北京微流道增材制造Photonic Professional GT

來源: 發(fā)布時間:2024-01-13

Nanoscribe的Photonic Professional GT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性,可以實現(xiàn)微機械元件的制作,例如用光敏聚合物,納米顆粒復合物,或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人,并可以選擇添加金屬涂層。此外,微納米器件也可以直接打印在不同的基材上,甚至可以直接打印于微機電系統(tǒng)(MEMS)。雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件(DOE),并且滿足DOE納米結(jié)構(gòu)表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。由于需要多次光刻,刻蝕和對準工藝,衍射光學元件(DOE)的傳統(tǒng)制造耗時長且成本高。增材制造技術(shù)通過3D打印將數(shù)字設計轉(zhuǎn)化為現(xiàn)實物體。北京微流道增材制造Photonic Professional GT

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   QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng),用于快速原型制作和晶圓級批量生產(chǎn),以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領域的潛力。作為2019年推出的頭一臺雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)QuantumX的同系列產(chǎn)品,QuantumXshape提升了3D微納加工能力,即完美平衡精度和速度以實現(xiàn)高精度增材制造,以達到比較高水平的生產(chǎn)力和打印質(zhì)量。作為一款真正意義上的全能機型,該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)(2PP)的專業(yè)激光直寫系統(tǒng),可為亞微米精度的。廣東TPP增材制造無掩膜激光直寫更多增材制造的信息,請咨詢Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技(上海)有限公司。

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   Nanoscribe是一家德國雙光子增材制造系統(tǒng)制造商,2019年6月25日,南極熊從外媒獲悉,該公司近日推出了一款新型的機器QuantumX。該系統(tǒng)使用雙光子光刻技術(shù)制造納米尺寸的折射和衍射微光學元件,其尺寸可小至200微米。根據(jù)Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼CSOMichaelThiel博士的說法,“Beer's定律對當今的無掩模光刻設備施加了強大的限制,QuantumX采用雙光子灰度光刻技術(shù),克服了這些限制,提供了前所未有的設計自由度和易用性,我們的客戶正在微加工的前沿工作。

Nanoscribe的Photonic Professional GT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性,可以實現(xiàn)微機械元件的制作,例如用光敏聚合物,納米顆粒復合物,或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人,并可以選擇添加金屬涂層。此外,微納米器件也可以直接打印在不同的基材上,甚至可以直接打印于微機電系統(tǒng)(MEMS)。雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件(DOE),并且滿足DOE納米結(jié)構(gòu)表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。由于需要多次光刻,刻蝕和對準工藝,衍射光學元件(DOE)的傳統(tǒng)制造耗時長且成本高增材制造技術(shù)正在推動制造業(yè)的數(shù)字化轉(zhuǎn)型和創(chuàng)新。

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雖然半導體行業(yè)一直在使用3D打印技術(shù),我們可能會有一個疑問,為什么我們沒有聽說,一個因素是競爭。如果全球只有四個龐大的大型公司,它們構(gòu)成了光刻或制造機器的主要部分,那么這些公司并沒有告訴外界關于他們應用3D打印技術(shù)的內(nèi)幕,因為他們想確保的競爭優(yōu)勢。至少,對外界揭示其優(yōu)化設備性能的技術(shù),這種主觀動機并不強。增材制造改善半導體工藝是多方面的,從輕量化,到隨形冷卻,再到結(jié)構(gòu)一體化實現(xiàn),根據(jù)3D科學谷的市場觀察,增材制造使得半導體設備中的零件性能邁向了一個新的進化時代!在許多情況下,3D打印-增材制造可能使這些系統(tǒng)能夠更接近理論上預期的工作環(huán)境,而不是在機器操作上做出妥協(xié)。增材制造有助于提高制造效率和降低成本。上海高精度增材制造激光直寫

增材制造在生活中應用。北京微流道增材制造Photonic Professional GT

   Nanoscribe是一家德國雙光子增材制造系統(tǒng)制造商,它推出了一種新型機器QuantumX.新的系統(tǒng)使用雙光子光刻技術(shù)制造納米尺寸的折射和衍射微光學元件,其尺寸可小至200微米。根據(jù)Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼CSOMichaelThiel博士的說法,“Beer's定律對當今的無掩模光刻設備施加了強大的限制。QuantumX采用雙光子灰度光刻技術(shù),克服了這些限制,提供了前所未有的設計自由度和易用性。我們的客戶正在微加工的**前沿工作?!癗anoscribe成立于卡爾斯魯厄理工學院,現(xiàn)在在上海設有子公司,在美國設有辦事處。該公司在德國歷史特別悠久,規(guī)模比較大的光學系統(tǒng)制造商之一蔡司財務的支持。納米標記系統(tǒng)基于雙光子吸收,這是一種分子被激發(fā)到更高能態(tài)的過程。北京微流道增材制造Photonic Professional GT