北京微納米無掩膜光刻系統(tǒng)

來源: 發(fā)布時間:2024-03-16

世界上頭一臺雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)QuantumX實現(xiàn)了2D和2.5D微納結(jié)構(gòu)的增材制造。該無掩模光刻系統(tǒng)將灰度光刻的出色性能與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)的精度和靈活性相結(jié)合,從而達到亞微米分辨率并實現(xiàn)對體素大小的超快控制,自動化打印以及特別高的形狀精度和光學(xué)質(zhì)量表面。高精度的增材制造可打印出頂端的折射微納光學(xué)元件。得益于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術(shù)所具有的設(shè)計自由度和光學(xué)質(zhì)量的特點,您可以進行幾乎任何形狀,包括球形,非球形或者自由曲面和混合的創(chuàng)新設(shè)計。歡迎咨詢。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司帶您了解無掩膜光刻技術(shù)相關(guān)信息。北京微納米無掩膜光刻系統(tǒng)

北京微納米無掩膜光刻系統(tǒng),無掩膜光刻

Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)把雙光子聚合技術(shù)融入強大了3D打印工作流程,實現(xiàn)了各種不同的打印方案。雙光子聚合技術(shù)用于3D微納結(jié)構(gòu)的增材制造,可以通過激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復(fù)雜的光刻步驟來創(chuàng)建3D和2.5D微結(jié)構(gòu)制作。PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)可以實現(xiàn)精度上限的3D打印,突破了微納米制造的限制。該打印系統(tǒng)的易用性和靈活性的特點配以比較廣的打印材料選擇使其成為理想的實驗研究儀器和多用戶設(shè)施。我們的3D微納加工技術(shù)可以滿足您對于制作亞微米分辨率和毫米級尺寸的復(fù)雜微機械元件的要求。3D設(shè)計的多功能性對于制作復(fù)雜且響應(yīng)迅速的高精度微型機械,傳感器和執(zhí)行器是至關(guān)重要的河南2PP無掩膜光刻3D打印我們提供高精度無掩膜光刻寫服務(wù),確保圖案清晰無模糊。

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高精度的增材制造可打印出頂端的折射微納光學(xué)元件。得益于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術(shù)所具有的設(shè)計自由度和光學(xué)質(zhì)量的特點,您可以進行幾乎任何形狀,包括球形,非球形或者自由曲面和混合的創(chuàng)新設(shè)計。另外,Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)所具有的高設(shè)計自由度,可以在各種預(yù)先構(gòu)圖的基板上實現(xiàn)波導(dǎo)和混合折射衍射光學(xué)器件等3D微納加工制作。結(jié)合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng),可以按設(shè)計需要精確地集成復(fù)雜的微納結(jié)構(gòu)。由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標(biāo)準(zhǔn)材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級配套軟件,從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計迭代周期,包括仿生表面,微光學(xué)元件,機械超材料和3D細胞支架等。歡迎咨詢

作為基于雙光子聚合技術(shù)(2PP)的微細加工領(lǐng)域市場帶領(lǐng)者,Nanoscribe在全球30多個國家擁有各科領(lǐng)域的客戶群體。“我們?yōu)槲覀儞碛刑貏e先進的2PP技術(shù)而感到自豪,憑借我們的技術(shù)支持,我們的客戶實現(xiàn)了一個又一個突破性創(chuàng)新想法。我們是一家充滿活力、屢獲殊榮的公司,與客戶保持良好密切的合作關(guān)系是我們保持優(yōu)于市場地位的關(guān)鍵”Nanoscribe聯(lián)合創(chuàng)始人兼首席執(zhí)行官MartinHermatschweiler表示?;?PP微納加工技術(shù)方面的專業(yè)知識,Nanoscribe為前列科學(xué)研究和工業(yè)創(chuàng)新提供強大的技術(shù)支持,并推動生物打印、微流體、微納光學(xué)、微機械、生物醫(yī)學(xué)工程和集成光子學(xué)技術(shù)等不同領(lǐng)域的發(fā)展無掩膜光刻系統(tǒng)可以實現(xiàn)非常高的加工精度和分辨率,適用于微米和納米級別的加工要求。

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集成光子學(xué)可較廣地應(yīng)用于各種領(lǐng)域,例如數(shù)據(jù)通訊,激光雷達系統(tǒng)的自動駕駛技術(shù)和YL領(lǐng)域中的移動感應(yīng)設(shè)備等。而光子集成電路這項關(guān)鍵技術(shù),尤其是微型光子組件應(yīng)用,可以很大程度縮小復(fù)雜光學(xué)系統(tǒng)的尺寸并降低成本。光子集成電路的關(guān)鍵技術(shù)還在于連接接口,例如光纖到芯片的連接,可以有效提高集成度和功能性。類似于這種接口的制造非常具有挑戰(zhàn)性,需要權(quán)衡對準(zhǔn)、效率和寬帶方面的種種要求。針對這些困難,科學(xué)家們提出了寬帶光纖耦合概念,并通過Nanoscribe的雙光子微納3D打印設(shè)備而制造的3D耦合器得以實現(xiàn)。無掩膜光刻技術(shù)可降低微納制造的成本。河南2PP無掩膜光刻3D打印

無掩膜光刻技術(shù)可大幅提高芯片制造效率。北京微納米無掩膜光刻系統(tǒng)

由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標(biāo)準(zhǔn)材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級配套軟件,從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計迭代周期,包括仿生表面,微光學(xué)元件,機械超材料和3D細胞支架等。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù),斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心的科學(xué)家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡。北京微納米無掩膜光刻系統(tǒng)