海南實驗室Nanoscribe子公司

來源: 發(fā)布時間:2024-05-13

   全新的NanoscribeQuantumX系統(tǒng)適用于工業(yè)生產(chǎn)中所需手板和模具的定制化精細加工。該無掩模光刻系統(tǒng)顛覆了自由形狀的微透鏡、微透鏡陣列和多級衍射光學(xué)元件的傳統(tǒng)制作工藝。全球頭一個雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)將具有出色性能的灰度光刻與Nanoscribe精確靈動的雙光子聚合技術(shù)結(jié)合起來。QuantumX提供了完全的設(shè)計自由度、高速的打印效率、以及增材制造復(fù)雜結(jié)構(gòu)超光滑表面所需的高精度??焖?、準確的增材制造工藝極大地縮短了設(shè)計迭代周期,實現(xiàn)了低成本的微納加工。憑借著獨有的產(chǎn)品優(yōu)勢Nanoscribe新發(fā)布的QuantumX在2019慕尼黑光博會展(LASERWorldofPhotonics2019)榮獲創(chuàng)新獎。


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Nanoscribe的技術(shù)在多個領(lǐng)域都有廣泛應(yīng)用。在光子學(xué)領(lǐng)域,它可以制造光子晶體、超穎材料、激光分布回饋術(shù)(DFB Lasers)等。在微光學(xué)領(lǐng)域,它可以制造微光學(xué)器件和整合型光學(xué)。在微流道技術(shù)領(lǐng)域,它可以應(yīng)用于生醫(yī)芯片系統(tǒng)、物質(zhì)研究開發(fā)與分析以及三維基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)等方面。在生命科學(xué)領(lǐng)域,Nanoscribe的技術(shù)可以應(yīng)用于細胞外數(shù)組結(jié)構(gòu)、干細胞分離術(shù)、細胞成長研究、細胞遷移研究以及組織工程等方面。此外,Nanoscribe的技術(shù)還可以制造游泳microbots,用于精確高效地將藥物送至身體的目標區(qū)域,以及制作極小的手術(shù)工具,用于顯微外科手術(shù)。


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3D微納加工技術(shù)應(yīng)用于材料工程領(lǐng)域。材料屬性可以通過成分和幾何設(shè)計來調(diào)整和定制。通過使用Nanoscribe的3D微納加工解決方案,可以實現(xiàn)具有特定光子,機械,生物或化學(xué)特性的創(chuàng)新超材料和仿生微結(jié)構(gòu)。Nanoscribe的無掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領(lǐng)域是一個不折不扣的多面手,由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具,在科學(xué)和工業(yè)項目中備受青睞。這種可快速打印的微結(jié)構(gòu)在科研、手板定制、模具制造和小批量生產(chǎn)中具有廣闊的應(yīng)用前景。也就是說,在納米級、微米級以及中尺度結(jié)構(gòu)上,可以直接生產(chǎn)用于工業(yè)批量生產(chǎn)的聚合物母版。


多年來,Nanoscribe在微觀和納米領(lǐng)域一直非常出色,并且參與了很多3D打印的項目,包括等離子體技術(shù)、微光學(xué)等工業(yè)微加工相關(guān)項目。如今,Nanoscribe正在與美因茲大學(xué)和帕德博恩大學(xué)在內(nèi)的其他行業(yè)帶領(lǐng)機構(gòu)一起開發(fā)頻率和功率穩(wěn)定的小型二極管激光器。該團隊的項目為期三年,名為Miliquant,由德國聯(lián)邦教育和研究部(簡稱BMBF)提供資助。他們的研發(fā)成果——3D打印光源組件,將用于量子技術(shù)創(chuàng)新,并可以應(yīng)用在醫(yī)療診斷、自動駕駛和細胞紅外顯微鏡成像之中。研發(fā)團隊將開展多項實驗,開發(fā)工業(yè)傳感器和成像系統(tǒng),這就需要復(fù)雜的研發(fā)工作,還需要開發(fā)可靠的組件,以及組裝和制造的新方法。


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Nanoscribe獨有的體素調(diào)諧技術(shù)2GL®可以在確保優(yōu)越的打印質(zhì)量的同時兼顧打印速度,實現(xiàn)自由曲面微光學(xué)元件通過3D打印精確對準到光纖或光子芯片的光學(xué)軸線上。NanoscribeQX平臺打印系統(tǒng)配備光纖照明單元用于光纖芯檢測,確保打印精細對準到光纖的光學(xué)軸線上。共焦檢測模塊用于3D基板拓撲構(gòu)圖,實現(xiàn)在芯片的表面和面上的精細打印對準。Nanoscribe灰度光刻3D打印技術(shù)3Dprintingby2GL®是市場上基于2PP原理微納加工技術(shù)中打印速度**快的。其動態(tài)體素調(diào)整需要相對較少的打印層次,即可實現(xiàn)具有光學(xué)級別、光滑以及納米結(jié)構(gòu)表面打印結(jié)果。這意味著在滿足苛刻的打印質(zhì)量要求的同時,其打印速度遠遠超過任何當(dāng)前可用的2PP三維打印系統(tǒng)。2GL®作為市場上快的增材制造技術(shù),非常適用于3D納米和微納加工,在滿足優(yōu)越打印質(zhì)量的前提下,其吞吐量相比任何當(dāng)前雙光子光刻系統(tǒng)都高出10到60倍。海南實驗室Nanoscribe子公司