重慶高分辨率無掩膜光刻三維微納米加工系統(tǒng)

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上分辨率非常高的3D無掩模光刻技術，用于快速，精度非常高的微納加工，可以輕松3D微納光學制作?？梢源钆洳煌幕?，包括玻璃，硅晶片，光子和微流控芯片等，也可以實現(xiàn)芯片和光纖上直接打印。我們的3D微納加工技術可以滿足您對于制作亞微米分辨率和毫米級尺寸的復雜微機械元件的要求。3D設計的多功能性對于制作復雜且響應迅速的高精度微型機械，傳感器和執(zhí)行器是至關重要的?；陔p光子聚合原理的激光直寫技術，可適用于您的任何新穎創(chuàng)意的快速原型制作；也適合科學家和工程師們在無需額外成本增加的前提下，實現(xiàn)不同參數(shù)的創(chuàng)新3D結構的制作。在無掩膜光刻中，輻射轉(zhuǎn)移通常將時間常數(shù)掩模的圖像投射到光敏乳劑（或光刻膠）上。重慶高分辨率無掩膜光刻三維微納米加工系統(tǒng)

Nanoscribe帶領全球高精度微納米3D打印。Nanoscribe是德國高精度雙光子微納加工系統(tǒng)生產(chǎn)商，擁有多項專項技術，為全球客戶提供整套硬件，軟件，打印材料和解決方案一站式服務。Nanoscribe是德國高精度雙光子微納加工系統(tǒng)生產(chǎn)商，擁有多項專項技術，為全球客戶提供整套硬件，軟件，打印材料和解決方案一站式服務。它的雙光子聚合技術具有極高設計自由度和超高精度的特點，結合具備生物兼容特點的光敏樹脂和生物材料，開發(fā)并制作真正意義上的高精度3D微納結構，適用于生命科學領域的應用，如設計和定制微型生物醫(yī)學設備的原型制作。借助Nanoscribe的3D微納加工技術，您可以實現(xiàn)亞細胞結構的三維成像，適用于細胞研究和芯片實驗室應用（lab-on-a-chip）海南無掩膜光刻技術3D打印無掩膜光刻技術在制造新型電子元件和結構方面具有很大的潛力。

作為基于雙光子聚合技術（2PP）的微細加工領域市場帶領者，Nanoscribe在全球30多個國家擁有各科領域的客戶群體?！拔覀?yōu)槲覀儞碛刑貏e先進的2PP技術而感到自豪，憑借我們的技術支持，我們的客戶實現(xiàn)了一個又一個突破性創(chuàng)新想法。我們是一家充滿活力、屢獲殊榮的公司，與客戶保持良好密切的合作關系是我們保持優(yōu)于市場地位的關鍵”Nanoscribe聯(lián)合創(chuàng)始人兼首席執(zhí)行官MartinHermatschweiler表示?；?PP微納加工技術方面的專業(yè)知識，Nanoscribe為前列科學研究和工業(yè)創(chuàng)新提供強大的技術支持，并推動生物打印、微流體、微納光學、微機械、生物醫(yī)學工程和集成光子學技術等不同領域的發(fā)展

Nanoscribe的雙光子聚合技術具有極高設計自由度和超高精度的特點，結合具備生物兼容特點的光敏樹脂和生物材料，開發(fā)并制作真正意義上的高精度3D微納結構，適用于生命科學領域的應用，如設計和定制微型生物醫(yī)學設備的原型制作。Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產(chǎn)生幾乎任何3D形狀：晶格、木堆型結構、自由設計的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結構。PhotonicProfessionalGT2結合了設計的靈活性和操控的簡潔性，以及比較廣的材料-基板選擇。因此，它是一個理想的科學儀器和工業(yè)快速成型設備，適用于多用戶共享平臺和研究實驗室。Nanoscribe的3D無掩模光刻機目前已經(jīng)分布在30多個國家的前沿研究中，超過1,000個開創(chuàng)性科學研究項目是這項技術強大的設計和制造能力特別好的證明。歡迎咨詢我們的無掩膜光刻寫技術精細可靠，保證產(chǎn)品質(zhì)量和穩(wěn)定性。

Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX，適用于制造微光學衍射以及折射元件。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX，適用于制造微光學衍射以及折射元件。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術，斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學研究中心的科學家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡。將12050微米直徑的微光學器件直接打印在光纖上，構建了一款功能齊全的超薄像差校正光學相干斷層掃描探頭。這是迄今有報道的尺寸低值排名優(yōu)先的自由曲面3D成像探頭，包括導管鞘在內(nèi)的直徑只為0.457mm。歡迎咨詢無掩膜光刻技術可在各種材質(zhì)表面制造微結構。湖北高分辨率無掩膜光刻三維微納米加工系統(tǒng)

無掩膜光刻技術是微納制造領域的未來方向。重慶高分辨率無掩膜光刻三維微納米加工系統(tǒng)

由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度，屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領域的設計迭代周期，包括仿生表面，微光學元件，機械超材料和3D細胞支架等。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術，斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學研究中心的科學家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡。將12050微米直徑的微光學器件直接打印在光纖上，構建了一款功能齊全的超薄像差校正光學相干斷層掃描探頭。這是迄今有報道的尺寸低值排名優(yōu)先的自由曲面3D成像探頭，包括導管鞘在內(nèi)的直徑只為mm。重慶高分辨率無掩膜光刻三維微納米加工系統(tǒng)