上海雙光子無掩膜光刻微納光刻

由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度，屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領域的設計迭代周期，包括仿生表面，微光學元件，機械超材料和3D細胞支架等。世界上頭一臺雙光子灰度光刻（2GL®）系統(tǒng)QuantumX實現了2D和2.5D微納結構的增材制造。該無掩模光刻系統(tǒng)將灰度光刻的出色性能與Nanoscribe的雙光子聚合技術的精度和靈活性相結合，從而達到亞微米分辨率并實現對體素大小的超快控制，自動化打印以及特別高的形狀精度和光學質量表面。Nanoscribe 的Quantum X 無掩模光刻系統(tǒng)在多個領域運用較廣。上海雙光子無掩膜光刻微納光刻

由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度，屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領域的設計迭代周期，包括仿生表面，微光學元件，機械超材料和3D細胞支架等。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術，斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯手澳大利亞醫(yī)學研究中心的科學家們新研發(fā)的微型內窺鏡。將12050微米直徑的微光學器件直接打印在光纖上，構建了一款功能齊全的超薄像差校正光學相干斷層掃描探頭。這是迄今有報道的尺寸低值排名優(yōu)先的自由曲面3D成像探頭，包括導管鞘在內的直徑只為mm江蘇高分辨率無掩膜光刻系統(tǒng)高精度無掩膜光刻寫，為您提供高效、精細的加工解決方案。

作為基于雙光子聚合技術（2PP）的微細加工領域市場帶領者，Nanoscribe在全球30多個國家擁有各科領域的客戶群體?！拔覀?yōu)槲覀儞碛刑貏e先進的2PP技術而感到自豪，憑借我們的技術支持，我們的客戶實現了一個又一個突破性創(chuàng)新想法。我們是一家充滿活力、屢獲殊榮的公司，與客戶保持良好密切的合作關系是我們保持優(yōu)于市場地位的關鍵”Nanoscribe聯合創(chuàng)始人兼首席執(zhí)行官MartinHermatschweiler表示。基于2PP微納加工技術方面的專業(yè)知識，Nanoscribe為前列科學研究和工業(yè)創(chuàng)新提供強大的技術支持，并推動生物打印、微流體、微納光學、微機械、生物醫(yī)學工程和集成光子學技術等不同領域的發(fā)展?！拔覀兎浅Ｆ诖尤隒ELLINK集團，共同探索雙光子聚合技術在未來所帶來的更大機遇”MartinHermatschweiler說道。

Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)把雙光子聚合技術融入強大了3D打印工作流程，實現了各種不同的打印方案。雙光子聚合技術用于3D微納結構的增材制造，可以通過激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復雜的光刻步驟來創(chuàng)建3D和2.5D微結構制作。PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)可以實現精度上限的3D打印，突破了微納米制造的限制。該打印系統(tǒng)的易用性和靈活性的特點配以比較廣的打印材料選擇使其成為理想的實驗研究儀器和多用戶設施。我們的3D微納加工技術可以滿足您對于制作亞微米分辨率和毫米級尺寸的復雜微機械元件的要求。3D設計的多功能性對于制作復雜且響應迅速的高精度微型機械，傳感器和執(zhí)行器是至關重要的。基于雙光子聚合原理的激光直寫技術，可適用于您的任何新穎創(chuàng)意的快速原型制作它可以根據不同需求進行快速的圖案設計和修改，無需制作復雜的掩膜板，提高了加工的靈活性和效率。

Nanoscribe的雙光子聚合技術具有極高設計自由度和超高精度的特點，結合具備生物兼容特點的光敏樹脂和生物材料，開發(fā)并制作真正意義上的高精度3D微納結構，適用于生命科學領域的應用，如設計和定制微型生物醫(yī)學設備的原型制作。Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產生幾乎任何3D形狀：晶格、木堆型結構、自由設計的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內置倒扣以及橋接結構。PhotonicProfessionalGT2結合了設計的靈活性和操控的簡潔性，以及比較廣的材料-基板選擇。因此，它是一個理想的科學儀器和工業(yè)快速成型設備，適用于多用戶共享平臺和研究實驗室。Nanoscribe的3D無掩模光刻機目前已經分布在30多個國家的前沿研究中，超過1,000個開創(chuàng)性科學研究項目是這項技術強大的設計和制造能力特別好的證明。歡迎咨詢靈活性：無掩膜光刻技術可以輕松地更改圖案，從而方便地進行試制和修整。德國2GL無掩膜光刻3D打印

可以根據不同需求進行快速的圖案設計和修改，無需制作復雜的掩膜板。上海雙光子無掩膜光刻微納光刻

Nanoscribe作為一家納米，微米和中尺度高精度結構增材制造專業(yè)人才，一直致力于開發(fā)和生產3D微納加工系統(tǒng)和無掩模光刻系統(tǒng)，以及自研發(fā)的打印材料和特定應用不同解決方案。Nanoscribe成立于2007年，是卡爾斯魯厄理工學院(KIT)的衍生公司。在全球前列大學和創(chuàng)新科技企業(yè)的中，有超過2,500多名用戶在使用我們突破性的3D微納加工技術和定制應用解決方案。Nanoscribe憑借其過硬的技術背景和市場敏銳度奠定了其市場優(yōu)于主導地位，并以高標準來要求自己以滿足客戶的需求。Nanoscribe將在未來進一步擴大產品組合實現多樣化，以滿足不用客戶群的需求。上海雙光子無掩膜光刻微納光刻