江蘇高精度Nanoscribe無(wú)掩膜光刻

光子集成電路 (Photonic Integrated Circuit，PIC) 與電子集成電路類似，但不同的是電子集成電路集成的是晶體管、電容器、電阻器等電子器件，而光子集成電路集成的是各種不同的光學(xué)器件或光電器件，比如激光器、電光調(diào)制器、光電探測(cè)器、光衰減器、光復(fù)用/解復(fù)用器以及光放大器等。集成光子學(xué)可較廣地應(yīng)用于各種領(lǐng)域，例如數(shù)據(jù)通訊，激光雷達(dá)系統(tǒng)的自動(dòng)駕駛技術(shù)和YL領(lǐng)域中的移動(dòng)感應(yīng)設(shè)備等。而光子集成電路這項(xiàng)關(guān)鍵技術(shù)，尤其是微型光子組件應(yīng)用，可以很大程度縮小復(fù)雜光學(xué)系統(tǒng)的尺寸并降低成本。光子集成電路的關(guān)鍵技術(shù)還在于連接接口，例如光纖到芯片的連接，可以有效提高集成度和功能性。

Nanoscribe一直致力于推動(dòng)各個(gè)科研領(lǐng)域，諸如力學(xué)超材料，微納機(jī)器人等。江蘇高精度Nanoscribe無(wú)掩膜光刻

3D微納加工技術(shù)應(yīng)用于材料工程領(lǐng)域。材料屬性可以通過(guò)成分和幾何設(shè)計(jì)來(lái)調(diào)整和定制。通過(guò)使用Nanoscribe的3D微納加工解決方案，可以實(shí)現(xiàn)具有特定光子，機(jī)械，生物或化學(xué)特性的創(chuàng)新超材料和仿生微結(jié)構(gòu)。Nanoscribe的無(wú)掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領(lǐng)域是一個(gè)不折不扣的多面手，由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具，在科學(xué)和工業(yè)項(xiàng)目中備受青睞。這種可快速打印的微結(jié)構(gòu)在科研、手板定制、模具制造和小批量生產(chǎn)中具有廣闊的應(yīng)用前景。也就是說(shuō)，在納米級(jí)、微米級(jí)以及中尺度結(jié)構(gòu)上，可以直接生產(chǎn)用于工業(yè)批量生產(chǎn)的聚合物母版。

北京微納米Nanoscribe無(wú)掩膜光刻微米級(jí)分辨率，咨詢納糯三維科技（上海）有限公司。

Nanoscribe獨(dú)有的體素調(diào)諧技術(shù)2GL®可以在確保優(yōu)越的打印質(zhì)量的同時(shí)兼顧打印速度，實(shí)現(xiàn)自由曲面微光學(xué)元件通過(guò)3D打印精確對(duì)準(zhǔn)到光纖或光子芯片的光學(xué)軸線上。NanoscribeQX平臺(tái)打印系統(tǒng)配備光纖照明單元用于光纖芯檢測(cè)，確保打印精細(xì)對(duì)準(zhǔn)到光纖的光學(xué)軸線上。共焦檢測(cè)模塊用于3D基板拓?fù)錁?gòu)圖，實(shí)現(xiàn)在芯片的表面和面上的精細(xì)打印對(duì)準(zhǔn)。Nanoscribe灰度光刻3D打印技術(shù)3Dprintingby2GL®是市場(chǎng)上基于2PP原理微納加工技術(shù)中打印速度**快的。其動(dòng)態(tài)體素調(diào)整需要相對(duì)較少的打印層次，即可實(shí)現(xiàn)具有光學(xué)級(jí)別、光滑以及納米結(jié)構(gòu)表面打印結(jié)果。這意味著在滿足苛刻的打印質(zhì)量要求的同時(shí)，其打印速度遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過(guò)任何當(dāng)前可用的2PP三維打印系統(tǒng)。2GL®作為市場(chǎng)上快的增材制造技術(shù)，非常適用于3D納米和微納加工，在滿足優(yōu)越打印質(zhì)量的前提下，其吞吐量相比任何當(dāng)前雙光子光刻系統(tǒng)都高出10到60倍。

