nanoscribe 公司專注于微觀3D打印技術(shù),通過該用戶可以得到尺寸微小的高質(zhì)量產(chǎn)品。全新推出的Quantum X平臺新型超高速無掩模光刻技術(shù)主要是基于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術(shù)(2GL®)。該技術(shù)將灰度光刻的***性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結(jié)合,使其同時具備高速打印,完全設(shè)計自由度和超高精度的特點。從而滿足了**復(fù)雜增材制造對于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。 

3D打印高性能增材制造技術(shù)擺脫了模具制造這一明顯延長研發(fā)時間的關(guān)鍵技術(shù)環(huán)節(jié),兼顧高精度、高性能、高柔性,可以快速制造結(jié)構(gòu)十分復(fù)雜的零件,為先進科研事業(yè)速研發(fā)提供了有力的技術(shù)手段。在微光學(xué)領(lǐng)域,Nanoscribe表示,其3D打印解決方案“破壞和打破以前復(fù)雜的工作流程,克服了長期的設(shè)計限制,并實現(xiàn)了先進的微光驅(qū)動的前所未有的應(yīng)用。 換句話說,Photonic Professional GT系列與您的平均3D打印機不同,因此可用于創(chuàng)建在其他機器上無法生產(chǎn)的功能性光學(xué)產(chǎn)品。該系列與正確的材料和工藝相結(jié)合,據(jù)稱允許用戶“直接制造具有比標準制造方法,高形狀精度和光學(xué)平滑表面幾何約束的聚合物微光學(xué)部件”。 根據(jù)ASTM標準 ,增材制造又稱為3D打印或快速成型。

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  Nanoscribe設(shè)備專注于納米,微米和中等尺寸的增材制造。早期的PhotonicProfessionalGT3D打印機設(shè)計用于使用雙光子聚合生產(chǎn)納米和微結(jié)構(gòu)塑料組件和模具。在該過程中,激光固化部分液態(tài)光敏材料,逐層固化。使用雙光子聚合,分辨率可低至200納米或高達幾毫米。另一方面,GT2現(xiàn)在可以在短時間內(nèi)在高達100×100mm2的打印區(qū)域上生產(chǎn)具有亞微米細節(jié)的物體,通常為160納米至毫米范圍。此外,使用GT2,用戶可以選擇針對其應(yīng)用定制的多組物鏡,基板,材料和自動化流程。  增材制造技術(shù)可用于快速原型制造和生產(chǎn)。北京Nanoscribe增材制造

增材制造可減少材料浪費和能源消耗。天津微納米增材制造無掩膜光刻

Nanoscribe作為一家納米,微米和中尺度高精度結(jié)構(gòu)增材制造,一直致力于開發(fā)和生產(chǎn)3D 微納加工系統(tǒng)和無掩模光刻系統(tǒng),以及自研發(fā)的打印材料和特定應(yīng)用不同解決方案。Nanoscribe成立于 2007 年,是卡爾斯魯厄理工學(xué)院 (KIT) 的衍生公司。在全球前列大學(xué)和創(chuàng)新科技企業(yè)的中,有超過2,500 多名用戶在使用我們突破性的 3D 微納加工技術(shù)和定制應(yīng)用解決方案。 Nanoscribe 憑借其過硬的技術(shù)背景和市場敏銳度奠定了其市場的主導(dǎo)地位,并以高標準來要求自己以滿足客戶的需求。 Nanoscribe 將在未來進一步擴大產(chǎn)品組合實現(xiàn)多樣化,以滿足不用客戶群的需求。天津微納米增材制造無掩膜光刻