2PP灰度光刻設(shè)備

Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)所具有的高設(shè)計(jì)自由度，可以在各種預(yù)先構(gòu)圖的基板上實(shí)現(xiàn)波導(dǎo)和混合折射衍射光學(xué)器件等3D微納加工制作。結(jié)合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng)，可以按設(shè)計(jì)需要精確地集成復(fù)雜的微納結(jié)構(gòu)。由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標(biāo)準(zhǔn)材料。所打印的亞微米級(jí)別分辨率器件具有特別高的形狀精度，屬于目前市場上易于操作的“負(fù)膠”。IP樹脂作為高效的打印材料，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對(duì)優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級(jí)配套軟件，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計(jì)迭代周期，包括仿生表面，微光學(xué)元件，機(jī)械超材料和3D細(xì)胞支架等。該技術(shù)還可以與雙光子聚合技術(shù)結(jié)合，實(shí)現(xiàn)高速打印高設(shè)計(jì)自由度和超高精度的特點(diǎn),進(jìn)一步擴(kuò)展了其應(yīng)用范圍。2PP灰度光刻設(shè)備

傳統(tǒng)3D打印難以實(shí)現(xiàn)對(duì)于復(fù)雜設(shè)計(jì)或曲線形狀的高分辨率3D打印，必須切片并分為大量水平和垂直層。這會(huì)明顯增加對(duì)于平滑、曲線或精細(xì)結(jié)構(gòu)的打印時(shí)間。雙光子聚合技術(shù)（2PP）則可以解決這個(gè)難題。Nanosribe于2019年推出的雙光子灰度光刻技術(shù)（2GL®）可實(shí)現(xiàn)體素調(diào)節(jié)，從而明顯減少打印層數(shù)。這是通過掃描過程中的快速激光調(diào)制來實(shí)現(xiàn)的。并且，這項(xiàng)技術(shù)已從原先適用于。Nanoscribe于2023年推出雙光子灰度光刻3D打印技術(shù)3Dprintingby2GL®，該技術(shù)具備實(shí)現(xiàn)出色形狀精度的優(yōu)越打印品質(zhì)，并將Nanoscribe的灰度技術(shù)拓展到三維層面。整個(gè)打印過程在保持高速掃描的同時(shí)實(shí)現(xiàn)實(shí)時(shí)動(dòng)態(tài)調(diào)整激光功率。這使得聚合體素得到精確尺寸調(diào)整，以完美匹配任何3D形狀的輪廓。在無需切片步驟，不產(chǎn)生形狀失真的要求下，您將獲得具有無瑕疵光學(xué)級(jí)表面的任意3D打印設(shè)計(jì)的真實(shí)完美形狀。高精度灰度光刻激光直寫Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您了解成熟的灰度光刻技術(shù)。

雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實(shí)現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級(jí)衍射光學(xué)元件(DOE)，并且滿足DOE納米結(jié)構(gòu)表面的橫向和縱向分辨率達(dá)到亞微米量級(jí)。利用增材制造即可簡單一步實(shí)現(xiàn)多級(jí)衍射光學(xué)元件(DOEs)，可以直接作為衍射光學(xué)元件(DOEs)，可以直接作為原型使用，也可以作為批量生產(chǎn)母版工具。.結(jié)合用戶友好的工作流程和自動(dòng)匹配校準(zhǔn)程序，只需幾個(gè)步驟就能實(shí)現(xiàn)完:美的具有亞微米形狀精度的結(jié)構(gòu)打印，適用于廣泛的應(yīng)用場景和公共平臺(tái)用戶的理想選擇

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產(chǎn)生幾乎任何3D形狀：晶格、木堆型結(jié)構(gòu)、自由設(shè)計(jì)的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構(gòu)。PhotonicProfessionalGT2結(jié)合了設(shè)計(jì)的靈活性和操控的簡潔性，以及非常廣的材料-基板選擇。因此，它是一個(gè)理想的科學(xué)儀器和工業(yè)快速成型設(shè)備，適用于多用戶共享平臺(tái)和研究實(shí)驗(yàn)室。Nanoscribe的3D無掩模光刻機(jī)目前已經(jīng)分布在30多個(gè)國家的前沿研究中，超過1,000個(gè)開創(chuàng)性科學(xué)研究項(xiàng)目是這項(xiàng)技術(shù)強(qiáng)大的設(shè)計(jì)和制造能力的特別好證明。歡迎咨詢想要了解Quantum X 雙光子灰度光刻微納打印設(shè)備。

2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合，可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型。該系統(tǒng)配備三個(gè)用于實(shí)時(shí)過程控制的攝像頭和一個(gè)樹脂分配器。為了簡化硬件配置之間的轉(zhuǎn)換，物鏡和樣品夾持器識(shí)別會(huì)自動(dòng)運(yùn)行。多層衍射光學(xué)元件（diffractiveopticalelement，DOE）可以通過在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來完成，從而減少多層微制造所需的打印時(shí)間。Nanoscribe表示，折射微光學(xué)也受益于2GL工藝的加工能力，可制作單個(gè)光學(xué)元件、填充因子高達(dá)100%的陣列，以及可以在直接和無掩模工藝中實(shí)現(xiàn)各種形狀，如球面和非球面透鏡。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您揭秘什么是灰度光刻技術(shù)。廣東雙光子灰度光刻系統(tǒng)

灰度光刻技術(shù)的精度受到灰度值的影響。2PP灰度光刻設(shè)備

Nanoscribe成立于2007年，總部位于德國卡爾斯魯厄，擁有卡爾斯魯厄理工學(xué)院（KIT）的技術(shù)背景和卡爾蔡司公司的支持。經(jīng)過十幾年的不斷研究和成長，Nanoscribe已成為微納米生產(chǎn)的先驅(qū)和3D打印市場的帶領(lǐng)者，推動(dòng)著諸如力學(xué)超材料，微納機(jī)器人，再生醫(yī)學(xué)工程，微光學(xué)等創(chuàng)新領(lǐng)域的研究和發(fā)展，并提供優(yōu)化制程方案。全新的QuantumX無掩模光刻系統(tǒng)能夠數(shù)字化制造高精度2維和。作為世界上頭一個(gè)雙光子灰度光刻系統(tǒng)，在充分滿足設(shè)計(jì)自由的同時(shí)，一步制造具有光學(xué)質(zhì)量表面以及高形狀精度要求的微光學(xué)元件，達(dá)到所見即所得。。2PP灰度光刻設(shè)備