江蘇灰度光刻系統(tǒng)

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2024-03-30

如何減少甚至避免因此帶來(lái)的柔軟樣品表面的形變,以實(shí)現(xiàn)對(duì)原始表面的精確成像一直是一個(gè)重要議題。Nanoscribe公司的系列產(chǎn)品是基于雙光子聚合原理的高精度微納3D打印系統(tǒng),雙光子聚合技術(shù)是實(shí)現(xiàn)微納尺度3D打印特別有效的技術(shù),其打印物體的特別小特征尺寸可達(dá)亞微米級(jí),并可達(dá)到光學(xué)質(zhì)量表面的要求。Nanoscribe Photonic Professional GT2使用雙光子聚合(2PP)來(lái)產(chǎn)生幾乎任何3D形狀:晶格、木堆型結(jié)構(gòu)、自由設(shè)計(jì)的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構(gòu)。Photonic Professional GT2 結(jié)合了設(shè)計(jì)的靈活性和操控的簡(jiǎn)潔性,以及非常普遍的材料-基板選擇?;叶裙饪碳夹g(shù)的精度受到灰度值的影響。江蘇灰度光刻系統(tǒng)

江蘇灰度光刻系統(tǒng),灰度光刻

這款灰度光刻設(shè)備具備出色的精度和穩(wěn)定性。通過(guò)先進(jìn)的光刻技術(shù),它能夠在微米級(jí)別上進(jìn)行精確的圖案制作,確保產(chǎn)品的質(zhì)量和精度達(dá)到比較高水平。同時(shí),設(shè)備的穩(wěn)定性也得到了極大的提升,減少了生產(chǎn)過(guò)程中的誤差和損耗,提高了生產(chǎn)效率。這款設(shè)備具備高效的生產(chǎn)能力。它采用了快速曝光和快速開(kāi)發(fā)的技術(shù),**縮短了生產(chǎn)周期。相比傳統(tǒng)的光刻設(shè)備,它的生產(chǎn)速度提高了30%,提升了我們的生產(chǎn)效率。同時(shí),設(shè)備還具備多通道同時(shí)加工的能力,可以同時(shí)處理多個(gè)產(chǎn)品,進(jìn)一步提高了生產(chǎn)效率和產(chǎn)能。工業(yè)級(jí)灰度光刻技術(shù)制備各種復(fù)雜的微納米結(jié)構(gòu),滿足不同應(yīng)用領(lǐng)域的需求。

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超高速灰度光刻技術(shù)的應(yīng)用不僅局限于傳統(tǒng)領(lǐng)域,還可以拓展到新興領(lǐng)域。例如,在新能源領(lǐng)域,它可以用于制造高效的太陽(yáng)能電池板;在人工智能領(lǐng)域,它可以用于制造更快、更強(qiáng)大的計(jì)算芯片。這些應(yīng)用將進(jìn)一步推動(dòng)科技的發(fā)展,為人類創(chuàng)造更美好的未來(lái)。超高速灰度光刻技術(shù)的發(fā)展離不開(kāi)科研人員的不懈努力和創(chuàng)新精神。他們通過(guò)不斷突破科技邊界,攻克了一個(gè)又一個(gè)難題,從而實(shí)現(xiàn)了這一技術(shù)的突破。他們的付出為我們帶來(lái)了更多的機(jī)遇和挑戰(zhàn),也為科技進(jìn)步做出了巨大貢獻(xiàn)。超高速灰度光刻技術(shù)的問(wèn)世,標(biāo)志著科技進(jìn)步的新里程碑。我們相信,在這項(xiàng)技術(shù)的推動(dòng)下,未來(lái)將會(huì)有更多的創(chuàng)新和突破。讓我們共同期待超高速灰度光刻技術(shù)帶來(lái)的美好未來(lái)!

Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)造工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻無(wú)掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標(biāo)準(zhǔn)材料。所打印的亞微米級(jí)別分辨率器件具有特別高的形狀精度,屬于目前市場(chǎng)上易于操作的“負(fù)膠”。IP樹(shù)脂作為高效的打印材料,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對(duì)優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級(jí)配套軟件,從而簡(jiǎn)化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計(jì)迭代周期,包括仿生表面,微光學(xué)元件,機(jī)械超材料和3D細(xì)胞支架等。Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技(上海)有限公司為您詳細(xì)講解灰度光刻技術(shù)。

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該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)(2PP)的專業(yè)激光直寫系統(tǒng),可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設(shè)計(jì)自由度。Quantum X shape可實(shí)現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進(jìn)行高精度3D微納加工。這種效率的提升對(duì)于晶圓級(jí)批量生產(chǎn)尤其重要,這對(duì)于科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域應(yīng)用有著重大意義。全新Quantum X shape作為Nanoscribe工業(yè)級(jí)無(wú)掩膜光刻系統(tǒng)Quantum X產(chǎn)品系列的第二臺(tái)設(shè)備,可實(shí)現(xiàn)在25 cm2面積內(nèi)打印任何結(jié)構(gòu),很大程度推動(dòng)了生命科學(xué),微流體,材料工程學(xué)中復(fù)雜應(yīng)用的快速原型制作。Quantum X shape作為具備光敏樹(shù)脂自動(dòng)分配功能的直立式打印系統(tǒng),非常適合標(biāo)準(zhǔn)6英寸晶圓片工業(yè)批量加工制造。雙光子灰度光刻技術(shù)將灰度光刻的高性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結(jié)合。北京2GL灰度光刻技術(shù)

灰度光刻技術(shù)還可以與其他先進(jìn)技術(shù)相結(jié)合,如直接激光寫入(Direct Laser Writing)等。江蘇灰度光刻系統(tǒng)

   Nanoscribe是卡爾斯魯厄理工學(xué)院(KIT)的子公司,開(kāi)發(fā)并提供用于納米、微米和中尺度的3D打印機(jī)以及光敏材料和工藝解決方案。其口號(hào)是:“我們讓小物件變得重要”,公司創(chuàng)始人開(kāi)發(fā)出一種技術(shù),對(duì)智能手機(jī)、手持設(shè)備和醫(yī)療技術(shù)領(lǐng)域至關(guān)重要的3D打印產(chǎn)品。通過(guò)基于雙光子聚合(2PP)的3D打印機(jī)投入市場(chǎng),他們已經(jīng)為全球的大學(xué)和新興行業(yè)提供了新的解決方案,致力于3D微打印生命科學(xué)研究以及納米級(jí)3D打印光學(xué),甚至利用他們的技術(shù)來(lái)開(kāi)發(fā)創(chuàng)新的設(shè)備,例如用于類固醇洗脫的3D微支架人工耳蝸。根據(jù)Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼CSOMichaelThiel博士的說(shuō)法,“Beer's定律對(duì)當(dāng)今的無(wú)掩模光刻設(shè)備施加了強(qiáng)大的限制,QuantumX采用雙光子灰度光刻技術(shù),克服了這些限制,提供了前所未有的設(shè)計(jì)自由度和易用性,我們的客戶正在微加工的前沿工作?!凹{米標(biāo)記系統(tǒng)基于雙光子吸收,這是一種分子被激發(fā)到更高能態(tài)的過(guò)程。江蘇灰度光刻系統(tǒng)