德國德國雙光子聚合三維微納米加工系統(tǒng)

來源: 發(fā)布時間:2024-06-28

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德國德國雙光子聚合三維微納米加工系統(tǒng),雙光子聚合

雙光子聚合技術(shù)的應用前景:1. 快速3D打印:雙光子聚合技術(shù)可以用于快速3D打印。通過這種技術(shù),可以實現(xiàn)高精度、高分辨率的3D打印,從而制造出更加精細、復雜的結(jié)構(gòu)。這使得3D打印技術(shù)可以應用于更多領(lǐng)域,包括航空航天、醫(yī)療等高精度制造領(lǐng)域。2. 光子晶體形成:雙光子聚合技術(shù)可以用于光子晶體的制備。光子晶體是一種具有周期性折射率變化的介質(zhì),可以控制光的傳播路徑。利用雙光子聚合技術(shù),可以制造出具有復雜結(jié)構(gòu)和高質(zhì)量的光子晶體,為光學器件和光子芯片的制備提供新的途徑。3. 高精度光子器件制造:雙光子聚合技術(shù)可以用于高精度光子器件的制造。例如,利用這種技術(shù)可以制造出高精度的光學鏡片、光纖等光子器件。這些器件在通訊、能源等領(lǐng)域具有廣泛的應用前景。4. 生物醫(yī)學領(lǐng)域應用:雙光子聚合技術(shù)還可以應用于生物醫(yī)學領(lǐng)域。例如,在生物組織工程中,可以利用這種技術(shù)制造出具有復雜結(jié)構(gòu)和高度精確的生物材料。這些材料可以用于藥物輸送、組織修復等方面,為生物醫(yī)學研究提供新的工具和思路。德國德國雙光子聚合三維微納米加工系統(tǒng)Nanoscribe中國分公司-納糯三維帶您一起探討國內(nèi)在雙光子聚合技術(shù)的發(fā)展趨勢。

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事實上,雙光子聚合加工是在2001年開始真正應用在微納制造領(lǐng)域的,其先驅(qū)者是東京大阪大學的Kawata教授以及孫洪波教授。當時這個實驗室在nature上發(fā)表的一篇工作,也就是傳說中的納米牛引起了極大的轟動:《Finerfeaturesforfunctionalmicrodevices:Micromachinescanbecreatedwithhigherresolutionusingtwo-photonabsorption.》但是,這篇文獻中還進行了另外一個更厲害的工作,這兩位教授做出了當時世界上特別小的彈簧振子,其加工分辨率達到了120nm,超越了衍射極限,同時還沒有使用諸如近場加工之類的解決方案,而是單純的利用了材料的性質(zhì)。來自不來梅大學微型傳感器、致動器和系統(tǒng)(IMSAS)研究所的科學家們發(fā)明了一種全新的微流道混合方式,使用Nanoscribe公司的3D打印系統(tǒng),利用雙光子聚合原理(2PP)結(jié)合光刻技術(shù),將自由形式3D微流控混合元件集成到預制的晶圓級二維微流道中。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司帶你了解雙光子聚合技術(shù)及其應用前景。

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Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產(chǎn)生幾乎任何3D形狀:晶格、木堆型結(jié)構(gòu)、自由設(shè)計的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構(gòu)。PhotonicProfessionalGT2結(jié)合了設(shè)計的靈活性和操控的簡潔性,以及比較廣的材料-基板選擇。因此,它是一個理想的科學儀器和工業(yè)快速成型設(shè)備,適用于多用戶共享平臺和研究實驗室。Nanoscribe的3D無掩模光刻機目前已經(jīng)分布在30多個國家的前沿研究中,超過1,000個開創(chuàng)性科學研究項目是這項技術(shù)強大的設(shè)計和制造能力的特別好證明。Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)把雙光子聚合技術(shù)融入強大了3D打印工作流程,實現(xiàn)了各種不同的打印方案。雙光子聚合技術(shù)用于3D微納結(jié)構(gòu)的增材制造,可以通過激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復雜的光刻步驟來創(chuàng)建3D和2.5D微結(jié)構(gòu)制作。PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)可以實現(xiàn)精度上限的3D打印,突破了微納米制造的限制。該打印系統(tǒng)的易用性和靈活性的特點配以比較廣的打印材料選擇使其成為理想的實驗研究儀器和多用戶設(shè)施。


Nanoscribe中國分公司-納糯三維帶您一起探討國內(nèi)在雙光子聚合技術(shù)領(lǐng)域的未來發(fā)展。北京亞微米級雙光子聚合微納光刻

Nanoscribe將在未來在基于雙光子聚合技術(shù)的3D微納加工系統(tǒng)基礎(chǔ)上進一步擴大產(chǎn)品組合實現(xiàn)多樣化。德國德國雙光子聚合三維微納米加工系統(tǒng)

對準雙光子光刻技術(shù)(A2PL®)是Nanoscribe基于雙光子聚合(2PP)的一種新型專利納米微納制造技術(shù)。該技術(shù)可以將打印的結(jié)構(gòu)自動對準到光纖和光子芯片上,例如用于光子封裝中的光學互連。同時高精度檢測系統(tǒng)還可以識別基準點或拓撲基底特征,確保對3D打印進行高度精確的對準。Nanoscribe對準雙光可光刻技術(shù)搭配nanoPrintX,一種基于場景圖概念的軟件工具,可用于定義對準3D打印的打印項目。樹狀數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)提供了所有與打印相關(guān)的對象和操作的分層組織,用于定義何時、何地、以及如何進行打印。在nanoPrintX中可以定義單個對準標記以及基板特征,例如芯片邊緣和光纖表面。使用QuantumXalign系統(tǒng)的共焦單元或光纖照明單元,可以識別這些特定的基板標記,并將其與在nanoPrintX中定義的數(shù)字模型進行匹配。對準雙光子光刻技術(shù)和nanoPrintX軟件是QuantumXalign系統(tǒng)的標配。德國德國雙光子聚合三維微納米加工系統(tǒng)