微流道增材制造Quantum X shape

為了制作由3D工程細胞微環(huán)境制成的體外細胞培養(yǎng)物，科學家們利用雙光子聚合技術（2PP）來制造模擬腦血管幾何形狀的仿生3D支架，該仿生幾何結構影響膠質母細胞瘤細胞及其定植機制。在該實驗中，細胞可以在定制3D支架幾何結構的引導下以受控方式生長。只有在強聚焦的激光焦點處才能發(fā)生雙光子吸收的光聚合反應可實現(xiàn)在亞微米范圍內(nèi)打印極其精細的3D特征結構。此外，這種增材制造技術可在微米級別實現(xiàn)高度三維設計自由度，并以比較高精度模擬三維細胞微環(huán)境。增材制造技術，行業(yè)創(chuàng)新。微流道增材制造Quantum X shape

   Nanoscribe成立于2007年，作為卡爾斯魯厄理工學院研究小組的分拆，目前，Nanoscribe已經(jīng)成為納米和微米3D打印的出名企業(yè)，并且在許多項目上都有所作為。Nanoscribe的激光光刻系統(tǒng)用于3D打印世界上特別小的強度高的3D晶格結構，它使用高精度激光來固化光刻膠中具有小至千分之一毫米特征的結構。換句話說，激光使基于液體的材料的小液滴內(nèi)部的特定層硬化。為了進一步適應日益增長的業(yè)務，Nanoscribe還宣布將把設施搬遷到KIT投資3000萬歐元的蔡司創(chuàng)新中心。此舉將于2019年底舉行，將有助于推動微型3D打印領域的更多創(chuàng)新。Hermatschweiler補充說：“通過這個創(chuàng)新中心能夠與KIT靠的更近，卡爾斯魯厄不斷為Nanoscribe等公司提供創(chuàng)新和成功發(fā)展的理想環(huán)境?！監(jiān)RNL的科學家們使用Nanoscribe的增材制造系統(tǒng)來構建世界上特別小的指尖陀螺，該迷你玩具的寬度只為100微米（與人類頭發(fā)的寬度相當）。除了用于無線技術，Nanoscribe的3D打印技術還可用于制造高精度的光學微透鏡，衍射光學元件，用于生物打印的納米級支架等等。增材制造（AdditiveManufacturing，AM）俗稱3D打印，融合了計算機輔助設計、材料加工與成型技術、以數(shù)字模型文件為基礎。海南MEMS增材制造增材制造技術可用于快速原型制造和生產(chǎn)。

Nanoscribe 將在未來進一步擴大產(chǎn)品組合實現(xiàn)多樣化，以滿足不用客戶群的需求。Nanoscribe作為一家納米，微米和中尺度高精度結構增材制造**，一直致力于開發(fā)和生產(chǎn)3D 微納加工系統(tǒng)和無掩模光刻系統(tǒng)，以及自研發(fā)的打印材料和特定應用不同解決方案。Nanoscribe成立于 2007 年，是卡爾斯魯厄理工學院 (KIT) 的衍生公司。在全球前列大學和創(chuàng)新科技企業(yè)的中，有超過2,500 多名用戶在使用我們突破性的 3D 微納加工技術和定制應用解決方案。 Nanoscribe 憑借其過硬的技術背景和市場敏銳度奠定了其市場的主導地位，并以高標準來要求自己以滿足客戶的需求

增材制造（AM）技術又稱為快速原型、快速成形、快速制造、3D打印技術等，是指基于離散-堆積原理，由零件三維數(shù)據(jù)驅動直接制造零件的科學技術體系?；诓煌姆诸愒瓌t和理解方式，增材制造技術的內(nèi)涵仍在不斷深化，外延也不斷擴展。增材制造技術不需要傳統(tǒng)的刀具和夾具以及復雜的加工工序，在一臺設備上可快速精密地制造出任意復雜形狀的零件，從而實現(xiàn)了零件“自由制造”，解決了許多復雜結構零件的成形，并**減少了加工工序，縮短了加工周期，而且產(chǎn)品結構越復雜，其制造速度的作用就越明顯。3D打印技術可用于制造輕量化零部件。

Nanoscribe的Photonic Professional GT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實現(xiàn)微機械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復合物，或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機電系統(tǒng)（MEMS）。雙光子灰度光刻技術可以一步實現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件（DOE），并且滿足DOE納米結構表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。由于需要多次光刻，刻蝕和對準工藝，衍射光學元件（DOE）的傳統(tǒng)制造耗時長且成本高.增材制造在生活中應用。科研增材制造三維光刻

Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司帶您了解增材制造的特性。微流道增材制造Quantum X shape

   Nanoscribe是一家德國雙光子增材制造系統(tǒng)制造商，它推出了一種新型機器QuantumX.新的系統(tǒng)使用雙光子光刻技術制造納米尺寸的折射和衍射微光學元件，其尺寸可小至200微米。根據(jù)Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼CSOMichaelThiel博士的說法，“Beer's定律對當今的無掩模光刻設備施加了強大的限制。QuantumX采用雙光子灰度光刻技術，克服了這些限制，提供了前所未有的設計自由度和易用性。我們的客戶正在微加工的**前沿工作?！癗anoscribe成立于卡爾斯魯厄理工學院，現(xiàn)在在上海設有子公司，在美國設有辦事處。該公司在德國歷史特別悠久，規(guī)模比較大的光學系統(tǒng)制造商之一蔡司財務的支持。納米標記系統(tǒng)基于雙光子吸收，這是一種分子被激發(fā)到更高能態(tài)的過程。微流道增材制造Quantum X shape