四川進口NanoscribePPGT

來源: 發(fā)布時間:2024-06-04

   對于光纖上打印的SERS探針,研究人員必須克服幾個制造上的挑戰(zhàn)。首先,他們設計了一個定制的光纖支架,可以在光纖的切面上打印。然后,打印的物體必須與光纖的重點部分完全對齊,以激發(fā)制造的拉曼熱點。剩下的一個挑戰(zhàn),特別是對于像單體陣列這樣的絲狀結(jié)構(gòu),是對可能傾斜的基材表面的補償。光纖傾斜的基材表面導致SERS活性微結(jié)構(gòu)的產(chǎn)量很低。為了推動光學領域的創(chuàng)新以及在醫(yī)療設備的應用和光學傳感的發(fā)展,例如光纖SERS探頭,Nanoscribe近期推出了新的3D打印系統(tǒng)QuantumXalign。憑借其專有的在光纖上的打印設置和在所有空間方向上的傾斜校正,新的3D打印系統(tǒng)可能已經(jīng)為在光纖上打印SERS探針的挑戰(zhàn)提供了答案,并為進一步改進和新的創(chuàng)新奠定了基礎。


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Nanoscribe Quantum X align作為前列的3D打印系統(tǒng)具備了A2PL®對準雙光子光刻技術,可實現(xiàn)在光纖和光子芯片上的納米級精確對準。全新灰度光刻3D打印技術3D printing by 2GL®在實現(xiàn)優(yōu)異的打印質(zhì)量同時兼顧打印速度,適用于微光學制造和光子封裝領域。3D printing by 2GL®將Nanoscribe的灰度技術推向了三維層面。整個打印過程在最高速度掃描的同時實現(xiàn)實時動態(tài)調(diào)制激光功率。這使得聚合的體素得到精確尺寸調(diào)整,以完美匹配任何3D形狀的輪廓。在無需切片步驟,不產(chǎn)生形狀失真的要求下,您將獲得具有無瑕疵光學表面的任意3D打印設計的真實完美形狀。浙江雙光子聚合Nanoscribe激光直寫歡迎致電Nanoscribe中國分公司-納糯三維。

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光學元件如何對準并打印到光子芯片上?打印對象的 3D 對準技術是基于具有高分辨率 3D 拓撲繪制的共聚焦單元。 為了精確對準光子芯片上的光學元件,智能軟件算法會自動識別預定義的標記和拓撲特征,以確定芯片上波導的確切位置和方向。 然后將虛擬坐標系設置到波導的出口,使其光軸和方向完美對準。 根據(jù)該坐標系打印的光學元件可確保好的光學質(zhì)量并比較大限度地減少耦合損耗。 該項技術可以利用自由空間微光耦合 (FSMOC) 實現(xiàn)高效的光耦合 。 詳情咨詢納糯三維科技(上海)有限公司

德國公司Nanoscribe是高精度增材制造技術的帶領開發(fā)商,也是 BICO集團(前身為Cellin)的一部分,推出了一款新型高精度3D 打印機,用于制造微納米級的精細結(jié)構(gòu)。據(jù)該公司稱,新的Quantum X 形狀加入了該公司屢獲殊榮的Quantum X產(chǎn)品線,其晶圓處理能力使“3D 微型零件的批量處理和小批量生產(chǎn)變得容易”。它有望顯著提高生命科學、材料工程、微流體、微光學、微機械和微機電系統(tǒng) (MEMS) 應用的精度、輸出和可用性?;陔p光子聚合(2PP),一種提供比較高精度和完整設計自由度的增材制造方法和Nanoscribe專有的雙光子灰度光刻(2GL)技術,Nanoscribe認為直接激光寫入系統(tǒng)是微加工的比較好選擇幾乎任何2.5D或3D形狀的結(jié)構(gòu),在面積達25cm2的區(qū)域上都具有亞微米級精度。Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼首席安全官(CSO)MichaelThiel表示,該公司正在通過其新機器為科學和工業(yè)用途的晶圓級高精度微制造設定新標準。“雖然QuantumX已經(jīng)通過雙光子灰度光刻技術推動了平面微光學器件的超快速制造,但我們希望QuantumX形狀能夠使基于雙光子聚合的高精度3D打印成為非常出色的高效可靠工具用于研究實驗室和工業(yè)中的快速原型制作和批量生產(chǎn)。”


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Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)Quantum X ,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)Quantum X,適用于制造微光學衍射以及折射元件。 Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)Quantum X,適用于制造微光學衍射以及折射元件。 利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術,斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學研究中心的科學家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡。將12050微米直徑的微光學器件直接打印在光纖上,構(gòu)建了一款功能齊全的超薄像差校正光學相干斷層掃描探頭  更多有關3D打印的咨詢,歡迎致電Nanoscribe中國分公司-納糯三維。四川實驗室NanoscribeQX

Nanoscribe的3D打印設備具有高度靈活性和可定制性,能夠滿足不同行業(yè)的需求。四川進口NanoscribePPGT

Nanoscribe作為一家納米,微米和中尺度高精度結(jié)構(gòu)增材制造公司,一直致力于開發(fā)和生產(chǎn)3D 微納加工系統(tǒng)和無掩模光刻系統(tǒng),以及自研發(fā)的打印材料和特定應用不同解決方案。Nanoscribe成立于 2007 年,是卡爾斯魯厄理工學院 (KIT) 的衍生公司。在全球前列大學和創(chuàng)新科技企業(yè)的中,有超過2,500 多名用戶在使用我們突破性的 3D 微納加工技術和定制應用解決方案。 Nanoscribe 憑借其過硬的技術背景和市場敏銳度奠定了其市場優(yōu)于主導地位,并以高標準來要求自己以滿足客戶的需求。


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