光學(xué)元件如何對(duì)準(zhǔn)并打印到光子芯片上？打印對(duì)象的 3D 對(duì)準(zhǔn)技術(shù)是基于具有高分辨率 3D 拓?fù)淅L制的共聚焦單元。 為了精確對(duì)準(zhǔn)光子芯片上的光學(xué)元件，智能軟件算法會(huì)自動(dòng)識(shí)別預(yù)定義的標(biāo)記和拓?fù)涮卣?，以確定芯片上波導(dǎo)的確切位置和方向。 然后將虛擬坐標(biāo)系設(shè)置到波導(dǎo)的出口，使其光軸和方向完美對(duì)準(zhǔn)。 根據(jù)該坐標(biāo)系打印的光學(xué)元件可確保好的光學(xué)質(zhì)量并比較大限度地減少耦合損耗。 該項(xiàng)技術(shù)可以利用自由空間微光耦合 (FSMOC) 實(shí)現(xiàn)高效的光耦合 。 詳情咨詢納糯三維科技（上海）有限公司Nanoscribe專注于微納米3D打印設(shè)備的額研發(fā)和應(yīng)用。

多年來(lái)，Nanoscribe在微觀和納米領(lǐng)域一直非常出色，并且參與了很多3D打印的項(xiàng)目，包括等離子體技術(shù)、微光學(xué)等工業(yè)微加工相關(guān)項(xiàng)目。如今，Nanoscribe正在與美因茲大學(xué)和帕德博恩大學(xué)在內(nèi)的其他行業(yè)帶領(lǐng)機(jī)構(gòu)一起開發(fā)頻率和功率穩(wěn)定的小型二極管激光器。該團(tuán)隊(duì)的項(xiàng)目為期三年，名為Miliquant，由德國(guó)聯(lián)邦教育和研究部（簡(jiǎn)稱BMBF）提供資助。他們的研發(fā)成果——3D打印光源組件，將用于量子技術(shù)創(chuàng)新，并可以應(yīng)用在醫(yī)療診斷、自動(dòng)駕駛和細(xì)胞紅外顯微鏡成像之中。研發(fā)團(tuán)隊(duì)將開展多項(xiàng)實(shí)驗(yàn)，開發(fā)工業(yè)傳感器和成像系統(tǒng)，這就需要復(fù)雜的研發(fā)工作，還需要開發(fā)可靠的組件，以及組裝和制造的新方法。

使用Nanoscribe的Photonic Professional系列打印系統(tǒng)制作的微流控元件可以完全嵌入進(jìn)預(yù)制的二維微流道系統(tǒng)。浙江進(jìn)口Nanoscribe工藝

影響增材制造技術(shù)的因素你了解嗎？歡迎咨詢Nanoscribe在中國(guó)的子公司納糯三維科技（上海）有限公司。江蘇高精度Nanoscribe無(wú)掩膜光刻

Nanoscribe的QuantumX形狀與其他一些利用2PP技術(shù)的打印機(jī)競(jìng)爭(zhēng)，例如UpNano的NanoOne高分辨率微增材制造(μAM)解決方案；LithoProf3D，一種由另一家德國(guó)公司MultiphotonOptics制造的先進(jìn)微型激光光刻3D打印機(jī)，以及Microlight3D基于2PP的交鑰匙3D打印機(jī)Altraspin。作為市場(chǎng)上的新選擇之一，QuantumXshape承諾采用“非常先進(jìn)的微加工工藝”，可實(shí)現(xiàn)高精度增材制造，在其中可以比較好平衡精度和速度，以實(shí)現(xiàn)特別高水平的生產(chǎn)力和質(zhì)量。Nanoscribe認(rèn)為該打印機(jī)能夠產(chǎn)生“非常出色的輸出”，該打印機(jī)依賴于基于移動(dòng)鏡技術(shù)的振鏡(Galvo)系統(tǒng)和基于堅(jiān)固花崗巖的平臺(tái)上的智能電子系統(tǒng)控制單元，并結(jié)合了行業(yè)-級(jí)脈沖飛秒激光器。QuantumXshape可以使用Nanoscribe專有的聚合物和二氧化硅材料打印3D微型部件，并且對(duì)第三方或定制材料開放。此外，它可以通過(guò)設(shè)備的集成觸摸屏和遠(yuǎn)程訪問(wèn)軟件nanoConnectX進(jìn)行控制，允許遠(yuǎn)程控制連接打印機(jī)的打印作業(yè)，將實(shí)驗(yàn)室的準(zhǔn)備時(shí)間減少到限度低值，并在共享系統(tǒng)時(shí)簡(jiǎn)化團(tuán)隊(duì)協(xié)作江蘇高精度Nanoscribe無(wú)掩膜光刻